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高密度PCB设计给阻焊曝光带来的挑战——新设计和新设备的研究与应用
被引量:
1
1
作者
吕小伟
《印制电路信息》
2011年第4期203-213,共11页
随着PCB向着高密集线和高精细度的方向发展,高密度设计的生产板也越来越来越多,这就给阻焊工序的生产尤其是阻焊对位曝光工段的生产带来了很大的挑战,现通过优化工具设计、规范工具管控、引入新功能设备、与设备商开发新设备来解决高密...
随着PCB向着高密集线和高精细度的方向发展,高密度设计的生产板也越来越来越多,这就给阻焊工序的生产尤其是阻焊对位曝光工段的生产带来了很大的挑战,现通过优化工具设计、规范工具管控、引入新功能设备、与设备商开发新设备来解决高密度板在阻焊工序所遇到的挑战,最终成功实现了量产应用。
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关键词
高对位精度
阻焊开窗
对位
曝光
散射光
平行光
分区曝光
激光直接成像
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职称材料
题名
高密度PCB设计给阻焊曝光带来的挑战——新设计和新设备的研究与应用
被引量:
1
1
作者
吕小伟
机构
上海美维电子有限公司
出处
《印制电路信息》
2011年第4期203-213,共11页
文摘
随着PCB向着高密集线和高精细度的方向发展,高密度设计的生产板也越来越来越多,这就给阻焊工序的生产尤其是阻焊对位曝光工段的生产带来了很大的挑战,现通过优化工具设计、规范工具管控、引入新功能设备、与设备商开发新设备来解决高密度板在阻焊工序所遇到的挑战,最终成功实现了量产应用。
关键词
高对位精度
阻焊开窗
对位
曝光
散射光
平行光
分区曝光
激光直接成像
Keywords
High registration
SM open
Registrations Exposure
Scattered UV
Parallel UV
Partial Exposure
LDI
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
高密度PCB设计给阻焊曝光带来的挑战——新设计和新设备的研究与应用
吕小伟
《印制电路信息》
2011
1
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