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气压和偏流对高掺硼金刚石晶体性质的影响(英文)
被引量:
1
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作者
贾福超
白亦真
+3 位作者
屈芳
孙剑
赵纪军
姜辛
《新型炭材料》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期357-362,共6页
采用热丝化学气相沉积法,改变工作气压和偏流,在硅基片上沉积了高掺硼金刚石膜。利用扫描电镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射仪对沉积的金刚石膜表面形貌和结构进行表征。结果显示:当气体压强从3kPa降低到1.5kPa时,金刚石膜有较平的表面形...
采用热丝化学气相沉积法,改变工作气压和偏流,在硅基片上沉积了高掺硼金刚石膜。利用扫描电镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射仪对沉积的金刚石膜表面形貌和结构进行表征。结果显示:当气体压强从3kPa降低到1.5kPa时,金刚石膜有较平的表面形貌和和较好的晶形,薄膜的晶体性质得到良好的改善。但是继续降气体压强,从1.5kPa到0.5kPa时,却呈现出相反的趋势。固定气体压强(1.5kPa),改变偏流,结果表明:适当的偏流(3A)可以改善掺硼金刚石的质量,偏流较高会导致薄膜中非金刚石相增多。
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关键词
高掺硼金刚石膜
气体压强
偏流
热灯丝化学气相沉积
扫描电镜
X射线衍射仪
拉曼光谱
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职称材料
题名
气压和偏流对高掺硼金刚石晶体性质的影响(英文)
被引量:
1
1
作者
贾福超
白亦真
屈芳
孙剑
赵纪军
姜辛
机构
大连理工大学物理与光电工程学院
大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室
锡根大学材料工程研究所
出处
《新型炭材料》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期357-362,共6页
基金
supported by the 973 Program(Grant No.2008CB617614)~~
文摘
采用热丝化学气相沉积法,改变工作气压和偏流,在硅基片上沉积了高掺硼金刚石膜。利用扫描电镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射仪对沉积的金刚石膜表面形貌和结构进行表征。结果显示:当气体压强从3kPa降低到1.5kPa时,金刚石膜有较平的表面形貌和和较好的晶形,薄膜的晶体性质得到良好的改善。但是继续降气体压强,从1.5kPa到0.5kPa时,却呈现出相反的趋势。固定气体压强(1.5kPa),改变偏流,结果表明:适当的偏流(3A)可以改善掺硼金刚石的质量,偏流较高会导致薄膜中非金刚石相增多。
关键词
高掺硼金刚石膜
气体压强
偏流
热灯丝化学气相沉积
扫描电镜
X射线衍射仪
拉曼光谱
Keywords
Highly boron-doped diamond film
Gas pressures
Bias currents
HFCVD
SEM
XRD
Raman
分类号
TQ164 [化学工程—高温制品工业]
O484.4 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
气压和偏流对高掺硼金刚石晶体性质的影响(英文)
贾福超
白亦真
屈芳
孙剑
赵纪军
姜辛
《新型炭材料》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
1
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职称材料
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