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气压和偏流对高掺硼金刚石晶体性质的影响(英文) 被引量:1
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作者 贾福超 白亦真 +3 位作者 屈芳 孙剑 赵纪军 姜辛 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期357-362,共6页
采用热丝化学气相沉积法,改变工作气压和偏流,在硅基片上沉积了高掺硼金刚石膜。利用扫描电镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射仪对沉积的金刚石膜表面形貌和结构进行表征。结果显示:当气体压强从3kPa降低到1.5kPa时,金刚石膜有较平的表面形... 采用热丝化学气相沉积法,改变工作气压和偏流,在硅基片上沉积了高掺硼金刚石膜。利用扫描电镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射仪对沉积的金刚石膜表面形貌和结构进行表征。结果显示:当气体压强从3kPa降低到1.5kPa时,金刚石膜有较平的表面形貌和和较好的晶形,薄膜的晶体性质得到良好的改善。但是继续降气体压强,从1.5kPa到0.5kPa时,却呈现出相反的趋势。固定气体压强(1.5kPa),改变偏流,结果表明:适当的偏流(3A)可以改善掺硼金刚石的质量,偏流较高会导致薄膜中非金刚石相增多。 展开更多
关键词 高掺硼金刚石膜 气体压强 偏流 热灯丝化学气相沉积 扫描电镜 X射线衍射仪 拉曼光谱
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