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核苷酸的电解致酸脱保护研究
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作者 周安存 《化工时刊》 CAS 2004年第7期31-33,共3页
对电致酸脱保护寡核苷酸原位合成体系的溶液性质进行了研究 ,确定了电解致酸脱保护体系的优化溶液组成 ,发现选择弱酸HW、电解电位 2V和 0 .1mol/L高氯酸四乙基胺可获得理想的实验结果。
关键词 核苷酸 电解 脱保护 氢离子富集 高氯酸四乙基胺 生物芯片
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