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核苷酸的电解致酸脱保护研究
1
作者
周安存
《化工时刊》
CAS
2004年第7期31-33,共3页
对电致酸脱保护寡核苷酸原位合成体系的溶液性质进行了研究 ,确定了电解致酸脱保护体系的优化溶液组成 ,发现选择弱酸HW、电解电位 2V和 0 .1mol/L高氯酸四乙基胺可获得理想的实验结果。
关键词
核苷酸
电解
脱保护
氢离子富集
高氯酸四乙基胺
生物芯片
下载PDF
职称材料
题名
核苷酸的电解致酸脱保护研究
1
作者
周安存
机构
湖南中医药高等专科学校
出处
《化工时刊》
CAS
2004年第7期31-33,共3页
文摘
对电致酸脱保护寡核苷酸原位合成体系的溶液性质进行了研究 ,确定了电解致酸脱保护体系的优化溶液组成 ,发现选择弱酸HW、电解电位 2V和 0 .1mol/L高氯酸四乙基胺可获得理想的实验结果。
关键词
核苷酸
电解
脱保护
氢离子富集
高氯酸四乙基胺
生物芯片
Keywords
nucleic Acid electrolysis deprotection
分类号
O646 [理学—物理化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
核苷酸的电解致酸脱保护研究
周安存
《化工时刊》
CAS
2004
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