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高温淬火对GaAs中深施主缺陷的影响
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作者 杨瑞霞 刘力锋 郭惠 《河北工业大学学报》 CAS 2001年第1期67-69,共3页
研究了１ １２０℃ 高温淬火对非掺杂半绝缘ＬＥＣＧａＡＳ中 ＥＬ２浓度的影响．发现真空条件Ｔ，在１１２０℃热处理２ｈ～８ｈ并快速冷却后，样品中ＥＬ２浓度下降近一个数量级，提高高温过程中的 ＡＳ压，可抑制 ＥＬ２浓度的大幅... 研究了１ １２０℃ 高温淬火对非掺杂半绝缘ＬＥＣＧａＡＳ中 ＥＬ２浓度的影响．发现真空条件Ｔ，在１１２０℃热处理２ｈ～８ｈ并快速冷却后，样品中ＥＬ２浓度下降近一个数量级，提高高温过程中的 ＡＳ压，可抑制 ＥＬ２浓度的大幅下降． 展开更多
关键词 非掺杂半绝缘LECGaAs 高温粹火 EL2浓度 AS压 砷化镓 深施主缺陷 集成电路 砷压
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