电参数对高稀土镁合金微弧氧化膜的影响

在硅酸盐体系中,采用恒压模式对高稀土镁合金进行微弧氧化获得陶瓷膜防护涂层。通过正交试验,以陶瓷膜的耐腐蚀性和腐蚀电流密度为评价指标,对硅酸盐体系电参数工艺进行了研究,得到最佳电参数工艺为:频率800 Hz,正电压为500 V,负电压为250 V,占空比为20%,氧化时间为15 min,其中正电压对微弧氧化膜的影响程度最大。用扫描电镜分析了最佳工艺参数下的表面形貌和腐蚀后的表面形貌。结果表明:采用双极性非对称脉冲电源所得到的微弧氧化膜表面形貌只存在显微孔而不存在微裂纹,在腐蚀过程中点蚀拓展阻力比较大,提高了耐蚀性。

高稀土镁合金微弧氧化电解液工艺研究

通过微弧氧化进行镁合金表面防护处理。经过分析,采用阶梯降压法控制工艺参数,对电解液各个参数进行正交试验,并通过中性盐雾试验得到的腐蚀面积比例和金相观察的膜层厚度作为指标进行极差分析,以得出最优电解液配比,然后通过OM、XRD和扫描电镜膜层厚度、相组成以及表面形貌进行分析。结果发现,当选取电压为550、500、450V(采用阶梯降压法下的电压控制制度),负电压为250V,占空比为20%,氧化时间为50min时,通过极差分析可以得出最优电解液配比:硅酸钠为20g/L,四硼酸钠为40g/L,NaOH为20g/L,络合剂(柠檬酸钠)为15g/L,三乙醇胺为15mL/L,醋酸镍为0.12g/L,其中对成膜影响最大的是硅酸钠。由XRD和EDS分析可知,氧化层主要由尖晶石相六方密堆结构的Mg2SiO4、立方结构的MgO、MgSiO_3、MgCO_3以及Ni_2O_3相等组成,同时含有少量的Na、Gd等元素。

高稀土镁合金微弧氧化工艺参数的优化

为了解决高稀土镁合金耐蚀性较差的问题,通过微弧氧化进行镁合金表面处理,以提高其耐蚀性能。对于采用的微弧氧化工艺,采用阶梯降压法控制氧化膜层形成各阶段的能量,并对各个工艺参数进行正交试验。通过OM、XRD和扫描电镜等手段,对正交试验各组进行膜层厚度、相组成以及表面形貌分析,在电解液配方:硅酸钠为15g/L,四硼酸钠为30g/L,NaOH为20g/L,三乙醇胺为15mL/L,醋酸镍为0.12g/L,络合剂(柠檬酸钠)为5g/L的前提下,通过极差分析得出最优工艺参数。

Gd含量对Mg-Nd-Y-Zn合金组织和耐腐蚀性能影响

通过OM(金相观察)、失重法以及电化学等方法研究了Gd对高稀土镁合金Mg-Nd-Y-Zn铸态组织和耐蚀性能的影响。结果表明,随着稀土元素Gd含量增加到3.0%时,在合金晶界上呈不连续网状结构分布的第二相和在α-Mg中均匀分布的弥散颗粒状析出相增加,晶粒尺寸达到最小;盐雾试验测得合金的耐腐蚀速率最小,为0.217mg·cm^(-2)·h^(-1),腐蚀电流密度最小,腐蚀电位最高。