高纯四氟化硅中金属杂质及硫化氢的测定研究

研究了高纯四氟化硅中金属杂质的电感耦合等离子质谱仪(ICP-MS)检测方法和硫化氢杂质的离子色谱(IC)检测法进行研究,结果表明,高纯四氟化硅中金属离子含量的RSD在1.41%~2.62%,回收率在96.46%~100.2%;H_(2)S的RSD在1.42%,回收率在93.6%~92.3%,均满足RSD<3%,回收率在80%~120%的要求。该方法具有高精确度、高灵敏度、低成本等优点,可为高纯四氟化硅的纯化工艺研发及产业化提供可靠的工作基础。