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ICP-MS法测定氢氧化钽中Mg,Fe,Cr,Zn 4种杂质
被引量:
1
1
作者
郝红梅
张峻峰
杨丽明
《稀有金属快报》
CSCD
2007年第5期40-42,共3页
研究了直接采用ICP-MS的等离子体屏蔽技术(PS)测定高纯氢氧化钽中Mg,Fe,Cr,Zn 4种杂质元素的分析方法。实验了的仪器工作参数,用Co做内标补偿基体效应,方法的回收率在80%~130%之间,相对标准偏差均低于18.40%,检出限为0.01ng/ml~0.56ng...
研究了直接采用ICP-MS的等离子体屏蔽技术(PS)测定高纯氢氧化钽中Mg,Fe,Cr,Zn 4种杂质元素的分析方法。实验了的仪器工作参数,用Co做内标补偿基体效应,方法的回收率在80%~130%之间,相对标准偏差均低于18.40%,检出限为0.01ng/ml~0.56ng/ml,测定结果与ICP-AES测定结果基本一致。
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关键词
ICP—MS
等离子体屏蔽技术(PS)
高纯氢氧化钽
镁铁铬锌杂质
下载PDF
职称材料
题名
ICP-MS法测定氢氧化钽中Mg,Fe,Cr,Zn 4种杂质
被引量:
1
1
作者
郝红梅
张峻峰
杨丽明
机构
宁夏东方钽业股份有限公司
出处
《稀有金属快报》
CSCD
2007年第5期40-42,共3页
文摘
研究了直接采用ICP-MS的等离子体屏蔽技术(PS)测定高纯氢氧化钽中Mg,Fe,Cr,Zn 4种杂质元素的分析方法。实验了的仪器工作参数,用Co做内标补偿基体效应,方法的回收率在80%~130%之间,相对标准偏差均低于18.40%,检出限为0.01ng/ml~0.56ng/ml,测定结果与ICP-AES测定结果基本一致。
关键词
ICP—MS
等离子体屏蔽技术(PS)
高纯氢氧化钽
镁铁铬锌杂质
Keywords
ICP-MS
plasma screen technology
high pure tantalum hydroxide
elements Mg, Fe, Cr, and Zn
分类号
O614.513 [理学—无机化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
ICP-MS法测定氢氧化钽中Mg,Fe,Cr,Zn 4种杂质
郝红梅
张峻峰
杨丽明
《稀有金属快报》
CSCD
2007
1
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职称材料
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