高纯氧化钨中微量杂质的ICP-MS法测定

报道了高纯氧化钨中铅、铋、镍、锰等微量杂质的电感耦合等离子体质谱测定方法。选择了仪器最佳操作参数,考察了质谱干扰和基体效应,选用标准加人法可克服基体效应。方法不经分离富集,各元素测量值与标准值相吻合,相对误差小于5％,方法快速、准确。

共沉淀分离富集-电感耦合等离子体原子发射光谱法测定高纯氧化钨中痕量金属杂质

提出了以Ｌａ（ＯＨ）３为共沉淀剂，对高纯氧化钨中的痕量金属杂质元素经共沉淀预分离富集后进行ＩＣＰ－ＡＥＳ测定的分析方法。探讨了影响杂质元素回收率和钨残留量的若干因素，确定了合适的分离富集条件。合成试样和标准样品的测试结果表明： Ｂｉ、Ｃａ、Ｃｄ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｔｉ等元素能被定量分离回收，回收率和精密度均令人满意。

用氨净化—热离解法制取高纯WO_3

将工业钨酸通过氨溶制得(NH_4)_2WO_4溶液,再将(NH_4)_2WO_4溶液蒸发得到的仲钨酸铵结晶,一次蒸发的仲钨酸铵又经热离解以改变其不溶于氨水的特性,再将热离解料氨溶,蒸发结晶。这样循环1～2次便可得到高纯度的三氧化钨。