期刊文献+
共找到7篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
ICP-AES测定高纯氧化钽中13种杂质元素 被引量:5
1
作者 任凤莲 张颖 《光谱实验室》 CAS CSCD 2003年第1期74-76,共3页
本文提出了基体匹配校准曲线 ,ICP-AES法直接测定高纯氧化钽中 1 3种杂质元素的分析方法 ,并考察了光谱干扰以及基体效应的影响 ,确定了仪器最佳工作条件。结果表明 :各元素的测定下限分别小于或等于0 .0 0 0 5 % ;相对标准偏差为 1 .8%... 本文提出了基体匹配校准曲线 ,ICP-AES法直接测定高纯氧化钽中 1 3种杂质元素的分析方法 ,并考察了光谱干扰以及基体效应的影响 ,确定了仪器最佳工作条件。结果表明 :各元素的测定下限分别小于或等于0 .0 0 0 5 % ;相对标准偏差为 1 .8%— 1 1 .3 % ;回收率为 92 %— 1 0 8%。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体-原子发射光谱法 高纯氧化钽 杂质元素
下载PDF
用N503二次萃取法制取高纯氧化钽 被引量:4
2
作者 万明远 《稀有金属与硬质合金》 CAS CSCD 2002年第2期19-22,共4页
以HF -H2 SO4 -仲辛醇钽铌萃取体系的工业级反钽液为原料 ,用N5 0 3+煤油 +改质剂A为萃取剂 ,在低酸条件下部分萃取 ,使部分钽被萃入有机相中 ,与铌及杂质进一步分离 ,在碱性条件下反萃取得高纯钽液 ,经中和、洗涤、烘干、煅烧获得高纯... 以HF -H2 SO4 -仲辛醇钽铌萃取体系的工业级反钽液为原料 ,用N5 0 3+煤油 +改质剂A为萃取剂 ,在低酸条件下部分萃取 ,使部分钽被萃入有机相中 ,与铌及杂质进一步分离 ,在碱性条件下反萃取得高纯钽液 ,经中和、洗涤、烘干、煅烧获得高纯氧化钽。 展开更多
关键词 N503 低酸部分萃取 高纯氧化钽
下载PDF
废钽回收制备高纯氧化钽的研究及应用
3
作者 李启厚 陈松 林耀民 《矿产保护与利用》 1999年第2期49-51,共3页
介绍了废钽回收制备高纯氧化钽的离子交换法、氯化精馏法、溶剂萃取法、草酸法、醇盐水解法等工艺方法的优缺点、选择的基本原则及工业应用。
关键词 高纯氧化钽 废物利用 电子工业
下载PDF
高纯氧化钽的研制 被引量:2
4
作者 胡益清 《稀有金属与硬质合金》 CAS CSCD 1994年第1期9-13,共5页
对液-液萃取法制取高纯Ta2O5粉进行了试验研究,结果表明,采用20%N503+30%仲辛醇+50%煤油-HF-H2SO4体系并采取有关防脏化措施可以生产出合格的高纯Ta2O5粉。
关键词 液-液萃取 氧化 高纯氧化钽
下载PDF
分光光度法测定高纯氧化铌(钽)中氟的研究 被引量:13
5
作者 马玉莉 《稀有金属与硬质合金》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期36-38,47,共4页
通过氢氧化钠熔融并用热水浸取高纯氧化铌(钽)试样,以二甲酚橙为显色剂,采用分光光度法检测试样中的氟含量。结果表明,该方法准确可靠,精度高,稳定性好,可满足对高纯氧化铌(钽)产品低含量氟的分析要求。
关键词 高纯氧化 高纯氧化钽 二甲酚橙
下载PDF
ICP-MS测定超高纯钽铌及其化合物中痕量杂质元素 被引量:19
6
作者 田孔泉 郝红梅 +3 位作者 张卫杰 李亚琴 伏军胜 杨丽明 《光谱实验室》 CAS CSCD 2004年第3期551-555,共5页
以 HF- HNO3 微波消解试样 ,直接用 ICP- MS测定高纯钽铌化合物中 19个杂质元素 ,选择了仪器的工作参数 ,考查了质谱干扰及基体干扰的情况 ,选择内标元素 Ga、In校正 ,克服了基体效应。检出限为0 .0 0 5— 0 .2μg/ g,回收率为 87%— 11... 以 HF- HNO3 微波消解试样 ,直接用 ICP- MS测定高纯钽铌化合物中 19个杂质元素 ,选择了仪器的工作参数 ,考查了质谱干扰及基体干扰的情况 ,选择内标元素 Ga、In校正 ,克服了基体效应。检出限为0 .0 0 5— 0 .2μg/ g,回收率为 87%— 110 % ,方法快速准确 ,灵敏度高。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS) 高纯铌及其氧化 杂质元素
下载PDF
ICP-MS法测定氢氧化钽中Mg,Fe,Cr,Zn 4种杂质 被引量:1
7
作者 郝红梅 张峻峰 杨丽明 《稀有金属快报》 CSCD 2007年第5期40-42,共3页
研究了直接采用ICP-MS的等离子体屏蔽技术(PS)测定高纯氢氧化钽中Mg,Fe,Cr,Zn 4种杂质元素的分析方法。实验了的仪器工作参数,用Co做内标补偿基体效应,方法的回收率在80%~130%之间,相对标准偏差均低于18.40%,检出限为0.01ng/ml~0.56ng... 研究了直接采用ICP-MS的等离子体屏蔽技术(PS)测定高纯氢氧化钽中Mg,Fe,Cr,Zn 4种杂质元素的分析方法。实验了的仪器工作参数,用Co做内标补偿基体效应,方法的回收率在80%~130%之间,相对标准偏差均低于18.40%,检出限为0.01ng/ml~0.56ng/ml,测定结果与ICP-AES测定结果基本一致。 展开更多
关键词 ICP—MS 等离子体屏蔽技术(PS) 高纯氧化 镁铁铬锌杂质
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部