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3333lp/mm X射线透射光栅的研制
被引量:
11
1
作者
朱效立
马杰
+5 位作者
谢常青
叶甜春
刘明
曹磊峰
杨家敏
张文海
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第6期1026-1030,共5页
针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。首先利用电子束曝光和微电镀技术在镂空的薄膜上制备母光栅X射线掩模版,然后利用X射线曝光和微电镀技术小批...
针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。首先利用电子束曝光和微电镀技术在镂空的薄膜上制备母光栅X射线掩模版,然后利用X射线曝光和微电镀技术小批量复制光栅。在国内首次完成了3333lp/mm X射线透射光栅的研制,栅线宽度为150nm,周期为300nm,金吸收体厚度为500nm。衍射效率标定的结果表明,该光栅的占空比合理、侧壁陡直,具有良好的色散特性,能够满足空间探测、同步辐射和变等离子诊断等多个领域的应用。
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关键词
X射线透射
光栅
电子束光刻
X射线光刻
高线密度光栅
原文传递
题名
3333lp/mm X射线透射光栅的研制
被引量:
11
1
作者
朱效立
马杰
谢常青
叶甜春
刘明
曹磊峰
杨家敏
张文海
机构
中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室
中国工程物理研究院高温高密度等离子等国家重点实验室
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第6期1026-1030,共5页
基金
国家973计划(2007CB935302)
国家863计划(2007AA804114)资助课题
文摘
针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。首先利用电子束曝光和微电镀技术在镂空的薄膜上制备母光栅X射线掩模版,然后利用X射线曝光和微电镀技术小批量复制光栅。在国内首次完成了3333lp/mm X射线透射光栅的研制,栅线宽度为150nm,周期为300nm,金吸收体厚度为500nm。衍射效率标定的结果表明,该光栅的占空比合理、侧壁陡直,具有良好的色散特性,能够满足空间探测、同步辐射和变等离子诊断等多个领域的应用。
关键词
X射线透射
光栅
电子束光刻
X射线光刻
高线密度光栅
Keywords
X-ray transmission gratings
electron beam lithography
X-ray lithography
high line density gratings
分类号
TN205 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
3333lp/mm X射线透射光栅的研制
朱效立
马杰
谢常青
叶甜春
刘明
曹磊峰
杨家敏
张文海
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
11
原文传递
已选择
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