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反射高能电子衍射的原理及其应用 被引量:4
1
作者 曹青 叶志镇 《材料科学与工程》 CSCD 1994年第3期56-58,55,共4页
本文介绍了反射高能电子衍射的工作原理,并将其与低能电子衍射进行了比较,表明RHEED具有很多优越性。另外,综述了国内外有关利用RHEED进行表面科学及新材料研究方面的应用。
关键词 表面科学 反射高能 高能电子衍射 原理 应用
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反射式高能电子衍射对氧化物薄膜生长的原位监测 被引量:1
2
作者 王萍 解廷月 《山西大同大学学报(自然科学版)》 2011年第5期23-25,40,共4页
反射式高能电子衍射是一种对薄膜表面结构非常敏感的实时监测手段,通过对衍射花样的研究可以获得诸多有益的信息,将其引入薄膜制备装置对高质量薄膜的生长有着积极的指导意义。
关键词 反射高能电子衍射 氧化物薄膜 脉冲激光沉积
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谈谈反射式高能电子衍射的应用
3
作者 朱兴国 《浙江大学学报(理学版)》 CAS CSCD 1995年第S1期143-145,共3页
本文介绍了应用反射式高能电子衍射(RHEED)对Mn在GaAs(001)面上的分子束外延结果的实时观察分析,不仅给GaAs(001)清洁表面的衍射图样以解释.而且对RHEED反映的体结构信息进行了观察分析,从而初步判定常温下亚稳态γ-Mn的结构.
关键词 高能电子衍射 反射 布拉菲点阵 晶格常数 rheed GAAS 面心立方 观察屏 分子束外延 点间距
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用于MBE中的反射式高能电子衍射仪
4
作者 杨再荣 潘金福 +3 位作者 周勋 王基石 宁江华 丁召 《现代机械》 2009年第1期57-58,61,共3页
对用于分子束外延(MBE)中的反射式高能电子衍射仪(RHEED)的工作原理以及RHEED衍射强度振荡在测量外延生长速率的应用进行了详尽的阐述;针对样品盘与RHEED系统的兼容问题,对样品盘进行了新的设计,并进行了实验研究。
关键词 分子束外延 反射高能电子衍射 工作原理 样品盘 强度振荡
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分子束外延反射式高能电子衍射的强度振荡采集系统及其应用
5
作者 张晓秋 朱战萍 +4 位作者 孙殿照 孔梅影 曾一平 郑海群 阎春辉 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 1990年第3期205-207,共3页
在分子束外延(MBE)设备上设计和装配了一套反射式高能电子衍射(RHEED)强度振荡的采集系统。用本系统在MBE生产GaAs和Al_xGa_(1-x)As材料时观察了RHEED强度振荡现象。并“在位”得到GaAs和Al_xGa_(1-x)As材料的生长速率和Al_xGa_(1-x)As... 在分子束外延(MBE)设备上设计和装配了一套反射式高能电子衍射(RHEED)强度振荡的采集系统。用本系统在MBE生产GaAs和Al_xGa_(1-x)As材料时观察了RHEED强度振荡现象。并“在位”得到GaAs和Al_xGa_(1-x)As材料的生长速率和Al_xGa_(1-x)As材料的AlAs摩尔分数,即x值。 展开更多
关键词 高能电子衍射 分子束外延 采集系统 反射 振荡现象 外延层 采集记录 摩尔分数 杂散光 超晶格
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反射式高能电子衍射强度振荡的自动测量系统
6
作者 周铁城 陈可明 盛篪 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 1990年第4期265-268,共4页
本文介绍一套测量反射式高能电子衍射强度振荡的简单而有效的系统,并以此对Si(111)衬底上同质外延Si时的RHEED强度振荡特性进行了观测。
关键词 高能电子衍射 自动测量系统 反射 同质外延 外延层 分子束外延生长 石英晶振 象素点 HEED 表面覆盖率
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反射式高能电子衍射实时监控的分子束外延生长GaAs晶体衬底温度校准及表面相变的研究 被引量:21
7
作者 周勋 杨再荣 +5 位作者 罗子江 贺业全 何浩 韦俊 邓朝勇 丁召 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期481-485,共5页
以反射式高能电子衍射(RHEED)作为实时监测工具,根据GaAs(100)表面重构相与衬底温度、As4等效束流压强之间的关系,对分子束外延(MBE)系统中衬底测温系统进行了校准,这种方法也适用于其他的MBE系统.为生长高质量的外延薄膜材料、研究InG... 以反射式高能电子衍射(RHEED)作为实时监测工具,根据GaAs(100)表面重构相与衬底温度、As4等效束流压强之间的关系,对分子束外延(MBE)系统中衬底测温系统进行了校准,这种方法也适用于其他的MBE系统.为生长高质量的外延薄膜材料、研究InGaAs表面粗糙化及相变等过程提供了实验依据. 展开更多
关键词 分子束外延 反射高能电子衍射 表面重构 温度校准
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SrTiO_3同质外延过程中的反射高能电子衍射图案分析 被引量:3
8
作者 魏贤华 张鹰 +5 位作者 李金隆 邓新武 刘兴钊 蒋树文 朱俊 李言荣 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期217-220,共4页
在激光分子束外延实验中 ,用RHEED原位监测了SrTiO3基片初始、退火以及同质外延过程中的表面形态 .通过对RHEED图案分析 ,获取了表面面内的晶格常数振荡与衍射条纹的半高宽振荡现象 ,前者是由退火重构表面与薄膜之间的界面造成的 ,后者... 在激光分子束外延实验中 ,用RHEED原位监测了SrTiO3基片初始、退火以及同质外延过程中的表面形态 .通过对RHEED图案分析 ,获取了表面面内的晶格常数振荡与衍射条纹的半高宽振荡现象 ,前者是由退火重构表面与薄膜之间的界面造成的 ,后者与二维岛边界的弛豫相关 . 展开更多
关键词 rheed 弛豫 晶格常数 衍射条纹 SRTIO3 表面 二维 激光分子束外延 反射高能电子衍射 振荡
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高气压反射式高能电子衍射仪监控脉冲激光外延氧化物薄膜 被引量:4
9
作者 陈莺飞 彭炜 +6 位作者 李洁 陈珂 朱小红 王萍 曾光 郑东宁 李林 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第10期2601-2606,共6页
在超高真空分子束外延 (MBE)生长技术中 ,反射式高能电子衍射仪 (RHEED)能实时显示半导体和金属外延生长过程 ,给出薄膜表面结构和平整度的信息 ,成为MBE必备的原位表面分析仪 .为了研究氧化物薄膜如高温超导(YBa2 Cu3 O7)、铁电薄膜 (S... 在超高真空分子束外延 (MBE)生长技术中 ,反射式高能电子衍射仪 (RHEED)能实时显示半导体和金属外延生长过程 ,给出薄膜表面结构和平整度的信息 ,成为MBE必备的原位表面分析仪 .为了研究氧化物薄膜如高温超导(YBa2 Cu3 O7)、铁电薄膜 (Sr1 -xBaxTiO3 )及它们的同质和异质外延结构的生长机理 ,获得高质量的符合各种应用需要的氧化物多层薄膜结构 ,在常规的制备氧化物薄膜的脉冲激光沉积 (PLD)设备上配备适合在高气压制膜条件下使用的高气压反射式高能电子衍射仪 (high pressureRHEED) ,在国内首先实现氧化物薄膜生长过程的实时监控 .详细介绍了高气压反射式高能电子衍射仪的结构和特性 ,给出了碳酸锶 (SrTiO3 )基片上同质外延碳酸锶铌 (SrTiO3 +2 %Nb)和异质外延钇钡铜氧 (Y1 Ba2 Cu3 O7)薄膜生长过程中衍射图形和零级衍射强度震荡 . 展开更多
关键词 高温超导薄膜 rheed 超高真空分子束外延生长技术 反射高能电子衍射 监控 脉冲激光 氧化物薄膜
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标准温度和衬底分步清洗对GaN初始生长影响RHEED研究 被引量:4
10
作者 郎佳红 顾彪 +2 位作者 徐茵 秦福文 曲钢 《红外技术》 CSCD 北大核心 2003年第6期64-68,共5页
在经过校温的ECR PEMOCVD装置上 ,通过分析RHEED(反射高能电子衍射 )图像研究了常规清洗和ECR等离子体所产生的活性氢氮等离子体源对蓝宝石衬底进行清洗、氮化实验 ,结果表明 :经常规清洗的蓝宝石衬底的表面晶质差异很大 ;按照经验清洗 ... 在经过校温的ECR PEMOCVD装置上 ,通过分析RHEED(反射高能电子衍射 )图像研究了常规清洗和ECR等离子体所产生的活性氢氮等离子体源对蓝宝石衬底进行清洗、氮化实验 ,结果表明 :经常规清洗的蓝宝石衬底的表面晶质差异很大 ;按照经验清洗 30min是不能清洗充分的 ,那么根据情况进行多步清洗就显得很重要了 ;结果表明清洗得很充分的衬底经 2 0min的氮化出来 ,而未清洗充分的衬底 2 展开更多
关键词 rheed 反射高能电子衍射 蓝宝石 GAN 标准温度 衬底分步清洗
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反射高能电子衍射法(RHEED)
11
《物理》 CAS 北大核心 2007年第2期171-171,共1页
高能电子小角度(~2℃)掠射样品表面,可以得到电子衍射图像.通过分析电子衍射图像,可以进行表面晶体构造分析,晶体成长过程观察及成膜厚度的监控.
关键词 电子衍射 高能电子 反射 衍射图像 构造分析 成长过程 小角度 膜厚度
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LaAlO_3/BaTiO_3/SrTiO_3三色超晶格的RHEED原位监测 被引量:5
12
作者 秦文峰 熊杰 +4 位作者 朱俊 唐金龙 张鹰 罗文博 李言荣 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期508-511,共4页
采用激光脉冲分子束外延技术,在(100)取向的STO单晶基片上成功外延生长了LaAlO3/BaTiO3/SrTiO3超晶格。在超晶格薄膜生长过程中采用反射高能电子衍射(RHEED)对LaAlO3/BaTiO3/SrTiO3超晶格的生长过程进行了分析。通过对超晶格中各层RHEE... 采用激光脉冲分子束外延技术,在(100)取向的STO单晶基片上成功外延生长了LaAlO3/BaTiO3/SrTiO3超晶格。在超晶格薄膜生长过程中采用反射高能电子衍射(RHEED)对LaAlO3/BaTiO3/SrTiO3超晶格的生长过程进行了分析。通过对超晶格中各层RHEED图像分析,发现由于各层面内晶格失配的不同,超晶格各层生长特性有所区别。借助原子力显微镜(AFM)对超晶格表面形貌进行了表征,表明制备的超晶格具有原子级平整的表面。 展开更多
关键词 薄膜 LAO/BTO/STO三色超晶格 反射高能电子衍射
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反射高能电子衍射系统(RHEED)
13
《物理》 CAS 北大核心 2007年第4期342-342,共1页
高能电子小角度(~2℃)掠射样品表面,可以得到电子衍射图像,通过分析电子衍射图像,可以进行表面晶体构造分析,晶体成长过程观察及成膜厚度的监控。
关键词 反射高能电子衍射 系统 衍射图像 构造分析 成长过程 小角度 膜厚度 表面
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反射高能电子衍射系统(RHEED)
14
《物理》 CAS 北大核心 2007年第6期497-497,共1页
高能电子小角度(-2℃)掠射样品表面,可以得到电子衍射图像.通过分析电子衍射图像,可以进行表面晶体构造分析,晶体成长过程观察及成膜厚度的监控.
关键词 反射高能电子衍射系统 衍射图像 构造分析 成长过程 小角度 膜厚度 表面
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GaSb薄膜生长的RHEED研究 被引量:3
15
作者 李林 王勇 +2 位作者 刘国军 李梅 王晓华 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期139-142,共4页
采用分子束外延技术,在GaAs衬底上生长GaSb薄膜时,利用反射式高能电子衍射仪(RHEED)对衬底表面清洁状况、外延层厚度等进行在线监控。通过RHEED讨论低温缓冲层对GaSb薄膜表面结构和生长机制的作用,可以估算衬底温度,并能计算出薄膜的生... 采用分子束外延技术,在GaAs衬底上生长GaSb薄膜时,利用反射式高能电子衍射仪(RHEED)对衬底表面清洁状况、外延层厚度等进行在线监控。通过RHEED讨论低温缓冲层对GaSb薄膜表面结构和生长机制的作用,可以估算衬底温度,并能计算出薄膜的生长速率。实验测量GaSb的生长周期为1.96 s,每秒沉积0.51单分子层。低温缓冲层提高了在GaAs衬底上外延GaSb薄膜的生长质量。 展开更多
关键词 GaSb薄膜 反射高能电子衍射 分子束外延 低温缓冲层 表面结构
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分子束外延InAs量子点的RHEED实时原位分析 被引量:3
16
作者 李美成 王禄 +2 位作者 熊敏 刘景民 赵连城 《微纳电子技术》 CAS 2008年第8期470-475,479,共7页
介绍了利用反射式高能电子衍射(RHEED)方法在自组装InAs量子点制备过程中进行结构分析的理论研究与实验工作的最新进展。从反射式高能电子衍射在InAs量子点临界转变状态测定、量子点表面取向、量子点应力分布测定、量子点形核长大动力... 介绍了利用反射式高能电子衍射(RHEED)方法在自组装InAs量子点制备过程中进行结构分析的理论研究与实验工作的最新进展。从反射式高能电子衍射在InAs量子点临界转变状态测定、量子点表面取向、量子点应力分布测定、量子点形核长大动力学过程研究等方面的应用,可以看出RHEED在InAs量子点形成过程中对多种结构特征的原位分析具有突出优势。反射式高能电子衍射仪作为分子束外延系统中的标准配置,已成为一种对InAs量子点微观结构进行分析的简易而理想的分析测试工具。随着反射式高能电子衍射以及衍射理论的进一步发展,必将促进InAs量子点结构的精确表征水平的提高,进而实现更加理想结构的InAs量子点的制备及其应用。 展开更多
关键词 分子束外延 INAS量子点 反射高能电子衍射 实时原位 微结构分析
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In_(0.14)Ga_(0.86)As/GaAs(4×3)表面的RHEED及STM分析 被引量:5
17
作者 尚林涛 罗子江 +5 位作者 周勋 郭祥 张毕禅 何浩 贺业全 丁召 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第3期256-262,共7页
以在UHV/MBE-STM联合系统上生长的19ML的InGaAs/GaAs样品为研究对象,先在GaAs(001)衬底上外延生长0.37μm的GaAs缓冲层,再外延生长19ML的InGaAs,通过样品生长速率大致确定其组分为In0.14Ga0.86As,通过反射式高能电子衍射(RHEED)及扫描... 以在UHV/MBE-STM联合系统上生长的19ML的InGaAs/GaAs样品为研究对象,先在GaAs(001)衬底上外延生长0.37μm的GaAs缓冲层,再外延生长19ML的InGaAs,通过样品生长速率大致确定其组分为In0.14Ga0.86As,通过反射式高能电子衍射(RHEED)及扫描隧道显微镜分析发现其表面主要由占大多数的4×3及少量的α2(2×4)重构混合而成,并用软件模拟RHEED对实验结果进行了验证。 展开更多
关键词 反射高能电子衍射分子束外延扫描隧道显微镜InGaAs表面重构模拟
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MBE生长GaAs薄膜表面形貌的RHEED图样研究 被引量:1
18
作者 杨再荣 周勋 +4 位作者 潘金福 罗子江 贺业全 何浩 丁召 《真空》 CAS 北大核心 2010年第2期31-33,共3页
本文通过在GaAs(100)单晶衬底上MBE生长GaAs过程中形成的RHEED衍射图样,对GaAs薄膜的表面形貌进行研究。分析GaAs表面粗糙和生长时不发生RHEED强度振荡的原因。讨论在生长GaAs时出现In(Ga)As/GaAs(100)体系的RHEED衍射图样这种异常现象... 本文通过在GaAs(100)单晶衬底上MBE生长GaAs过程中形成的RHEED衍射图样,对GaAs薄膜的表面形貌进行研究。分析GaAs表面粗糙和生长时不发生RHEED强度振荡的原因。讨论在生长GaAs时出现In(Ga)As/GaAs(100)体系的RHEED衍射图样这种异常现象的原因。 展开更多
关键词 分子束外延 表面形貌 反射高能电子衍射 强度振荡 生长模式
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RHEED在计算Al_2O_3晶面间距中的应用 被引量:1
19
作者 王兆阳 胡礼中 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期73-75,共3页
反射式高能电子衍射仪(RHEED)是一种表面分析工具,以往都是用来对晶体进行定性观察,以研究晶体的结晶状况,很少用来进行晶体结构的定量计算。在分析RHEED的工作原理的基础上,研究了Al2O3衍射条纹宽度、电子束入射方向和晶面方向之间的关... 反射式高能电子衍射仪(RHEED)是一种表面分析工具,以往都是用来对晶体进行定性观察,以研究晶体的结晶状况,很少用来进行晶体结构的定量计算。在分析RHEED的工作原理的基础上,研究了Al2O3衍射条纹宽度、电子束入射方向和晶面方向之间的关系,并尝试利用RHEED来分析和计算Al2O3(0001)面上两个重要方向上的晶面间距,得到了理想的结果。由于RHEED是一种原位监测仪器,所以可对薄膜的生长进行实时原位监测。在测晶面间距等常数时,与对样品要求极高的透射电子显微镜相比,RHEED更方便。 展开更多
关键词 反射高能电子衍射 晶面间距 氧化铝
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[(BaTiO_3)_m/(SrTiO_3)_m]_n超晶格生长的RHEED实时研究
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作者 魏雄邦 姜斌 +4 位作者 李燕 邓宏 蒋书文 张鹰 姚海军 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2005年第2期178-181,共4页
利用反射高能电子衍射(RHEED),研究了在SrTiO3(100)基片上采用激光分子束外延法生长的[(Ba-TiO3)m/(SrTiO3)m]n超晶格薄膜的生长特性。观察到清晰明亮的反射高能电子衍射花样及富有周期性的RHEED振荡曲线,制备的超晶格呈现良好的结晶层... 利用反射高能电子衍射(RHEED),研究了在SrTiO3(100)基片上采用激光分子束外延法生长的[(Ba-TiO3)m/(SrTiO3)m]n超晶格薄膜的生长特性。观察到清晰明亮的反射高能电子衍射花样及富有周期性的RHEED振荡曲线,制备的超晶格呈现良好的结晶层状外延生长,薄膜表面及界面的平整度很好。 展开更多
关键词 反射高能电子衍射(rheed) 超晶格 外延生长
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