高苛性比铝酸钠溶液的Raman光谱研究

用 Raman光谱方法研究高苛性比铝酸钠溶液的阴离子组成.高苛性比的铝酸钠溶液的Raman光谱在470cm^(-1)等处有特征峰.和固体Ca_3[Al(0H)_6]_2及Ba_2[Al_2-(OH)_(10)]的 Raman谱相对照,可看出高苛性比的浓铝酸钠溶液可能含有Al(OH))_6^(3-)及其聚合离子。

高苛性比铝酸钠溶液中硅、铝分离的研究

通过热力学分析和实验，证明了在含硅高（ＳｉＯ２＞７０ｇ／Ｌ）、苛性分子比高（αｋ＞５０）的铝酸钠溶液中，控制一定的温度、溶液苛性分子比值和适量的石灰添加量，可以使溶液中的硅酸根离子［ＳｉＯ２（ＯＨ）２］２－以硅灰石的形式沉淀析出，而铝仍然保留在溶液中，不会造成铝的损失，顺利地实现溶液中硅铝的分离。

高苛性化系数铝酸钠溶液深度脱硅

研究了高苛性化系数铝酸钠溶液的深度脱硅．对加入CaO和C3AH6（3CaO·Al2O3·6H2O）的脱硅反应进行了热力学计算，并对NawO浓度、脱硅反应温度对脱硅精制液中SiO2浓度、脱硅率、硅量指数的影响进行了研究。结果表明，添加C3AH6一步脱硅，精制液硅量指数可达10000以上．