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高透过率电子基板玻璃成型过程质量控制技术
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作者 王明忠 彭焕南 《科技创新导报》 2013年第28期54-55,共2页
该文先引入了高透过率电子基板玻璃这一概念,并陈述它的质量控制要求,然后根据它的质量控制要求,重点阐述了其成型过程的质量控制技术。
关键词 高透过率电子基板玻璃 成型过程 质量控制
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将实现我国高世代电子玻璃基板“零”的突破
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《玻璃》 2016年第9期54-55,共2页
近日,国家科技部正式下达了关于国家重点研发计划重点基础材料技术提升与产业化重点专项2016年度项目立项的通知,蚌埠玻璃工业设计研究院联合东旭集团有限公司、武汉理工大学、浙江大学、中国建材国际工程集团有限公司等15家单位申报... 近日,国家科技部正式下达了关于国家重点研发计划重点基础材料技术提升与产业化重点专项2016年度项目立项的通知,蚌埠玻璃工业设计研究院联合东旭集团有限公司、武汉理工大学、浙江大学、中国建材国际工程集团有限公司等15家单位申报的“高世代电子玻璃基板和盖板核心技术开发与产业化示范”项目正式获批立项,获得中央财政经费支持4500万元,成为重点基础材料领域39个项目中资金支持额度仅次于钢铁研究总院的第二大项目。 展开更多
关键词 玻璃 世代 电子 产业化示范 武汉理工大学 钢铁研究总院 项目立项 础材料
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2015上半年LTPS TFT LCD玻璃基板投入量增长迅猛
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《消费电子》 2015年第15期91-92,共2页
根据IHS研究显示,低温多晶硅薄膜晶体管液晶显示器(LTPS TFT LCD)在智能手机中的占比逐年增长。2014年一季度,有源矩阵(Active Matrix)中小型显示面板总出货量为5亿5,660万片,其中LTPS TFT LCD占18.8%,达1亿470万片。2015年一季度,... 根据IHS研究显示,低温多晶硅薄膜晶体管液晶显示器(LTPS TFT LCD)在智能手机中的占比逐年增长。2014年一季度,有源矩阵(Active Matrix)中小型显示面板总出货量为5亿5,660万片,其中LTPS TFT LCD占18.8%,达1亿470万片。2015年一季度,有源矩阵中小型显示面板总出货量为5亿8,200万片,LTPS占比22%,达1亿2,920万片。这表明LTPS TFT LCD在智能手机市场中占据的份额越来越重。 展开更多
关键词 TFTLCD 有源矩阵 低温多晶硅 玻璃 显示面 智能手机市场 厂商 AMOLED 电子迁移 电脑
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锂铝硅玻璃的研究进展
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作者 王衍行 李现梓 +2 位作者 韩韬 杨鹏慧 祖成奎 《建筑玻璃与工业玻璃》 2023年第1期3-10,13,共9页
相对于传统的钠钙硅玻璃和高铝玻璃,锂铝硅玻璃具有更为致密的网络结构、较高弹性模量和适宜两步法化学钢化等特点,被视为第三代高强玻璃基板,可用作电子信息产品盖板、航空透明器件以及舰船、特种车辆的观察窗口等。目前,锂铝硅玻璃的... 相对于传统的钠钙硅玻璃和高铝玻璃,锂铝硅玻璃具有更为致密的网络结构、较高弹性模量和适宜两步法化学钢化等特点,被视为第三代高强玻璃基板,可用作电子信息产品盖板、航空透明器件以及舰船、特种车辆的观察窗口等。目前,锂铝硅玻璃的研究主要涉及:(1)探究锂铝硅玻璃的“组成-结构-性能”本构关系,为设计优化高性能锂铝硅玻璃提供理论指导和性能预测;(2)改进现有溢流和浮法成形方法和装备,满足大尺寸、多厚度和高尺寸精度锂铝硅玻璃成形需要;(3)研究锂铝硅玻璃的两步法化学增强方法,解决表面压应力和应力层深度同步提升难题,显著提高玻璃强度、硬度和抗跌落性能。 展开更多
关键词 电子信息产品 弹性模量 钠钙硅玻璃 玻璃 成形方法 化学增强 特种车辆 同步提升
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玻璃专利
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《建筑玻璃与工业玻璃》 2015年第1期46-48,共3页
高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法 一种高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃制备方法,设置一玻璃基板,在所述玻璃基板上依次镀制一层氧化钛介电层,一层氮化硅介电层,一层氧化锌介电层,一层镍铬金属合金层,一层银功能层,一层镍... 高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法 一种高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃制备方法,设置一玻璃基板,在所述玻璃基板上依次镀制一层氧化钛介电层,一层氮化硅介电层,一层氧化锌介电层,一层镍铬金属合金层,一层银功能层,一层镍铬金属合金层,一层氧化锌锡介电层和一层氮化硅介电层。与现有技术相比,本发明的有益效果是通过离线磁控溅射技术,在浮法玻璃基材表面制备多层膜结构,使其具有较高的透过率和选择系数,对红外区域有高反射的作用,同时能有效的降低玻璃的辐射率。 展开更多
关键词 低辐射镀膜玻璃 磁控溅射技术 专利 制备方法 玻璃 介电层 多层膜结构 透过
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高耐热多层PWB材料——用途广、功能新的优质材料
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作者 米本神夫 晨阳 《印制电路信息》 1998年第12期16-17,共2页
今后有望取得很大进展的多媒体时代的电子机器寻求的是小型化、薄型化,同时能高速处理大量信息。 对于这一要求,半导体IC技术的进步肩负着重大的责任。同样,PWB的技术进步也很重要,现在正在寻求提高其特性。 对于这些需求,本公司开发了... 今后有望取得很大进展的多媒体时代的电子机器寻求的是小型化、薄型化,同时能高速处理大量信息。 对于这一要求,半导体IC技术的进步肩负着重大的责任。同样,PWB的技术进步也很重要,现在正在寻求提高其特性。 对于这些需求,本公司开发了比过去更加高的耐热材料(R—4775、R—4785、R—1766T),高频用材料(R—4737、R—4726、R—4728)。现在又开发了新的高耐热。 展开更多
关键词 耐热 优质材料 比介电常数 损耗角 电子器件工程联合委员会 材料 吸湿 耐热性树脂 拉脱强度 用途
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专利
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《建筑玻璃与工业玻璃》 2021年第6期47-50,共4页
无色双银镀膜玻璃及其制备方法公开(公告)号:CN112142340A公开(公告)日:2020.12.29申请(专利权)人:信义玻璃(江苏)有限公司本申请提供一种无色双银镀膜玻璃,包括玻璃基板,沿背离所述玻璃基板一表面方向,还依次层叠结合有第一电介质层、... 无色双银镀膜玻璃及其制备方法公开(公告)号:CN112142340A公开(公告)日:2020.12.29申请(专利权)人:信义玻璃(江苏)有限公司本申请提供一种无色双银镀膜玻璃,包括玻璃基板,沿背离所述玻璃基板一表面方向,还依次层叠结合有第一电介质层、光学折射层、第二电介质层、第一功能层、第一功能保护层、第三电介质层、第二功能层、第二功能保护层以及第四电介质层,通过特定的膜层设置顺序以调节膜层的关系,使镀膜玻璃的反射率Y为(4~5),透过率Tr为(40%~45%),反射颜色a^(*)(Rg)为(1~1),b^(*)(Rg)为(1~1),室外颜色显示无色,辐射率低于0.1,得到的无色双银镀膜玻璃能够广泛使用。 展开更多
关键词 镀膜玻璃 玻璃 辐射 电介质 功能层 透过 保护层 反射
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斯坦福大学研制的电极可提高光伏效率
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作者 邹勉 《半导体信息》 2010年第4期7-8,共2页
纳米基的透明电极由于阳光通透率要高12%,可以提高薄膜太阳能板的效率。加州斯坦福大学的学生开发出了一种先进的设计,通过使用新型的电极,可以提高太阳能光伏板1%的发电效率。
关键词 斯坦福 发电效 太阳能 太阳能电池 透过 化学工程 电子显示器 降低成本 透明度
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Fabrication of 150-nm Al_(0.48)In_(0.52)As/Ga_(0.47)In_(0.53)As mHEMTs on GaAs substrates 被引量:2
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作者 WU XiaoFeng LIU HongXia +4 位作者 LI HaiOu LI Qi HU ShiGang XI ZaiFang ZHAO Jin 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2012年第12期2389-2391,共3页
High performance 150-nm gate-length metamorphic Al0.48In0.52As/Ga0.47In0.53 As high electron mobility transistors(mHEMTs) with very good device performance have been successfully fabricated.A T-shaped gate is fabricat... High performance 150-nm gate-length metamorphic Al0.48In0.52As/Ga0.47In0.53 As high electron mobility transistors(mHEMTs) with very good device performance have been successfully fabricated.A T-shaped gate is fabricated by using a combined technique of optical and e-beam photolithography,which is beneficial to decreasing parasitic capacitance and parasitic resistance of the gate.The ohmic contact resistance R c is as low as 0.03 mm when using a novel ohmic contact metal system(Ni/Ge/Ti/Au).The devices exhibit excellent DC and RF performance.A peak extrinsic transconductance of 775 mS/mm and a maximum drain current density of 720 mA/mm are achieved.The unity current gain cut-off frequency(fT) and the maximum oscillation frequency(f max) are 188.4 and 250 GHz,respectively. 展开更多
关键词 制作 砷化镓 欧姆接触电阻 电子迁移 RF性能 漏电流密度 制造设备
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IBM以标准CMOS工艺打造三五族FinFET
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作者 郑畅 《半导体信息》 2015年第4期23-24,共2页
整体半导体产业正在尝试找到一种方法,不需要从硅基板转换而利用砷化铟镓(InGaAs)的更高电子迁移率,包括英特尔(Intel)与三星(Samsung);而IBM已经展示了如何利用标准CMOS工艺技术来达成以上目标。
关键词 CMOS工艺 FINFET IBM 标准 电子迁移 半导体产业 砷化铟镓
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“十一五”国家重点发展的17类新材料
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作者 孙再吉 《半导体信息》 2005年第6期1-1,共1页
中科院半导体所王占国院士透露国家在"十一五"规划中重点发展17类新材料。首先是硅基微纳电子材料。我国将发展2-3个满足100-45 nm线宽集成电路需求的8英寸、12英寸硅单晶、晶片和外延片的高技术产业基地,形成年产 3000吨多... 中科院半导体所王占国院士透露国家在"十一五"规划中重点发展17类新材料。首先是硅基微纳电子材料。我国将发展2-3个满足100-45 nm线宽集成电路需求的8英寸、12英寸硅单晶、晶片和外延片的高技术产业基地,形成年产 3000吨多晶硅的生产能力,以及进行6-8英寸SOI、SiGe/Si和应变硅材料示范工程建设。其次是半导体固体照明工程材料和器件。 展开更多
关键词 电子材料 示范工程建设 照明工程 外延片 技术产业 白光照明 硅单晶 SIGE 线宽 玻璃
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