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高速半固化片压合介质厚度的优化研究
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作者 傅宝林 杜红兵 纪成光 《印制电路信息》 2018年第A02期236-245,共10页
文章研究了不同压合过程控制和不同图形设计对介厚的影响,纠正了不同类型不同张数高速半固化片的压合介质厚度,以及多张高速半固化片压合的介质厚度值;同时通过对比分析不同理论介厚值与实际介厚值的差值,得出了采用纠正后的理论介... 文章研究了不同压合过程控制和不同图形设计对介厚的影响,纠正了不同类型不同张数高速半固化片的压合介质厚度,以及多张高速半固化片压合的介质厚度值;同时通过对比分析不同理论介厚值与实际介厚值的差值,得出了采用纠正后的理论介厚值更接近于实际压合的介厚值,设定的介厚值更精确。 展开更多
关键词 纠正的介质厚度 高速半固化片 图形设计 实际介厚
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