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微波ECR等离子体高速溅射装置的研制
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作者 汪建华 袁润章 +1 位作者 邬钦崇 任兆杏 《华中理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期70-72,共3页
研制了一台高速率溅射的ＥＣＲ等离子体沉积装置．采用微波真空波导及反常模式或输入技术，利用腔内双靶构成的电场镜，使高能γ电子在电场镜中振荡，从而获得高密度的等离子体．并且，导电膜能连续高速沉积，在２．７×１０－２Ｐ... 研制了一台高速率溅射的ＥＣＲ等离子体沉积装置．采用微波真空波导及反常模式或输入技术，利用腔内双靶构成的电场镜，使高能γ电子在电场镜中振荡，从而获得高密度的等离子体．并且，导电膜能连续高速沉积，在２．７×１０－２Ｐａ的低气压下，铜膜的沉积速率可达１２０ｎｍ／ｍｉｎ． 展开更多
关键词 ECR等离子体 半导体 高速溅射装置 薄膜 微波
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