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乙硼烷气体含量的测定
被引量:
1
1
作者
黄文裕
阴雨江
《低温与特气》
CAS
1985年第3期47-51,共5页
一、前言 已硼烷(B2H6)是一种带有类似硫化氢臭味的易燃易爆剧毒气体,在空气中的最高允许浓度为0.1ppm(按美国ACGIH1963年标准,我国尚未制定)。在半导体技术中,乙硼烷用作外延工艺的气相掺杂源、扩散工艺的扩散源和离子注入源,...
一、前言 已硼烷(B2H6)是一种带有类似硫化氢臭味的易燃易爆剧毒气体,在空气中的最高允许浓度为0.1ppm(按美国ACGIH1963年标准,我国尚未制定)。在半导体技术中,乙硼烷用作外延工艺的气相掺杂源、扩散工艺的扩散源和离子注入源,它通常用氢、氮、氩等气体稀释后使用。市售的乙硼烷钢瓶含量一般从百分之几到百分之零点几。直接用于半导体工艺的乙硼烷气体,根据使用要求的不同,含量从几ppm至几百ppm。在贮存过程中,由于乙硼烷化学性质比较活泼,易于水解、氧化及分解,含量会逐渐降低。为了准确地控制工艺条件,对稀释气体中乙硼烷的含量进行准确测定是十分必要的。
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关键词
乙硼烷
稀释气体
含量测定
容量法
高频等离子体光谱法
下载PDF
职称材料
题名
乙硼烷气体含量的测定
被引量:
1
1
作者
黄文裕
阴雨江
机构
南京固体器件研究所
出处
《低温与特气》
CAS
1985年第3期47-51,共5页
文摘
一、前言 已硼烷(B2H6)是一种带有类似硫化氢臭味的易燃易爆剧毒气体,在空气中的最高允许浓度为0.1ppm(按美国ACGIH1963年标准,我国尚未制定)。在半导体技术中,乙硼烷用作外延工艺的气相掺杂源、扩散工艺的扩散源和离子注入源,它通常用氢、氮、氩等气体稀释后使用。市售的乙硼烷钢瓶含量一般从百分之几到百分之零点几。直接用于半导体工艺的乙硼烷气体,根据使用要求的不同,含量从几ppm至几百ppm。在贮存过程中,由于乙硼烷化学性质比较活泼,易于水解、氧化及分解,含量会逐渐降低。为了准确地控制工艺条件,对稀释气体中乙硼烷的含量进行准确测定是十分必要的。
关键词
乙硼烷
稀释气体
含量测定
容量法
高频等离子体光谱法
分类号
TQ117 [化学工程—无机化工]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
乙硼烷气体含量的测定
黄文裕
阴雨江
《低温与特气》
CAS
1985
1
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