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题名黑矩阵扩散法修复亮点理论模型及影响因素分析
被引量:4
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作者
魏平玉
李涛
徐敏
韩磊
郭栋
张南红
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机构
合肥鑫晟光电科技有限公司
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出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第2期164-172,共9页
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文摘
本文建立了黑矩阵扩散法修复亮点的理论模型并实验验证了该模型,分析了影响修复效果的各个因素及影响程度,为提升亮点修复成功率奠定基础。我们设置一系列实验,定性分析了激光泵浦源、激光波长、光斑大小、加工速度、产品设计和修复模式因素对修复效果的影响。首先,通过FIB图像分析,验证了创建的修复理论模型;其次,分析了上述因素对修复成功率的影响,最后对一款修复难度大的产品进行改善提升。实验结果表明:修复过程按照产生空隙(Gap,约1.5μm),黑矩阵颗粒化和空隙填充三阶段进行;从成功率看,Laser Diode泵浦方式优于Flash Lamp,B波长激光优于A波长激光,光斑大小选取1/2子像素、速度选取100~200μm/s时Gap成功率最高,有Overcoat层(OC)且黑矩阵(BM)比重大的产品修复成功率更高。最后我们以上述理论分析和实验结果为指导,将一款修复难度极大的产品的成功率从40%提升到90%以上。
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关键词
黑矩阵扩散
修复成功率
激光
影响因素
光阻
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Keywords
BM diffusion
repair success ratio
laser
effect actors
color filter
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分类号
TN24
[电子电信—物理电子学]
TN942
[电子电信—信号与信息处理]
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