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黑膜厚度与膜表面张力关系的研究
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作者 韩国彬 吴金添 +1 位作者 徐晓明 魏光 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期115-117,共3页
用微干涉测量技术直接测定楔压等温线 ,研究了电解质浓度对阳离子表面活性剂 TTAB在浓度大于cmc时形成黑膜厚度的影响及膜表面张力与溶液表面张力之间的差别 .结果显示 ,黑膜厚度取决于楔压和电解质浓度 ,随着楔压的增加 ,液膜厚度减少... 用微干涉测量技术直接测定楔压等温线 ,研究了电解质浓度对阳离子表面活性剂 TTAB在浓度大于cmc时形成黑膜厚度的影响及膜表面张力与溶液表面张力之间的差别 .结果显示 ,黑膜厚度取决于楔压和电解质浓度 ,随着楔压的增加 ,液膜厚度减少至一定程度后几乎保持不变 ,表明黑膜类型的转化是阶跃式的 ,而电解质屏蔽了液膜两个表面电荷层间的排斥作用 ,故电解质浓度增加 ,液膜厚度变小 .由楔压等温线得出的膜表面张力的结果说明一般黑膜的表面张力与溶液的表面张力并无明显差别 . 展开更多
关键词 楔压等温线 一般 Newton 表面张力 黑膜厚度 阳离子表面活性剂 TTAB
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无支架荫罩双层黑化工艺研发
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作者 雷向龙 高康明 李建彬 《显示器件技术》 2009年第3期18-21,共4页
本文主要介绍了一种新的荫罩黑化方法,去掉了以前使用的荫罩黑化支架,直接将2枚荫罩摞放在一起,然后放置在黑化炉网带上进入黑化炉进行黑化。此外,本文还论述了荫罩实现无支架双层黑化以后带来的荫罩黑化膜厚度偏薄问题的解决方法。
关键词 荫罩 化支架 双层 荫罩厚度
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