Vegetative Habitus and Fruit Production of Self-rooted Cherry Cultivar ＇Hedelfingen＇ Wild Type and Somaclonal Grafted on ＇Gisela 6＇ and ＇Colt＇ Rootstock

The study considers the morphological and physiological behaviour of self-rooted sweet cherry CV （Cultivar） ＇Hedelfinger＇ wild type （H） and somaclonal （HS） grafted on ＇Gisela 6＇ and ＇Colt＇ rootstock. The somaclonal showed reduced vegetative vigour without any variation of the natural tree＇s architecture. The rootstock ＇Gisela 6＇ caused change in genotype habitus inducing a spreading shape, while ＇Colt＇ increased trunk diameter and height. Fruit quality and size were not affected by genotype nor rootstock. ＇Gisela 6＇, from these preliminary data, had proved the most suitable rootstock for both genotypes since it reduced the tree size and vigor and induced early bearing and the production of a greater number of fruiting spurs.

甜樱桃矮化砧木吉塞拉(Gisela)的离体叶片再生植株研究

用甜樱桃矮化砧木吉塞拉（Ｇｉｓｅｌａ）５号、７号（Ｐｒｕｎｕｓ ｃｅｒａｓｕｓ ｘ Ｐ．ｃａｎｅｓｃｅｎｓ）无菌生根苗的叶片作为外植体，进行不定芽再生植株的研究。以ＷＰＭ＋ＢＡ ５～７ ｍｇ／Ｌ＋ＩＢＡ ０．１～１．０ｍｇ／Ｌ做培养基，不定芽再生率高达７０％；吉塞拉５号的再生率明显高于７号；培养基中高浓度的细胞分裂素抑制吉塞拉７号的不定芽再生。不定芽的增殖、生根、温室锻炼、大田移栽均已获得成功，同时观察了植株在大田的生长状况。该成果可用于樱桃转基因育种和多倍体植株培育的研究。

大樱桃矮化砧吉塞拉(Gisela)的微体快繁技术体系研究

以从国外引进的大樱桃矮化砧吉塞拉 5、 6为材料 ,在MS +6 -BA1mg L +IBA0 1mg L培养基上诱导出丛生芽 ;在MS +6 -BA 0 5mg L +IBA 0 1mg L的增殖培养基上 3周增殖倍数可达 1 0倍 ;在 1 2MS+IBA 0 3mg L的生根培养基上生根率可达 70 %～ 1 0 0 % ;温室炼苗后 ,移栽成活率可达 90 %以上。

甜樱桃矮化砧木新品种Gisela的研究进展

甜樱桃矮化砧木新品种Gisela引入我国十多年来,已在多地进行了大量的试种比较试验及机理研究。为正确认识及推广应用该新品种,在多年科研的基础上结合目前种苗市场存在的问题,对该新品种的园艺特性、抗逆性、嫁接亲和性、苗木繁育及其缺点和栽培注意事项等作全面综述。

大樱桃矮化砧木吉塞拉6号的组织培养和快速繁殖技术研究

以吉塞拉6号带腋芽茎段为外植体,对大樱桃矮化砧木吉塞拉6号进行了组织培养和快速繁殖技术研究。结果表明,较佳的启动培养基:MS+0.5 mg/L 6-BA+0.2 mg/L NAA,较佳的增殖培养基:MS+1.0 mg/L 6-BA+0.2 mg/L NAA;较佳的生根培养基:1/2 MS+0.5 mg/L IBA+2.0 g/L AC。生根培养第13天进行试管苗炼苗,第20天进行移栽,移栽后的成活率较高,分别为最佳的生根诱导和移栽时间;粉碎苔藓是吉塞拉6号较好的瓶外生根基质。

不同樱桃嫁接组合的形态及生理指标评价

为筛选适宜青海地区樱桃嫁接砧木及接穗品种,文中以吉塞拉6号为砧木,17个樱桃品种为接穗,研究不同樱桃嫁接组合的形态及生理指标,对苗木定植后成活率进行调查,利用主成分分析法对17个樱桃嫁接组合的嫁接成活率、株高、穗砧直径比、干物质含量、总酚含量、POD活性、PAL活性等7个指标进行综合评价。结果表明:Lambert嫁接成活率最高,Skeena嫁接成活率最低;Bing生长最快,Hedelifingen生长最慢;Saylor的穗砧直径比最大,Lapins的穗砧直径比最小;Lapins的干物质含量最大,Sweetheart的干物质含量最小;Krsten的总酚含量最大,Rainier的总酚含量最小;Attika的POD活性最大,Utah Giant的POD活性最小;Sweetheart的PAL活性最大,Summit的PAL活性最小。综上,17个樱桃嫁接组合生长较好的为Lambert、Krsten和Attika,生长较差的为Skeena、Summit和Hedelifingen。根据主成分分析图可知,成活率、株高、穗砧直径比、POD活性、PAL活性与不同樱桃品种嫁接吉塞拉6号的长势呈正相关,而干物质含量和总酚含量与嫁接长势呈负相关。本研究结果可为青海地区筛选优良樱桃品种提供理论依据。

甜樱桃矮化砧‘吉塞拉6号’扦插过程中氧化酶活性和碳氮含量变化

甜樱桃（Prunusavium）矮化砧‘吉塞拉6号’（PrunusceFasus×P．cane．scens）是由酸樱桃（Prunuscerasu,s）与灰毛叶樱桃（Prunuscane$cert$）种间杂交育成的三倍体杂种，用作砧木材料具有矮化、早实、丰产、抗性强、适应范围广等优点（刘庆忠等，2006）。

盐处理下2种砧木对甜樱桃‘萨米脱’光合影响的比较

在不同浓度NaCl处理下,测定了以‘吉塞拉5号’(G5)、B5为砧木的甜樱桃‘萨米脱’光合和叶绿素荧光参数。结果表明:盐胁迫下,2种砧木嫁接的‘萨米脱’叶片的Pn、Gs、Fv/Fo、ΦPSII和ETR值随着处理浓度的增加或处理时间的延长显著下降,适度盐胁迫对‘萨米脱’叶片的光合抑制主要是气孔限制(0.3%和0.6%NaCl),高盐胁迫主要为非气孔限制(0.9%NaCl)。2种砧木对所嫁接的‘萨米脱’光合影响效应因盐胁迫程度而异,适度盐胁迫下,以G5为砧木的Pn、Gs、Fv/Fo、ΦPSII和ETR值较以B5为砧木的下降时间晚且降幅小,但在高盐胁迫下则反之。

樱桃矮化砧木‘吉塞拉6号’四倍体新种质Y1的培育

【目的】培育樱桃砧木新品种。【方法】以樱桃矮化砧木‘吉塞拉6号’为试材,采用自然授粉手段育成四倍体新种质Y1,采用流式细胞仪分析杂种后代的倍性,并对它的生物学性状、与甜樱桃品种嫁接亲合力进行了目测观察。【结果】吉塞拉5、6、7号在育性方面有差别,‘吉塞拉6号’为高度不育,结实率极低。随机抽取的33株‘吉塞拉6号’实生后代中,绝大多数为四倍体;Y1与甜樱桃品种的嫁接亲合性好,基本无小脚现象。【结论】采用自然授粉的三倍体‘吉塞拉6号’种子成功培育出300多个株系的新砧木类型,通过对随机选取的33个株系进行染色体倍性鉴定、性状观察,筛选出1个综合表现性状较好的四倍体种质Y1。

盐胁迫对甜樱桃“吉塞拉”砧木光合指标的影响

以甜樱桃砧木"吉塞拉6号"(G6)、"吉塞拉5号"(G5)、Y1和B5的1a生盆栽实生苗为试材,探讨了不同浓度NaCl处理对其光合指标的影响。结果表明:盐胁迫影响了"吉塞拉"砧木的光合色素含量、光合参数和叶绿素荧光参数。随着NaCl处理浓度增加和处理时间延长,各试材的净光合速率(Pn)、气孔导度(Gs)和蒸腾速率(Tr)、PSⅡ潜在活性(Fv/Fo)、实际原初光能转化效率(ΦPSII)和表观电子传递速率(ETR)显著下降,其中B5的下降趋势相对平缓。盐胁迫对"吉塞拉"砧木的效应既有处理间差异,又有品种间差异。轻中度盐胁迫(3‰NaCl和6‰NaCl处理前中期)并未明显抑制各试材的PSII活性,重度盐胁迫导致各试材PSII受损,光合受到抑制。比较而言,B5的抗盐性优于其它3种试材。

甜樱桃砧木品种‘吉塞拉6号’的离体培养与快速繁殖

以植株茎段为外植体,进行了甜樱桃矮化砧木品种‘吉塞拉6号'离体快速繁殖技术研究。结果显示:外植体培养于改良MS+1 mg/L ZT+0.5 mg/LBA+0.2 mg/L NAA+0.5 g/L CH,30 d后腋芽萌发率达81.3%;丛芽增殖的适宜培养基是:改良MS+0.5 mg/L BA+0.5 mg/L KT+0.1 mg/L NAA+0.01 mg/L TDZ,增殖系数达5.8;1/2MS+1.0 mg/L IBA+0.2 mg/L NAA是诱导甜樱桃试管苗生根的适宜培养基,生根率达98.3%;适宜试管苗移栽的基质配比为泥炭:椰糠:珍珠岩=1:1:1(v:v:v),试管苗移栽成活率达98%以上。

樱桃矮化砧的组培快繁技术研究

以中华矮樱、G isela-5、G isela-7为供试材料,进行组培快繁技术研究,结果表明中华矮樱适宜的初代培养基为M S+6-BA 1.0 m g.L-1+NAA 0.1 m g.L-1,增殖培养基为M S+6-BA 1.0 m g.L-1+NAA 0.2 m g.L-1,生根培养基为1/2M S+NAA 0.8 m g.L-1;G isela-5号适宜的初代培养基为M S+6-BA 0.8 m g.L-1+NAA 0.1 m g.L-1,增殖培养基为M S+6-BA 0.8 m g.L-1+NAA 0.2 m g.-L 1,生根培养基为1/2M S+NAA 0.5 m g.-L 1;G isela-7适宜的初代培养基为M S+6-BA 0.8 m g.L-1+NAA 0.1 m g.L-1,增殖培养基为M S+6-BA 0.8 m g.L-1+NAA0.1 m g.-L 1,生根培养基为1/2M S+NAA 0.5 m g.L-1。

干旱胁迫对甜樱桃吉塞拉砧木光合的影响

以甜樱桃吉塞拉系列砧木-吉塞拉6号(G6)、吉塞拉5号(G5)、Y1和B5的1 a生盆栽实生苗为试材,检测了其在干旱处理下的光合和叶绿素荧光参数。结果表明:干旱胁迫影响了吉塞拉砧木的叶绿素含量、光合参数和叶绿素荧光参数,各试材的净光合速率(Pn)、PSⅡ潜在活性(Fv/Fo)、实际原初光能转化效率(ΦPSⅡ)和表观电子传递速率(ETR)随胁迫程度的加重显著下降。干旱胁迫对吉塞拉砧木光合影响的效应既有品种间差异,又有处理间差异,轻度干旱促进了G5和B5的光合,而重度干旱胁迫对4种吉塞拉砧木的光合均产生抑制作用。

大樱桃优质矮化砧木吉塞拉批量组培快繁系统优化的研究

为应用组培技术批量生产优质苗木,以大樱桃优质矮化砧木吉塞拉作为试材,在组培中采用对比试验对如何获得较好的无菌外植体进行了研究.采用正交试验对分化配方和生根配方进行选择,采用多因素对比试验对室外驯化条件进行研究.研究结果表明:外植体材料应在温室自然光条件下培养,以0.1%升汞+0.1%升汞的灭菌方法较为适用;通过正交实验并于生产中验证得到的较佳分化配方为MS+IBA 0.3 mg/L+6-BA 0.8mg/L+白糖30 g/L+琼脂7 g/L,生根配方为MS+IAA 0.3 mg/L+IBA 0.3 mg/L+NAA0.3 mg/L+白糖20 g/L+琼脂6 g/L;采用温室控制光强并保持瓶苗密封处理的生根条件可以提高苗木的驯化成活率.将研究结果应用于生产达到了年批量生产30万棵吉塞拉苗木.

甜樱桃新矮化砧木“吉塞拉12号”组培快繁技术研究

“吉塞拉12号”是从美国引进的甜樱桃优良矮化砧木,主根发达,固地性强,结果盛期无早衰现象,因其压条、扦插繁殖困难,生产中该砧木资源严重不足。本研究以“吉塞拉12号”顶芽为外植体,通过系统试验,建立了其组培快繁技术体系。结果表明,0.1%HgCl_(2)处理12 min可将外植体污染率控制在4%以内,死亡率控制在3%以内,MS+6-BA 0.5 mg/L+IBA 0.3 mg/L的培养基适合顶芽萌发;MS+6-BA 0.8 mg/L+IBA 0.3 mg/L为最佳增殖培养基,增殖率高达97.06%,增殖系数为6.58;1/2MS+IBA 0.5 mg/L+NAA 0.5 mg/L为最佳生根培养基,生根率为60.83%;“吉塞拉12号”试管苗移栽对栽培基质要求不严,普通育苗轻基质在保持湿度和良好的透气条件下,移栽成活率可达95%以上。研究结果对开展“吉塞拉12号”及相关树种工厂化育苗具有重要的应用价值,同时可为同类树种的基因工程改良奠定基础。

扦插棚内外甜樱桃矮化砧吉塞拉植株光合特性的比较研究

为给甜樱桃矮化砧吉塞拉绿枝扦插苗的大田移栽技术提供参考依据，以盆栽的‘吉塞拉6号’为试材，对扦插棚内、外生长的幼苗叶片形态和光合特性进行了比较研究。结果显示：与棚外植株相比，棚内植株的叶面积、叶绿素含量分别提高了51．0％、81．2％，而比叶重、叶绿素a／b值却降低了35．9％、18．9％；棚内植株叶片的羧化效率、光合能力、光补偿点、光饱和点和水分利用效率分别下降20．59％、18．49％、45．90％、28．57％和15．98％，但表观量子效率增加29．91％；棚内植株的光合最适温度范围变宽，为25～32℃；叶绿素荧光的非光化学猝灭（NPQ）的启动速率和启动后值均明显降低。结果表明，低光、高湿环境下生长的棚内幼苗不仅光合能力弱，热耗散能力也低，即使经过20天的适应锻炼，其叶片结构和光合功能仍没有达到自然光下发育叶片的水平。

提高大樱桃矮化砧木吉塞拉试管苗移栽成活率的研究

研究了影响大樱桃矮化砧木吉塞拉试管苗移栽于温室和大田成活的因素。认为影响试管苗温室锻炼成活的最重要的因素是镰刀真菌 (Fusariumequiseti)引起的立枯病。使用壮苗在干净的河沙基质上培养 ,发病率低 ,成活率高 ,最高可达 94 %以上。露天炼苗、砂壤土栽植、遮荫网覆盖等措施可提高试管苗在大田的成活率 ,最高可达 95%以上 。

暗培养温度对吉塞拉6号离体新梢生根的影响

以在增殖培养基上生长3～4周的甜樱桃矮化砧木吉塞拉6号离体新梢为试材，研究20℃、25℃、30℃和35℃条件下暗培养后离体新梢的生根状况。结果表明，在黑暗诱导生根阶段，20℃效果最好；其次为25℃和30℃，35℃会抑制生根。30℃最有利于根的生长，25℃和35℃次之，20℃根的生长速度最慢。

甜樱桃砧木吉塞拉离体茎尖玻璃化法超低温保存研究

为保持甜樱桃矮化砧木吉塞拉的遗传稳定性和避免种质遗传资源丢失,以玻璃化法超低温冷冻保存过程中涉及的主要因子设计正交试验,摸索适合吉塞拉的最佳保存体系;设计单因子试验,观察不同单因子对吉塞拉超低温冷冻保存的影响。结果表明,取生长90 d的组培苗于4℃低温锻炼3周或4周,剥取茎尖放于含0.3 mol/L蔗糖的预培养液中预培养1 d,在装载液中渗透30 min,用PVS3玻璃化试剂0℃处理60min后投入到液氮中保存24 h,取出后经40℃水浴快速化冻1 min,卸载液洗涤两次,每次10 min,后置于恢复培养基上,茎尖的存活率最高且遗传稳定性好。本试验成功建立了甜樱桃矮化砧木吉塞拉的玻璃化法超低温保存技术,为甜樱桃种质资源的长期保存提供了一条有效途径。

聚乙烯醇在大樱桃砧木吉塞拉组织培养中的作用

以樱桃砧木吉塞拉为试材,研究了不同质量浓度聚乙烯醇(PVA)对樱桃砧木吉塞拉组织培养不同阶段的影响。结果表明,1 g/L的聚乙烯醇可有效提高吉塞拉丛生芽的诱导率,2 g/L的聚乙烯醇不但可以降低其玻璃化率、提高其分化数量,还可以提高其移栽成活率。因此,聚乙烯醇在吉塞拉砧木的初代诱导、继代增殖和生根培养中均有良好的促进作用。