燃煤烟气NO/SO_2对Cl/Cl_2形成过程的影响机制

燃煤烟气中Cl/Cl2的形成过程对Hg0的转化有重要影响。应用CHEMKIN软件包,在典型燃煤烟气温降速率下,通过化学动力学模拟的方法,研究了NO/SO2对Cl/Cl2形成过程的影响,主要得出以下结论:Cl原子形成过程中OH是重要反应物,NO抑制Cl原子形成的原因是由于NO会与Cl原子生成反应竞争反应物OH。另外,NO与OH反应后的产物HONO会与Cl原子反应生成HCl和NO2,从而进一步降低烟气中的Cl原子浓度。SO2会大量消耗反应体系中的O原子,而O原子主要通过OH转化生成,O原子的大量消耗促进了OH转化为O原子,使得OH在Cl原子形成过程中的作用被削弱,从而使SO2抑制了Cl原子形成。Cl2主要通过Cl原子转化形成,因此Cl原子的形成受到抑制将同时导致Cl2形成过程受到抑制。

唑来膦酸钠联合^(89)SrCl_2治疗骨转移瘤的临床疗效

目的:评估^(89)SrCl_2联合唑来膦酸钠在恶性肿瘤骨转移治疗中的临床疗效。方法:95例恶性肿瘤骨转移患者随机分为三组,实验组32例应用^(89)SrCl_2联合唑来膦酸钠治疗,另外两组设为对照组,分别单纯给以^(89)SrCl_2或唑来膦酸钠治疗。随访观察6个月,根据治疗后疼痛缓解和全身骨扫描结果判断疗效。结果:实验组疼痛缓解总有效率为87.50%(28/32),对照组分别为77.42%(24/31)、75.00%(24/32)。实验组和对照组疼痛缓解改善比较差异有统计学意义(P<0.05)。实验组骨转移病灶好转或消退总有效率为34.38%(11/32),对照组分别为32.26%(10/31)、31.25%(10/32),实验组和对照组病灶改善比较差异无统计学差异(P>0.05)。实验组观察唑来膦酸钠的给药时间,一周内和一月后给药骨痛缓解总有效率分别为64.71%(11/17),66.67%(10/15),疼痛改善比较无统计学差异(P>0.05)。结论:^(89)SrCl_2联合唑来膦酸钠治疗恶性骨转移癌缓解骨痛优于单独给药。^(89)SrCl_2和唑来膦酸钠联合给药不存在拮抗和竞争,可以同时联合使用。

罗丹明染料光度法分别测定痕量ClO_2和Cl_2

在pH1．42或3．09的HCl-NaAc介质中，ClO2和Cl2均能氧化I^-形成I3^-，I3^-能与罗丹明染料（Rh）形成缔合物（Rh—I3）n，导致罗丹明B（RhB）、丁基罗丹明（b—RhB）、罗丹明S（RhS）和罗丹明6G（Rh6G）缔合物微粒体系分别在558、558、526、526nm处的吸收峰降低，该体系分别在605、605、575、575nm处各产生一个新的吸收峰。c102的浓度在0．012～0．43、0．0057～0．241、0．0085～0．195、0．0060～0．49mg／L时分别与体系605、605、575、575nm处的吸光度成线性关系，其检出限分别为0．003、0．0031、0．005、0．0027mg／L。在各体系相同条件下，Cl2的浓度分别为0．0261～0．784、0．0244～0．734、0．0420．833和0．0278～0．695mg／L，遵守朗伯比尔定律，检出限分别为0．0059、0．011、0．022和0．0041mg／L。在pH为1．42条件下，可测量ClO2和Cl2共同的吸光度；用二甲亚砜掩蔽Cl2，可测量ClO2的吸光度和ClO2含量；用差减法可求出Cl2的含量。据此建立一个分别测定水中痕量ClO2和Cl2的光度法，用于水样分析，结果满意。

WO_3-NiO复合氧化物的微乳法合成及其Cl2敏感特性

采用Triton X-100为表面活性剂,正己醇为助表面活性剂,环己烷为油相配制微乳液,利用微乳液体系制备了WO3-NiO复合金属氧化物,并对其进行了电感耦合等离子体质谱(ICP MS)、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)以及氮气吸附-脱附的表征。为了进行对比,利用固相混合法制备了WO3-NiO样品,其WO3含量与微乳法制备的样品相同。对比评价了两种复合氧化物对氯气的敏感特性,发现其都呈现P型半导体特性,在250℃时,微乳法制备的样品比固相混合法制备的样品的灵敏度高100倍。

CH_2Cl_2对离子液体BmimPF_6中二茂铁电化学行为的影响

应用循环伏安和交流阻抗法研究有机溶剂二氯甲烷对二茂铁在离子液体1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐(Bm imPF6)中电化学行为的影响.实验表明,二氯甲烷可促进离子液体的离子解离,减小离子液体粘度,增加离子液体电导率,加速二茂铁在离子液体中的扩散,增大氧化还原峰电流.由于电极界面双电层结构的变化,导致双电层电容增大,电极反应电阻减小,从而加速了界面电子传递反应.

ZnCl_2溶液对褐煤半焦表面性质及其中高温脱汞性能的影响

利用ZnCl_2溶液对褐煤进行浸渍后在700℃条件下热解制备改性半焦,采用N2吸附/脱附、傅里叶变换红外光谱、X射线光电子能谱等手段对ZnCl_2处理前后两种半焦表面物化性质进行了表征,在小型固定床反应器上研究了ZnCl_2溶液浸渍处理前后褐煤半焦对气态单质汞(Hg^0)的脱除性能.结果表明,经过ZnCl_2处理得到的半焦(ZSC)具有发达的孔隙结构,其表面含氧官能团含量和数量有所提高,并出现了新的C-Cl基团;在100~360℃温度范围内,制备的改性半焦ZSC的脱汞效率随温度升高而降低,但在中高温条件下仍表现出良好的脱汞性能;在化学吸附过程中,气态Hg0被C-Cl基团氧化为HgCl或HgCl_2,同时Hg^0与半焦表面含氧官能团结合生成HgO,Hg^0最终以HgCl_2或HgO的形式附着在半焦表面.

Cl_2/TiCl_4体系引发IBVE活性阳离子聚合的研究(Ⅰ)——引发活性中心及其络合竞争

采用UV光谱法证明了IBVE/Cl_2/TiCl_1/甲苯聚合体系中同时存在着两种引发活性中心及络合竞争,研究了Cl_2/TiCl_1和H_2O/TiCl_1络合平衡,求出了20℃时2TiCl_1←Cl_2和TiCl_1←H_2O络合平衡不稳定常数.

焊后热处理时间对SA-508Gr.3Cl.2钢焊缝力学性能影响的研究

在三代非能动压水堆核电设备上,大量地使用到了SA-508Gr.3Cl.2钢,该材料具有较高的强度和低温冲击韧性。由于核电部件材料厚度大,SA-508Gr.3Cl.2钢焊接完成后需要进行较长时间的热处理,以消除残余应力。针对SA-508Gr.3Cl.2焊缝,选取了国内外不同牌号的四种埋弧焊焊丝焊剂进行焊接试验,并分别进行了不同焊后热处理保温时间下的焊缝金属拉伸和冲击试验。通过对试验结果的分析表明:焊后热处理后,SA-508 Gr.3Cl.2钢焊缝拉伸性能有较大程度的降低,随着焊后热处理时间的增长,焊缝强度降低的趋势逐渐减缓;焊后热处理对SA-508Gr.3Cl.2钢焊缝冲击性能影响无明显规律;随着焊后热处理时间的延长,焊缝基体组织未发生显著变化,晶间析出物有所增加并长大。焊缝的性能,特别是其低温冲击性能,更大程度取决于焊接参数,尤其是焊接热输入量。为获取理想的焊缝力学性能,需采用合适的焊接参数,控制热输入量。

塞曼效应在Cl_2^+及其同位素分子离子光谱标识中的应用

利用光外差磁旋转速度调制光谱技术获得了可见光波段(16820～17350cm-1)Cl2+分子离子的A2Πu-X2Πg电子跃迁吸收光谱.在标识Cl2+及其同位素分子离子谱带的过程中,应用塞曼效应,准确指认了属于Ω=1/2子带系的三个子带.它们分别是35Cl2+和35Cl37Cl+的(3,7)带的Ω=1/2子带以及35Cl2+的(2,7)带的Ω=1/2子带.其标识结果扩展了Cl2+分子离子的基态和激发态能级的振动标识范围,使各谱带的转动分析得以顺利进行,并获得了新的Cl2+分子常数.

Pd(bipy)Cl_2催化瓦斯液相选择氧化制甲醇工艺

采用液相催化氧化的方法,将煤矿瓦斯转化为便于储存、运输和使用的液体化合物甲醇是瓦斯综合利用的一个发展方向。以2,2-联吡啶和K2PdCl_4为原料,合成Pd^(2+)-联吡啶络合物(Pd(bipy)Cl_2)催化剂,在20%发烟硫酸中考察其催化低浓度瓦斯选择氧化合成甲醇的反应性能。实验结果表明,该催化剂选择催化氧化低浓度瓦斯的适宜工艺条件为:反应温度180℃、反应压力4 MPa、反应时间2 h、Pd(bipy)Cl_2用量30μmol。在该工艺条件下,瓦斯中甲烷的转化率为10.99%,甲醇的选择性为73.33%。发烟硫酸中Pd(bipy)Cl_2催化低浓度瓦斯选择氧化制甲醇可能遵循亲电取代反应机理。

Pt(bipy)Cl_2催化低浓度瓦斯液相部分氧化制甲醇

以2,2-联吡啶和K_2PtCl_4为原料,合成了Pt^(2+)-联吡啶络合物Pt(bipy)Cl_2催化剂,用于低浓度瓦斯部分氧化合成甲醇。考察了反应温度、初始压力、反应时间和催化剂Pt(bipy)Cl_2物质的量对瓦斯液相部分氧化合成甲醇的影响。结果表明,在反应温度160℃、初始压力5 MPa、反应时间2.0h、催化剂物质的量20μmol的条件下,甲烷转化率和甲醇选择性最高,分别为7.15%和70.18%。通过对实验数据和相关文献的分析,推测Pt(bipy)Cl_2于质量分数20%发烟硫酸中催化瓦斯液相部分氧化制甲醇为亲电取代反应。

费托反应器SA387 Gr11 Cl2特厚板筒体立焊施工技术

全面分析了费托反应器SA387 Gr11 Cl2筒体特厚板的焊接性,针对立焊过程中易产生的冷裂纹、再热裂纹及不易成型等问题,制定了详细的焊接工艺并施焊,通过对产品焊接试件化学成分、力学性能等的检测、分析,对焊接工艺的适用性进行了评判。结果表明,采用PHOENIX CHROMO 1焊条,双U形坡口,焊前预热,小电流、短弧多层多道施焊,焊后立即消氢和消应力热处理等多种工艺措施,可以有效避免冷裂纹、再热裂纹的产生,得到高质量的焊接接头,满足费托反应器的制造质量要求。

Cl/Cl_2/He+HN_3/He反应体系的实验研究(英文)

本文对微波解离Cl_2产生Cl,与HN_3/He的混合气体反应产生的激发态粒子NCl(a^1△)和NCl(b^1∑)进行了实验研究。对NCl(a^1△)和NCl(b^1∑)的荧光光谱进行了测量并对光谱强度沿气流方向的变化趋势以及依赖几种不同气体流量和配比的变化关系进行了研究。给出了NCl(a^1△)和NCl(b^1∑)产生的最佳实验参数及配比关系,并对结果做了讨论.

基于激光微加工Al_2O_3微结构Cl_2传感器的制作及性能研究

以膜厚为250μm的Al2O3膜为微结构基板、95# Al2O3瓷板为微壳结构体，设计并采用激光微加工技术制作了具有Ф0．2mm微孔通道的微结构传感器．阐述了CuCl杂化修饰CuPc的工艺过程，并通过真空镀膜形成气敏膜．实现了主动吸气的检测模式，提高了响应时间和气敏性．通过SEM分析得到了良好的表面形貌和膜尺寸，用做电极和加热器Pt膜厚为500nm，敏感膜厚为150nm，微壳深度为150～200μm测试结果表明对Cl2具有较好的敏感响应，灵敏度为0．01％浓度下0．25倍，并呈现P型半导体的变化规律．研究了通气状态和加热电压对传感器响应和气敏性的影响．

ZnSnO_3纳米粉体的制备及其Cl_2气敏性能研究

以Sn粒和Zn粒为原料,在柠檬酸体系中,用溶胶凝胶法合成了纳米ZnSnO3粉体.用XRD、TEM对产物的组成、粒径大小、形貌进行了表征.结果表明:产物为平均粒径10 nm左右的圆球形颗粒.采用静态配气法测试了不同烧结温度下材料对氧化性气体的气敏性能,发现烧结温度为700℃的纳米ZnSnO3材料在最佳工作温度为360℃对体积分数为5×10-5的氯气的灵敏度高达1 973,而且对其他气体有很好的抗干扰能力.元件的响应恢复特性良好,响应时间和恢复时间分别为2 s和10 s.

IBVE/Cl_2/TiCl_4/Toluene聚合体系的引发活性中心及其络合竞争的研究

采用UV光谱法首次证明了IBVE/Cl_2/TiCl_4/Toluene聚合体系中同时存在着两种引发活性中心及络合竞争,研究了Cl_2/TiCl_4和H_2O/TiCl_4络合平衡,求出了20℃时2TiCl_4←Cl_2和TiCl_4←H_2O络合平衡不稳定常数。

ZnCl_2活化笋壳活性炭制备及吸附动力学分析

以笋壳为原料,采用氯化锌为活化剂制备活性炭,通过正交实验研究各影响因素对活性炭性能的影响。通过静态吸附实验研究ZnCl_2活化笋壳活性炭对亚甲基蓝的吸附特性,并从动力学角度探讨其吸附机理。结果表明,制备活性炭主要影响因素为活化温度,其次是ZnCl_2浓度,活化时间影响最小。制备活性炭的最佳条件是:ZnCl_2浓度为3 mol/L,活化温度控制在400℃,活化时间2 h。活性炭对亚甲基蓝的吸附符合准二级动力学方程和Elovich方程,吸附速率控制步骤主要为膜扩散控制。等温吸附曲线与Langmuir型和Freundlich型均拟合较好,吸附过程是优惠吸附。

SrCl_2∶Ag^(2+)晶体局部结构及电子顺磁共振参量的理论研究

基于离子簇模型,采用d^9离子在四角伸长八面体对称中电子顺磁共振(EPR)参量的高阶微扰公式,计算了SrCl_2中四角Ag^(2+)中心的EPR参量(g因子g_(//),g_⊥和超精细结构常数A因子A_(//),A_⊥)。由于体系的共价性及配体Cl^-较大的旋轨耦合系数,在这些公式中同时考虑了配体轨道及旋轨耦合作用对EPR参量的贡献。公式里的能级分裂由重叠模型和杂质中心的局部结构确定。研究发现,掺杂后由于尺寸失配,杂质Ag^(2+)沿着C_4轴有一个很大的非中心位移,到最近邻的Cl^-平面距离约为0.060 nm。计算所得的EPR理论值与与实验值符合的很好。

吹入氩氯混合气体钢液脱氢工艺参数(Ar/Cl_2)的确定

热力学计算表明，用氩氯混合气体吹入钢液，当VAr／VCl2=9时，氯可将钢中氢的质量分数由6×10^-6降至（1～2）×10^-6；耗氯量为0．14m^3／t，其中40％用于脱氢．本文为原苏联发明专利N01084346的原理之二．

Cl_2/BCl_3感应耦合等离子体GaN刻蚀侧壁形貌研究

基于感应耦合等离子体干法刻蚀技术,对采用Cl2/BCl3气体组分下GaN刻蚀后的侧壁形貌进行了研究。扫描电镜(SEM)结果表明,一定刻蚀条件下,刻蚀后GaN侧壁会形成转角与条纹状褶皱形貌。进一步实验,观察到了GaN侧壁转角形貌的形成过程;低偏压功率实验表明,高能离子轰击是GaN侧壁转角与条纹状褶皱形貌形成的原因。刻蚀过程中,掩蔽层光刻胶经过高能离子一段时间轰击后,其边缘首先出现条纹状褶皱形貌,并转移到GaN侧壁上,接着转角形貌亦随之出现并转移到GaN侧壁上。这与已公开发表文献认为的GaN侧壁条纹状褶皱仅由于掩蔽层边缘粗糙所引起而非刻蚀过程中形成的解释不同。