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InGaAs/InP SAGCM-APD的器件模型及其数值模拟 被引量:4
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作者 高新江 张秀川 陈扬 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期617-622,共6页
基于泊松方程和载流子连续性方程,导出了InGaAs/InP SAGCM-APD(吸收、渐变、电荷、倍增层分离结构雪崩光电二极管)特性的数学模型,利用数值计算工具对其进行了数值模拟,得到了APD内部电场分布、增益特性、暗电流特性、过剩噪声和增益带... 基于泊松方程和载流子连续性方程,导出了InGaAs/InP SAGCM-APD(吸收、渐变、电荷、倍增层分离结构雪崩光电二极管)特性的数学模型,利用数值计算工具对其进行了数值模拟,得到了APD内部电场分布、增益特性、暗电流特性、过剩噪声和增益带宽特性等的数值结果。模拟结果与实际器件特性测量结果相符合,表明运用该模型与数值模拟方法可对不同结构参数的InGaAs/InP SAGCM-APD进行结构设计、工艺改进和特性分析。 展开更多
关键词 INGAAS/INP SAGCM—APD 器件模型 数值模拟 器件特性
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SAGCM-APD增益影响因子分析与优化
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作者 胡大鹏 郭方敏 +1 位作者 朱晟伟 熊大元 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2010年第2期213-217,235,共6页
应用二维漂移扩散模型研究具有分立吸收层、渐变层、电荷层和倍增层结构(SAGCM)的InGaAsP蛳InP雪崩光电探测器(APD),仿真分析了不同电荷层、倍增层厚度和掺杂浓度对电场分布、电流响应及击穿电压的影响,特别是参数变量对增益计算模型的... 应用二维漂移扩散模型研究具有分立吸收层、渐变层、电荷层和倍增层结构(SAGCM)的InGaAsP蛳InP雪崩光电探测器(APD),仿真分析了不同电荷层、倍增层厚度和掺杂浓度对电场分布、电流响应及击穿电压的影响,特别是参数变量对增益计算模型的影响,载流子传输过程的时间依赖关系和倍增层中所处位置的影响。仿真结果表明:较高掺杂浓度和较薄电荷层结构可以改变器件内部的电场分布,进而提高增益值。当入射光波长为1.55μm,光功率为500 W/m2时,光电流响应量级在10-2 A;阈值电压降低到10 V以下,击穿电压为42.6 V时,器件倍增增益值大于100。 展开更多
关键词 sagcm-apd 雪崩光电探测器 倍增增益 电流响应 仿真分析
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光通信用InGaAs/InP雪崩光电二极管 被引量:1
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作者 尹顺政 齐利芳 +3 位作者 赵永林 张豫黔 车向辉 张宇 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第10期759-763,共5页
针对InGaAs/InP雪崩光电二极管(APD)器件结构,介绍了本地电场模型在器件设计上的应用。采用数值计算的方法,导出了吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离的(SAGCM)APD的电场分布。基于本地电场模型讨论了不同器件结构参数对器件穿通... 针对InGaAs/InP雪崩光电二极管(APD)器件结构,介绍了本地电场模型在器件设计上的应用。采用数值计算的方法,导出了吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离的(SAGCM)APD的电场分布。基于本地电场模型讨论了不同器件结构参数对器件穿通电压、击穿电压、倍增因子等特性的影响,实验结果与模拟结果相吻合,表明此方法可以用于器件的结构设计优化及特性分析。在此方法指导下,制作出了SAGCM APD。测试结果表明器件穿通电压小于30V,击穿电压小于45V,在倍增因子为1时,器件响应度大于0.9A/W,在倍增因子为10时,器件暗电流小于10nA,在倍增因子为5-12时,-3dB带宽均大于3GHz,其性能满足2.5Gbit/s光纤通信应用要求。 展开更多
关键词 InP 吸收、渐变、电荷、倍增层分离结构的雪崩二极管(SAGCM APD) 雪崩 本地电场模型 光通信
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10 Gbit/s InGaAs/InP雪崩光电二极管 被引量:1
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作者 尹顺政 郝文嘉 +4 位作者 张宇 于浩 李庆伟 赵润 车相辉 《半导体技术》 CSCD 北大核心 2017年第7期516-520,共5页
基于InGaAs/InP吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离雪崩光电二极管(SAGCM APD)器件结构,利用数值计算方法,模拟了各层参数对器件频率响应特性的影响。模拟结果表明,吸收层、倍增层厚度及电荷层面电荷密度可影响器件的-3dB带宽;随增益... 基于InGaAs/InP吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离雪崩光电二极管(SAGCM APD)器件结构,利用数值计算方法,模拟了各层参数对器件频率响应特性的影响。模拟结果表明,吸收层、倍增层厚度及电荷层面电荷密度可影响器件的-3dB带宽;随增益的增加,器件带宽会逐渐降低;电荷层面电荷密度对器件击穿电压有明显影响。结合此模拟结果,制作出了高速InGaAs/InP雪崩光电二极管,并对器件进行了封装测试。测试结果表明,该结果与模拟结果相吻合。器件击穿电压为30V;在倍增因子为1时,器件响应度大于0.8A/W;在倍增因子为9时,器件暗电流小于10nA,-3dB带宽大于10GHz,其性能满足10Gbit/s光纤通信应用要求。 展开更多
关键词 INGAAS/INP 吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离雪崩光电二极管(SAGCM APD) 雪崩 频率响应 光通信
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一种25 Gbit/s背入射高速InAlAs雪崩光电二极管 被引量:1
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作者 黄晓峰 陈伟 +5 位作者 董绪丰 敖天宏 王立 唐艳 张圆圆 罗鸣 《半导体光电》 CAS 北大核心 2022年第1期122-125,共4页
设计并制备了一种面向25 Gbit/s长距离传输用背面进光高速InAlAs雪崩光电二极管(APD),芯片采用垂直台面吸收-渐变-电荷-倍增层分离(SAGCM)结构,通过刻蚀工艺形成三层台面,将电场限制在最大台面倍增层的中心,有效降低了台面边缘击穿风险... 设计并制备了一种面向25 Gbit/s长距离传输用背面进光高速InAlAs雪崩光电二极管(APD),芯片采用垂直台面吸收-渐变-电荷-倍增层分离(SAGCM)结构,通过刻蚀工艺形成三层台面,将电场限制在最大台面倍增层的中心,有效降低了台面边缘击穿风险。器件采用倒装焊结构,背面集成微透镜,以提高光耦合孔径。研制的APD芯片在增益M=1时,对1310 nm波长光的响应度为0.84 A/W;在M=10时,3 dB带宽达到19 GHz;增益带宽积为180 GHz;在5×10^(-5)误码率下最佳灵敏度为-22.3 dBm,可支持100GBASE-ER4通信标准。 展开更多
关键词 25 Gbit/s 雪崩光电二极管 INALAS SAGCM 微透镜 100GBASE-ER4
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基于Matlab的APD器件模拟
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作者 程涛 周金运 李文静 《现代电子技术》 2006年第13期146-148,共3页
为了迅速了解雪崩光电二极管(APD)的特性以确保量子保密通信系统的质量,在适当的假设前提下,依据经验公式并借助于Matlab的矩阵运算功能计算吸收渐变电荷倍增分离型雪崩光电二极管(SAGCM APD)的电场分布,然后以此得出电子、空穴倍增系数... 为了迅速了解雪崩光电二极管(APD)的特性以确保量子保密通信系统的质量,在适当的假设前提下,依据经验公式并借助于Matlab的矩阵运算功能计算吸收渐变电荷倍增分离型雪崩光电二极管(SAGCM APD)的电场分布,然后以此得出电子、空穴倍增系数,最后再利用这些系数及传递函数计算出SAGCM APD的增益-电压特性及频率响应特性,模拟的结果较好地与实验结果一致。 展开更多
关键词 MATLAB 吸收渐变电荷倍增分离型雪崩光电二极管(SAGCM—APD) 传递函数 量子保密通信
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10Gb/s APD-TIA组件的最佳光接收灵敏度 被引量:4
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作者 丁国庆 徐建锋 《光通信技术》 CSCD 北大核心 2008年第11期40-43,共4页
介绍了10Gb/s APD-TIA组件结构和基本特性,分析了APD的最佳光电倍增和APD-TIA组件的最佳接收光灵敏度,报告和讨论了10Gb/s APD-TIA组件光接收灵敏度测量结果,指出了APD光电倍增与器件结构和偏置电压紧密相关,通过仔细调测,在0.85~0.95V... 介绍了10Gb/s APD-TIA组件结构和基本特性,分析了APD的最佳光电倍增和APD-TIA组件的最佳接收光灵敏度,报告和讨论了10Gb/s APD-TIA组件光接收灵敏度测量结果,指出了APD光电倍增与器件结构和偏置电压紧密相关,通过仔细调测,在0.85~0.95Vb下可测得最佳光接收灵敏度。 展开更多
关键词 sagcm-apd 最佳光电倍增 最佳光接收灵敏度
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In_(0.53)Ga_(0.47)As/InP高速光电二极管材料生长及光电性能
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作者 吴超瑜 刘超 +4 位作者 冯彦斌 高文浩 高鹏 付贤松 宁振动 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2019年第2期123-126,共4页
利用低压MOCVD技术制备PIN结构的InP基InGaAs外延材料。采用分层吸收渐变电荷倍增(SAGCM)结构,通过两次Zn扩散、多层介质膜淀积、Au/Zn p型欧姆接触、Au/Ge/Ni n型欧姆接触等标准半导体平面工艺,设计制造正入射平面In_(0.53)Ga_(0.47)As... 利用低压MOCVD技术制备PIN结构的InP基InGaAs外延材料。采用分层吸收渐变电荷倍增(SAGCM)结构,通过两次Zn扩散、多层介质膜淀积、Au/Zn p型欧姆接触、Au/Ge/Ni n型欧姆接触等标准半导体平面工艺,设计制造正入射平面In_(0.53)Ga_(0.47)As/InP雪崩光电二极管器件。该器件采用与InP衬底晶格匹配的In_(0.53)Ga_(0.47)As材料做吸收层,InP材料做倍增层,同时引入InGaAsP梯度层。探测器件光敏面直径50μm,器件测试结果表明该器件光响应特性正常,击穿电压约43 V,在低于击穿电压3 V左右可以得到大约10 A/W的光响应度,在0 V到小于击穿电压1 V的偏压范围内,暗电流只有1 nA左右。光电二极管在8 GHz以下有平坦的增益,适用于5 Gbit/s光通信系统。 展开更多
关键词 金属有机化学气相沉积 通信 分层吸收渐变电荷倍增 雪崩光电二极管
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SAGCM avalanche photodiode with additional layer and nonuniform electric field
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作者 Abbas GHADIMI Vahid AHMADI Fatemeh SHAHSHAHANI 《Frontiers of Optoelectronics》 EI CSCD 2013年第2期199-209,共11页
This paper presents a new method to increase the speed of the separated absorption, grading, charge, and multiplication avalanche photodiode (SAGCM-APD). This improvement is obtained by adding a new thin charge laye... This paper presents a new method to increase the speed of the separated absorption, grading, charge, and multiplication avalanche photodiode (SAGCM-APD). This improvement is obtained by adding a new thin charge layer between absorption and grading layers, with assuming the non-uniform electric field in different regions of the structure. In addition, a circuit model of the proposed structure is extracted, using carrier rate equations. Also, to achieve the optimum structure, it is tried to have trade-offs among thickness of the layers and have proper tuning of physical parameters. Eventually, frequency and transient response are investigated and it is shown that, in comparison with the previous conventional structure, significant improvements in gain-bandwidth product, speed and also in breakdown voltage are attained. 展开更多
关键词 separated absorption grading charge multi- plication avalanche photodiode (sagcm-apd) electric field nonuniformity additional charge layer
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