1
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利用吸合电极实现亚微米电极间隙的可制造性设计 |
郑超越
孙珂
钟朋
王放
杨恒
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《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
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2024 |
0 |
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深亚微米半导体器件制造的最新工艺及设备 |
翁寿松
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《半导体杂志》
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1997 |
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纳米时代向我们走来从微米向纳米发展的CPU制造工艺 |
马恕
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《电脑自做》
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2003 |
1
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台积电全球首家推出0.1微米芯片制造工艺 |
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《电子科技》
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2002 |
0 |
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0.13微米—开创CPU制造工艺新纪元 |
刘靖
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《微型计算机》
北大核心
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2001 |
0 |
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6
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富士通耗巨资开发0.1微米制造工艺 |
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《Internet信息世界》
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2001 |
0 |
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0.13微米制造工艺的应用 明后年将达到高峰 |
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《电子测试》
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2002 |
0 |
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深亚微米集成工艺仿真系统TSUPREM-4的功能及应用 |
李惠军
徐永勋
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《微纳电子技术》
CAS
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2003 |
0 |
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新工艺制造CPU 2004年推陈出新 |
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《电脑应用文萃(电脑界配套光盘)》
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2003 |
0 |
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全新深亚微米X射线T型栅工艺 |
张菊芳
韩勇
彭良强
谢常青
陈大鹏
孙加兴
李兵
叶甜春
伊福庭
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《北京同步辐射装置年报》
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2001 |
0 |
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亚微米CMOSIC中自对准硅化物工艺的研究 |
王万业
徐征
刘逵
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《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
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2002 |
1
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SOC设计和制造工艺的技术现状和发展趋势 |
戴宇杰
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《中国集成电路》
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2004 |
1
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亚微米级碳化钨的生产工艺 |
宋安国
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《中国钨业》
CAS
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1994 |
0 |
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硅器时代的魔术——微处理器制造工艺详解 |
陈忠民
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《微型计算机》
北大核心
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2004 |
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ST TCG1.2可信平台采用0.15微米工艺 |
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《电子产品世界》
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2006 |
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Intel发布0.09微米工艺细节明年投产 |
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《集成电路应用》
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2002 |
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中芯国际推出差异化的0.13微米低功耗嵌入式工艺 |
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《微型机与应用》
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2013 |
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0.16微米CMOS工艺技术 |
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《中国集成电路》
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2008 |
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宏力着手0.13微米工艺 |
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《中国集成电路》
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2004 |
0 |
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工艺制造 |
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《集成电路应用》
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2007 |
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