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在双镶嵌铜互联中0.13微米器件生成用的基于PVD和ALD阻挡层的先进技术
1
作者
PrabuGopalraja SurajRengarajan 等
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期42-46,共5页
关键词
半导体制备
工艺
双镶嵌
铜
互联
0.13
微米
器件
PVD
ALD
阻挡层
下载PDF
职称材料
电脑硬件新品展示：承启FX5950U显卡
2
《网友世界》
2004年第1期61-61,共1页
关键词
电脑硬件
承启FX5950U显卡
0.13微米铜连接工艺
兼容性
显存容量
下载PDF
职称材料
TI挑战性能极限720MHz DSP闪亮登场
3
作者
钰
《电子产品世界》
2003年第04B期81-81,共1页
关键词
德州仪器公司
DSP
TMS320C6416
TMS320C6415
TMS320C6414
数字信号处理器
0.13
微米
铜
工艺
技术
下载PDF
职称材料
紫光AL220M笔记本电脑
4
作者
别理我
《电脑新时代》
2002年第11期43-43,共1页
关键词
紫光AL220M
笔记本电脑
移动处理器
0.13
微米
铜
工艺
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职称材料
题名
在双镶嵌铜互联中0.13微米器件生成用的基于PVD和ALD阻挡层的先进技术
1
作者
PrabuGopalraja SurajRengarajan 等
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期42-46,共5页
关键词
半导体制备
工艺
双镶嵌
铜
互联
0.13
微米
器件
PVD
ALD
阻挡层
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
电脑硬件新品展示：承启FX5950U显卡
2
出处
《网友世界》
2004年第1期61-61,共1页
关键词
电脑硬件
承启FX5950U显卡
0.13微米铜连接工艺
兼容性
显存容量
分类号
TP334.7 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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职称材料
题名
TI挑战性能极限720MHz DSP闪亮登场
3
作者
钰
出处
《电子产品世界》
2003年第04B期81-81,共1页
关键词
德州仪器公司
DSP
TMS320C6416
TMS320C6415
TMS320C6414
数字信号处理器
0.13
微米
铜
工艺
技术
分类号
TP332 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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职称材料
题名
紫光AL220M笔记本电脑
4
作者
别理我
出处
《电脑新时代》
2002年第11期43-43,共1页
关键词
紫光AL220M
笔记本电脑
移动处理器
0.13
微米
铜
工艺
分类号
TP368.32 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
在双镶嵌铜互联中0.13微米器件生成用的基于PVD和ALD阻挡层的先进技术
PrabuGopalraja SurajRengarajan 等
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003
0
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职称材料
2
电脑硬件新品展示：承启FX5950U显卡
《网友世界》
2004
0
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职称材料
3
TI挑战性能极限720MHz DSP闪亮登场
钰
《电子产品世界》
2003
0
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职称材料
4
紫光AL220M笔记本电脑
别理我
《电脑新时代》
2002
0
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职称材料
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