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非均匀性校正在红外杂散辐射抑制中的应用
被引量:
12
1
作者
张葆
洪永丰
史光辉
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第12期2421-2428,共8页
红外系统中常规的光机设计尚无法完全抑制杂散辐射,其残余的杂散辐射还可能引起图像异常。通过分析红外探测器非均匀性产生的原因,提出运用非均匀性校正的方法抑制红外杂散辐射,并给出了用两点温度标定法抑制杂散辐射的理论依据。对某...
红外系统中常规的光机设计尚无法完全抑制杂散辐射,其残余的杂散辐射还可能引起图像异常。通过分析红外探测器非均匀性产生的原因,提出运用非均匀性校正的方法抑制红外杂散辐射,并给出了用两点温度标定法抑制杂散辐射的理论依据。对某型三档中波红外变焦系统进行了杂散辐射分析,TracePro红外辐射仿真分析表明:系统中残余的杂散辐射主要源自变焦过程中镜片移动引起的冷反射变化,两点温度校正后红外图像的非均匀性由0.066%降低到0.027%,成功消除了视场中的阴影,得到了满意的红外图像。实验结果证明,该方法能有效改善红外系统中残余杂散辐射引起的图像异常。
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关键词
红外辐射
杂散辐射
冷
反射
100%冷阑效率
非均匀性校正
下载PDF
职称材料
题名
非均匀性校正在红外杂散辐射抑制中的应用
被引量:
12
1
作者
张葆
洪永丰
史光辉
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国科学院研究生院
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第12期2421-2428,共8页
基金
国防科技预研基金资助项目(No.1040603)
文摘
红外系统中常规的光机设计尚无法完全抑制杂散辐射,其残余的杂散辐射还可能引起图像异常。通过分析红外探测器非均匀性产生的原因,提出运用非均匀性校正的方法抑制红外杂散辐射,并给出了用两点温度标定法抑制杂散辐射的理论依据。对某型三档中波红外变焦系统进行了杂散辐射分析,TracePro红外辐射仿真分析表明:系统中残余的杂散辐射主要源自变焦过程中镜片移动引起的冷反射变化,两点温度校正后红外图像的非均匀性由0.066%降低到0.027%,成功消除了视场中的阴影,得到了满意的红外图像。实验结果证明,该方法能有效改善红外系统中残余杂散辐射引起的图像异常。
关键词
红外辐射
杂散辐射
冷
反射
100%冷阑效率
非均匀性校正
Keywords
infrared radiation
stray radiation
narcissus
100
cold-stop efficiency
non-uniformity correction
分类号
TN216 [电子电信—物理电子学]
TP391.4 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
非均匀性校正在红外杂散辐射抑制中的应用
张葆
洪永丰
史光辉
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
12
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职称材料
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