1
ULSI用193nm光刻胶的研究进展
郑金红
黄志齐
文武
《精细化工》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
9
2
193nm光刻胶的研制
郑金红
黄志齐
陈昕
焦小明
杨澜
文武
高子奇
王艳梅
《感光科学与光化学》
CSCD
2005
5
3
193nm氟化物增透膜的特性
薛春荣
易葵
邵建达
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
2
4
193nm薄膜激光诱导损伤研究
常艳贺
金春水
邓文渊
李春
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2011
1
5
193nm深紫外固体激光技术探索
郑俊娟
秘国江
王旭
毛小洁
钟国舜
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2010
1
6
193nm光学薄膜激光量热吸收测试及系统校正
靳京城
金春水
邓文渊
《分析仪器》
CAS
2011
2
7
0.1μm线宽主流光刻设备—193nm(ArF)准分子激光光刻
陈兴俊
胡松
姚汉民
刘业异
《电子工业专用设备》
2002
3
8
193nm光学光刻技术
谢常青
叶甜春
《微电子技术》
1999
4
9
193nm光刻技术延伸方法
翁寿松
《电子工业专用设备》
2004
2
10
193nm ArF准分子激光系统对LA-ICP-MS分析中不同基体的剥蚀行为和剥蚀速率探究
吴石头
许春雪
Klaus Simon
肖益林
王亚平
《岩矿测试》
CSCD
北大核心
2017
24
11
在193nm关于Si2分子的离子解离动力学的成像研究(英文)
马玉杰
李芳芳
刘嘉兴
王凤燕
《Chinese Journal of Chemical Physics》
SCIE
CAS
CSCD
2019
0
12
193nm浸入式光刻技术独树一帜
翁寿松
《电子工业专用设备》
2005
8
13
ArF放大器产生193nm,700fs脉冲
邵理修
《强激光技术进展》
1994
0
14
非理想参数下193nm光学薄膜的设计
袁景梅
易葵
齐红基
范正修
邵建达
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
12
15
退火对电子束热蒸发193nm Al_2O_3/MgF_2反射膜性能的影响
尚淑珍
邵建达
沈健
易葵
范正修
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
7
16
193nm光刻投影物镜单镜支撑仿真分析及实验研究
田伟
王平
王汝冬
王立朋
隋永新
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
7
17
低损耗193nm增透膜
尚淑珍
邵建达
范正修
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
9
18
193nm氟化物高反膜研究
薛春荣
易葵
邵建达
范正修
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
4
19
光刻机系统中193nm薄膜的研究进展
尚淑珍
易葵
邵建达
范正修
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2006
2
20
高反射率193nm反射膜的实现
尚淑珍
赵祖欣
邵建达
范正修
《应用激光》
CSCD
北大核心
2008
2