期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
血塞通与经络平衡器联用治疗缺血性脑血管病临床分析 被引量:1
1
作者 陈青 薛慎伍 +3 位作者 胡荣东 潘继军 王惠 吴秀琪 《现代康复》 CSCD 1999年第2期226-226,共1页
1997年11月至1998年2月,我们采用血塞通及济南得康健身器材有限公司生产的经络平衡器(下称平衡器)治疗缺血性脑血管病(ICVD)患者55例,取得良好疗效,现报告如下。1临床资料1.1一般资料本文55例均为老年男... 1997年11月至1998年2月,我们采用血塞通及济南得康健身器材有限公司生产的经络平衡器(下称平衡器)治疗缺血性脑血管病(ICVD)患者55例,取得良好疗效,现报告如下。1临床资料1.1一般资料本文55例均为老年男性,年龄61~73岁(65±6岁)... 展开更多
关键词 血塞通 经络平衡器 缺血性脑血管病 1cvd 中药品
下载PDF
Ge组分渐变的Si_(1-x-y)Ge_xC_y薄膜的制备
2
作者 李志兵 王荣华 +4 位作者 韩平 李向阳 龚海梅 施毅 张荣 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期305-308,共4页
用化学气相淀积方法在Si(100)衬底上外延生长了Ge组分最高约0.40的组分渐变的Si1-x-yGexCy合金薄膜, 研究了生长温度等工艺参数的影响.结果表明,生长温度和C2H4分压的提高均导致薄膜中碳组分的增加和合金薄膜晶格常数的减小,这表明外... 用化学气相淀积方法在Si(100)衬底上外延生长了Ge组分最高约0.40的组分渐变的Si1-x-yGexCy合金薄膜, 研究了生长温度等工艺参数的影响.结果表明,生长温度和C2H4分压的提高均导致薄膜中碳组分的增加和合金薄膜晶格常数的减小,这表明外延薄膜中的C主要以替位式存在.C掺入量的变化可有效地调节薄膜的禁带宽度,而提高生长温度有助于改善 Si1-x-yGexCy薄膜的的晶体质量.组分渐变的Si1-x-yGexCy合金薄膜包括由因衬底中Si原子扩散至表面与GeH4、 C2H4反应而生成的Si1-x-yGexCy外延层和由Si1-x-yGexCy外延层中Ge原子向衬底方向扩散而形成的Si1-xGex层. 展开更多
关键词 金属材料 Ni1-x-uGexCy合金薄膜 化学气相淀积(CVD)
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部