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2和4混水平U-型设计在可卷L_2-偏差下的下界 被引量：2
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作者 雷轶菊 《北京教育学院学报（自然科学版）》 2016年第1期1-4,共4页
可卷L_2-偏差已被广泛地应用于评价部分因子设计的均匀性.研究了具有2和4混水平的非对称设计在可卷L_2-偏差下偏差值的下界,它可以作为寻找可卷L_2-偏差下具有2和4混水平的非对称U-型均匀设计的一个基准.
关键词 2和4混水平 U-型设计 可卷L2-偏差 下界
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