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2-羟甲基氯雷他定和4-羟甲基氯雷他定的合成路线研究
1
作者
徐理
张泽宇
+1 位作者
贺美
田磊
《当代化工》
CAS
2020年第5期766-769,共4页
氯雷他定糖浆制剂生产和存储过程中会产生的两种杂质(2-羟甲基氯雷他定Ⅱ和4-羟甲基氯雷他定Ⅲ)。两种杂质的成功合成将有助于氯雷他定的杂质去除以及用药安全的相关研究。以氯雷他定(Ⅰ)为原料氧化生成N-氧化物Ⅳ,然后转化为N-甲氧基...
氯雷他定糖浆制剂生产和存储过程中会产生的两种杂质(2-羟甲基氯雷他定Ⅱ和4-羟甲基氯雷他定Ⅲ)。两种杂质的成功合成将有助于氯雷他定的杂质去除以及用药安全的相关研究。以氯雷他定(Ⅰ)为原料氧化生成N-氧化物Ⅳ,然后转化为N-甲氧基吡啶鎓盐Ⅴ,再经亲核反应生成腈化物Ⅵ和Ⅶ的混合物,Ⅵ和Ⅶ是生成物中的主要成分(4∶1)。Ⅵ和Ⅶ通过Pinner反应生成酯Ⅷ和Ⅸ,经DIBAL-H还原后得到目标产物2-羟甲基氯雷他定Ⅱ与4-羟甲基氯雷他定Ⅲ。2-羟甲基氯雷他定和4-羟甲基氯雷他定的结构经1H-NMR谱和MS谱证实,纯度经HPLC测定分别为99.38%和99.41%。
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关键词
氯
雷他
定
2-羟甲基氯雷他定
4
-
羟
甲基
氯
雷他
定
抗组胺
杂质
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职称材料
题名
2-羟甲基氯雷他定和4-羟甲基氯雷他定的合成路线研究
1
作者
徐理
张泽宇
贺美
田磊
机构
长江大学资源与环境学院
长江大学石油工程学院
出处
《当代化工》
CAS
2020年第5期766-769,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(41472124)
中国石油科技创新基金研究项目(2016D-5007-0702)
湖北省自然科学基金(2016CFB178)
文摘
氯雷他定糖浆制剂生产和存储过程中会产生的两种杂质(2-羟甲基氯雷他定Ⅱ和4-羟甲基氯雷他定Ⅲ)。两种杂质的成功合成将有助于氯雷他定的杂质去除以及用药安全的相关研究。以氯雷他定(Ⅰ)为原料氧化生成N-氧化物Ⅳ,然后转化为N-甲氧基吡啶鎓盐Ⅴ,再经亲核反应生成腈化物Ⅵ和Ⅶ的混合物,Ⅵ和Ⅶ是生成物中的主要成分(4∶1)。Ⅵ和Ⅶ通过Pinner反应生成酯Ⅷ和Ⅸ,经DIBAL-H还原后得到目标产物2-羟甲基氯雷他定Ⅱ与4-羟甲基氯雷他定Ⅲ。2-羟甲基氯雷他定和4-羟甲基氯雷他定的结构经1H-NMR谱和MS谱证实,纯度经HPLC测定分别为99.38%和99.41%。
关键词
氯
雷他
定
2-羟甲基氯雷他定
4
-
羟
甲基
氯
雷他
定
抗组胺
杂质
Keywords
Loratadine
2
-
and 4
-
hydroxymethyl loratadine
Antihiatamine
Impurities
分类号
TQ031.2 [化学工程]
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作者
出处
发文年
被引量
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1
2-羟甲基氯雷他定和4-羟甲基氯雷他定的合成路线研究
徐理
张泽宇
贺美
田磊
《当代化工》
CAS
2020
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