期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
256M/1G DRAM工艺及前道制造设备 被引量:1
1
作者 翁寿松 《电子工业专用设备》 1997年第2期12-18,共7页
介绍256M/1GDRAM产品技术指标、工艺及前道制造设备,包括光刻机、腐蚀设备、离子注入设备、热处理设备。
关键词 256m/1g DRAm 设备 半导体制造工艺 光刻
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部