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2H-SiC体材料电子输运特性的EMC研究
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作者 王平 杨银堂 +2 位作者 崔占东 杨燕 付俊兴 《西北大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期541-544,548,共5页
目的 对2H SiC体材料的电子输运特性进行研究。方法 在最新能带结构计算的基础之上,采用非抛物性能带模型和多粒子蒙特卡罗(EnsembleMonteCarlo,EMC)方法。结果 计算表明:低场下,温度一定时,2H SiC纵向电子迁移率比4H SiC和6H SiC都... 目的 对2H SiC体材料的电子输运特性进行研究。方法 在最新能带结构计算的基础之上,采用非抛物性能带模型和多粒子蒙特卡罗(EnsembleMonteCarlo,EMC)方法。结果 计算表明:低场下,温度一定时,2H SiC纵向电子迁移率比4H SiC和6H SiC都高,横向迁移率则较为接近。296K时,由EMC方法得到的纵向电子饱和漂移速度为2.2×107cm/s,横向电子饱和漂移速度为2.0×107cm/s。当电场条件相同时,2H SiC同4H SiC以及6H SiC中的纵向电子平均能量相差较大。在阶跃电场强度为1000kV/cm时,其横向瞬态速度峰值可达到3.2×107cm/s,反应时间仅为百分之几皮秒量级。结论 可以被用来设计SiC器件和电路。 展开更多
关键词 2h-sic 多粒子蒙特卡罗研究 迁移率 漂移速度 平均能量
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强激光照射对2H-SiC晶体电子特性的影响
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作者 邓发明 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第22期348-356,共9页
使用基于密度泛函微扰理论的第一原理赝势法,计算了纤锌矿结构2H-SiC晶体在强激光照射下的电子特性,分析了其能带结构和电子态分布.计算结果表明:2H-SiC平衡晶格参数a和c随电子温度Te的升高逐渐增大;电子温度在0—2.25 eV范围内时,2H-Si... 使用基于密度泛函微扰理论的第一原理赝势法,计算了纤锌矿结构2H-SiC晶体在强激光照射下的电子特性,分析了其能带结构和电子态分布.计算结果表明:2H-SiC平衡晶格参数a和c随电子温度Te的升高逐渐增大;电子温度在0—2.25 eV范围内时,2H-SiC仍然是间接带隙的半导体晶体,当Te超过2.25 eV达到2.5 eV以上时,2H-SiC变为直接带隙的半导体晶体;随着电子温度升高,导带底和价带顶向高能量或低能量方向发生了移动,当电子温度Te大于3.5 eV以后,价带顶穿越费米能级;电子温度Te在0—2.0 eV变化时,带隙随电子温度升高而增大;Te在2.0—3.5 eV范围变化时,带隙随电子温度升高而快速地减少,表明2H-SiC晶体的金属性随电子温度Te的继续升高而增强.在Te=0,5.0 eV处,计算了2H-SiC晶体总的电子态密度和分波态密度.电子结构表明Te=0 eV时,2H-SiC是一个带隙为2.3 eV的半导体;在Te=5.0 eV时,带隙已经消失而呈现出金属特性,表明当电子温度升高时晶体的共价键变弱、金属键增强,晶体经历了一个熔化过程,过渡到金属状态. 展开更多
关键词 2h-sic 电子特性 激光照射 密度泛函微扰理论
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2H-SiC Dendritic Nanocrystals In Situ Formation from Amorphous Silicon Carbide under Electron Beam Irradiation
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作者 Li Xianxiang Hu Xiaobo Jiang Shouzheng Dong Jie Xu Xiangang Jiang Minhua 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第z1期54-55,共2页
Under electron beam irradiation, the in-situ formation of 2H-SiC dentritic nanocrystals from amorphous silicon carbide at room temperature was observed. The homogenous transition mainly occurs at the thin edge and on ... Under electron beam irradiation, the in-situ formation of 2H-SiC dentritic nanocrystals from amorphous silicon carbide at room temperature was observed. The homogenous transition mainly occurs at the thin edge and on the surface of specimen where the energy obtained from electron beam irradiation is high enough to cause the amorphous crystallizing into 2H-SiC. 展开更多
关键词 electron BEAM IRRADIATION 2h-sic DENDRITIC nanocrystal AMORPHOUS silicon CARBIDE
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红外反射法研究6H-SiC表面热氧化生长的SiO_2特性 被引量:2
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作者 钟志亲 刘洪军 +3 位作者 袁菁 王欧 刘畅 龚敏 《光散射学报》 2004年第3期256-259,共4页
本文利用红外反射峰位置与薄膜厚度及密度的关系研究了在SiC衬底上热氧化生长出的SiO2在退火前及在不同温度用高N2退火一小时后的1085cm-1附近红外反射峰的漂移情况,分析了SiO2的密度变化。密度的变化反映了退火中SiO2中的C和CO的扩散... 本文利用红外反射峰位置与薄膜厚度及密度的关系研究了在SiC衬底上热氧化生长出的SiO2在退火前及在不同温度用高N2退火一小时后的1085cm-1附近红外反射峰的漂移情况,分析了SiO2的密度变化。密度的变化反映了退火中SiO2中的C和CO的扩散以及空位型缺陷的退火过程。 展开更多
关键词 红外反射谱 峰位漂移 Sio2/6h-sic 退火
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基于磷钝化栅介质的1.2kV 4H-SiC DMOSFET 被引量:1
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作者 刘佳佳 刘英坤 +2 位作者 谭永亮 张力江 崔玉兴 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第8期2026-2029,共4页
本文对比了NO退火和磷掺杂两种栅钝化工艺,其中磷钝化采用了平面扩散源进行掺杂,通过C-V特性进行了4H-SiC/SiO2界面特性评价,使用Terman法分析计算获得距导带底0.2-0.4e V范围内界面态密度.结果表明引入磷比氮能更有效降低界面态密度,... 本文对比了NO退火和磷掺杂两种栅钝化工艺,其中磷钝化采用了平面扩散源进行掺杂,通过C-V特性进行了4H-SiC/SiO2界面特性评价,使用Terman法分析计算获得距导带底0.2-0.4e V范围内界面态密度.结果表明引入磷比氮能更有效降低界面态密度,提高沟道载流子迁移率.其次,对比了两种栅钝化工艺制备的4H-SiC DMOSFET器件性能,实验表明采用磷钝化工艺处理的器件性能更优.最后,基于磷掺杂钝化工艺首次制备出击穿电压为1200V、导通电阻为20mΩ、漏源电流为75 A、阈值电压为2.4V的4H-SiC DMOSFET. 展开更多
关键词 4h-sic MOSFET 4h-sic/SiO2界面 磷钝化 界面态密度
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First-principles investigation on initial stage of 2H-SiC(001) surface oxidation 被引量:1
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作者 WANG JunJie ZHANG LiTong +2 位作者 ZENG QingFeng VIGNOLES L Gerard GUETTE Alain 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2009年第9期1487-1494,共8页
We present comprehensive first-principles calculations on the initial stages of SiC oxidation by atomic oxygen on the 2H-SiC(001) surface. In order to study the kinetics of oxygen incorporation at the 2H-SiC(001) surf... We present comprehensive first-principles calculations on the initial stages of SiC oxidation by atomic oxygen on the 2H-SiC(001) surface. In order to study the kinetics of oxygen incorporation at the 2H-SiC(001) surface, we investigated adsorption and diffusion of oxygen atoms and SiO2 nucleation. The adsorption sites, corresponding to the local minima of the potential energy surface (PES) for iso-lated adatoms, were identified through a comparative study of the adatom binding energy at different locations. We found that the Bridge (siloxane) site is preferred over other adsorption sites. There is no energy barrier at 0K for oxygen insertion into this site. The diffusion energy barriers that the adatom has to overcome when jumping between two adsorption sites were calculated. The premises of silica nucleation were investigated by calculating the modifications of the oxygen atom binding energy due to the interaction with neighboring adatoms. 展开更多
关键词 第一性原理计算 表面氧化 碳化硅 原子结合能 吸附位 SIO2 局部极小 二氧化硅
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SiO2/4H-SiC界面氮化退火
7
作者 赵艳黎 李诚瞻 +2 位作者 陈喜明 王弋宇 申华军 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第3期215-218,共4页
通过1 300℃高温干氧热氧化法在n型4H-SiC外延片上生长了厚度为60 nm的SiO2栅氧化层。为了开发适合于生长低界面态密度和高沟道载流子迁移率的SiC MOSFET器件产品的栅极氧化层退火条件,研究了不同退火条件下的SiO2/SiC界面电学特性参数... 通过1 300℃高温干氧热氧化法在n型4H-SiC外延片上生长了厚度为60 nm的SiO2栅氧化层。为了开发适合于生长低界面态密度和高沟道载流子迁移率的SiC MOSFET器件产品的栅极氧化层退火条件,研究了不同退火条件下的SiO2/SiC界面电学特性参数。制作了MOS电容和横向MOSFET器件,通过表征SiO2栅氧化层C-V特性和MOSFET器件I-V特性,提取平带电压、C-V磁滞电压、SiO2/SiC界面态密度和载流子沟道迁移率等电学参数。实验结果表明,干氧氧化形成SiO2栅氧化层后,在1 300℃通入N2退火30 min,随后在相同温度下进行NO退火120 min,为最佳栅极氧化层退火条件,此时,SiO2/SiC界面态密度能够降低至2.07×1012cm-2·e V^(-1)@0.2 e V,SiC MOSFET沟道载流子迁移率达到17 cm2·V^(-1)·s^(-1)。 展开更多
关键词 SiO2/4h-sic 氮化退火 界面态密度 平带电压 C-V磁滞电压 迁移率
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Simulation of near-infrared photodiode detectors based on β-FeSi_2/4H-SiC heterojunctions 被引量:1
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作者 蒲红斌 贺欣 +2 位作者 全汝岱 曹琳 陈治明 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第3期447-452,共6页
In this paper,we propose a near-infrared p-type β-FeSi2/n-type 4H-SiC heterojunction photodetector with semiconducting silicide(β-FeSi2) as the active region for the first time.The optoelectronic characteristics o... In this paper,we propose a near-infrared p-type β-FeSi2/n-type 4H-SiC heterojunction photodetector with semiconducting silicide(β-FeSi2) as the active region for the first time.The optoelectronic characteristics of the photodetector are simulated using a commercial simulator at room temperature.The results show that the photodetector has a good rectifying character and a good response to near-infrared light.Interface states should be minimized to obtain a lower reverse leakage current.The response spectrum of the β-FeSi2/4H-SiC detector,which consists of a p-type β-FeSi2 absorption layer with a doping concentration of 1×1015cm-3 and a thickness of 2.5 μm,has a peak of 755 mA/W at 1.42 μm.The illumination of the SiC side obtains a higher responsivity than that of the β-FeSi2 side.The results illustrate that the β-FeSi2/4H-SiC heterojunction can be used as a near-infrared photodetector compatible with near-infrared optically-activated SiC-based power switching devices. 展开更多
关键词 β-FeSi2/4h-sic near-infrared photodetector spectral response
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Band alignment of Ga_2O_3/6H-SiC heterojunction
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作者 常少辉 陈之战 +4 位作者 黄维 刘学超 陈博源 李铮铮 施尔畏 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第11期382-385,共4页
A high-quality Ga2O3 thin film is deposited on an SiC substrate to form a heterojunction structure. The band alignment of the Ga2O3/6H-SiC heterojunction is studied by using synchrotron radiation photoelectron spectro... A high-quality Ga2O3 thin film is deposited on an SiC substrate to form a heterojunction structure. The band alignment of the Ga2O3/6H-SiC heterojunction is studied by using synchrotron radiation photoelectron spectroscopy, The energy band diagram of the Ga2O3/6H-SiC heterojunction is obtained by analysing the binding energies of Ga 3d and Si 2p at the surface and the interface of the heterojunction. The valence band offset is experimentally determined to be 2.8 eV and the conduction band offset is calculated to be 0.89 eV, which indicate a type-II band alignment. This provides useful guidance for the application of Ga2O3/6H-SiC electronic devices. 展开更多
关键词 band alignment Ga2O3/6h-sic synchrotron radiation photoelectron spectroscopy
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β-Ga_(2)O_(3)/4H-SiC异质结界面的结构和电子性质
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作者 王佳琳 师俊杰 +4 位作者 彭彦军 周泽民 周雄 桂庆忠 郭宇铮 《武汉大学学报(工学版)》 CAS CSCD 北大核心 2024年第2期217-222,共6页
利用第一性原理计算,系统性地研究了β-Ga_(2)O_(3)/4H-SiC异质结界面的结构和电子性质。利用满足电子计数规则的成键模型,构建了具有粗糙度小和带隙干净的绝缘界面,Si-O键在该界面的化学键中占主导地位。计算结果表明:对于β-Ga_(2)O_... 利用第一性原理计算,系统性地研究了β-Ga_(2)O_(3)/4H-SiC异质结界面的结构和电子性质。利用满足电子计数规则的成键模型,构建了具有粗糙度小和带隙干净的绝缘界面,Si-O键在该界面的化学键中占主导地位。计算结果表明:对于β-Ga_(2)O_(3)和4H-SiC而言,利用杂化泛函计算得到的带隙分别为4.7 eV和3.35 eV,与实验值吻合较好;对于β-Ga_(2)O_(3)/4H-SiC异质结界面,该界面表现出半导体特性,其直接带隙为0.46 eV;同时,β-Ga_(2)O_(3)与4H-SiC形成Ⅱ型能带对齐,计算得到的价带偏移为1.72 eV,导带偏移为0.18 eV。所得结果对设计基于β-Ga_(2)O_(3)和4HSiC的电子器件具有重要意义。 展开更多
关键词 Ga_(2)O_(3)/4h-sic异质结 界面性质 能带对齐 第一性原理计算
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以石墨烯为碳源对SiC纳米颗粒的制备和表征
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作者 唐侠侠 姚宝殿 郝惠莲 《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2016年第4期121-124,共4页
采用石墨烯和Si粉为原材料,利用气固法在无催化剂的条件下成功制备出耐高温、抗氧化、抗辐射的宽带隙半导体材料——Si C纳米颗粒,并研究不同的煅烧条件对实验样品的影响。实验样品经X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微... 采用石墨烯和Si粉为原材料,利用气固法在无催化剂的条件下成功制备出耐高温、抗氧化、抗辐射的宽带隙半导体材料——Si C纳米颗粒,并研究不同的煅烧条件对实验样品的影响。实验样品经X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)以及拉曼光谱(Raman)等手段进行分析表征测试。结果表明,在没有催化剂参与的情况下,将石墨烯和Si粉置于石墨坩埚中,并抽真空10^(-3)Pa条件下成功制备了3C-Si C和2H-Si C混合晶型的纳米颗粒。 展开更多
关键词 3C-SIC 2h-sic 石墨烯 气固法
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Photoelectric properties of p-β-FeSi_2/n-4H-SiC heteroj unction near-infrared photodiode 被引量:1
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作者 郑春蕾 蒲红斌 +1 位作者 李虹 陈治明 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2015年第5期58-60,共3页
We give the first report on the experimental investigation of a p-β-FeSi2/n-4H-SiC heterojunction. A β-/%FeSiE/n-4H-SiC heterojunction near-infrared photodiode was fabricated on 4H-SiC substrate by magnetron sputter... We give the first report on the experimental investigation of a p-β-FeSi2/n-4H-SiC heterojunction. A β-/%FeSiE/n-4H-SiC heterojunction near-infrared photodiode was fabricated on 4H-SiC substrate by magnetron sputtering and rapid thermal annealing (RTA). Sharp film-substrate interfaces were confirmed by scanning elec-tron microscopy (SEM). The current density-voltage and photoresponse characteristics were measured. The measurements showed that the device exhibited good rectifying properties. The photocurrent density was about 1.82 mA/cm^2 at a bias voltage of -1 V under illumination by a 5 mW, 1.31 μm laser, and the dark current density was approximately 0.537 mA/cm^2. The detectivity was estimated to be 8.8×10^9 cmHzl/2/W at 1.31 μm. All of the measurements were made at room temperature. The results suggest that the p-β-FeSiE/n-4H-SiC heterojunctions can be used as near-infrared photodiodes that are applicable to optically-activated SiC-based devices. 展开更多
关键词 Β-FESI2 magnetron sputtering p-β-FeSi2/n-4h-sic heterojunction photoelectric properties
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