含氯低pH值溶液中BDT自组装膜对铜电极的缓蚀行为

采用分子自组装技术,在铜电极表面形成一层1,3-二巯基硫醇(BDT)单分子自组装膜。通过交流阻抗、极化曲线和循环伏安等电化学方法探讨该自组装膜在3%NaCl溶液中对铜电极的缓蚀作用。实验表明:BDT能够有效地组装到铜的表面形成单分子自组装膜,BDT自组装膜能有效地抑制铜基底在3%NaCl腐蚀介质以及酸性NaCl溶液中的腐蚀行为;缓蚀效率随组装时间的延长逐渐升高并趋于稳定,在pH值较低的溶液中仍具有较好的缓蚀效果;当BDT浓度为1.0×10-2mol/L、组装时间为40h时,铜电极的腐蚀电流最小,缓蚀效率最好。