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当前IC的工艺与技术新动向
被引量:
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作者
翁寿松
《电子工业专用设备》
2002年第1期7-10,共4页
介绍了当前IC几项新工艺、新技术的发展动向 ,包括设计尺寸微细化工艺、30 0mm圆片工艺、铜互连技术、无铅工艺和嵌入式技术。
关键词
IC工艺
微细化
300nm圆片
下载PDF
职称材料
题名
当前IC的工艺与技术新动向
被引量:
5
1
作者
翁寿松
机构
无锡市无线电元件四厂
出处
《电子工业专用设备》
2002年第1期7-10,共4页
文摘
介绍了当前IC几项新工艺、新技术的发展动向 ,包括设计尺寸微细化工艺、30 0mm圆片工艺、铜互连技术、无铅工艺和嵌入式技术。
关键词
IC工艺
微细化
300nm圆片
Keywords
IC process
Microminaturization
300
mm wafer
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
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1
当前IC的工艺与技术新动向
翁寿松
《电子工业专用设备》
2002
5
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