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高压大功率晶体管3DD155K抗辐照设计
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作者 高广亮 张小平 +3 位作者 刘帅 苏舟 王朝莹 刘威 《微处理机》 2022年第4期22-25,共4页
为应对星用电子装备对器件可靠性不断提高的需求、进一步提高高压NPN型功率晶体管的抗辐照能力,对高耐压大功率晶体管3DD155K进行了抗辐照加固设计。设计基于辐照效应对双极型器件的主要损伤机理,综合考虑产品芯片横、纵向结构参数及制... 为应对星用电子装备对器件可靠性不断提高的需求、进一步提高高压NPN型功率晶体管的抗辐照能力,对高耐压大功率晶体管3DD155K进行了抗辐照加固设计。设计基于辐照效应对双极型器件的主要损伤机理,综合考虑产品芯片横、纵向结构参数及制造工艺等因素,在满足高耐压与高放大倍数指标前提下,选择合适的高阻层电阻率及厚度,设计适当的基区宽度、浓度及发射区尺寸等,加强复合型表面钝化层在提高抗辐照能力方面的作用。经实验,改进设计后的产品能够在星用场合下实现稳定可靠的运行。 展开更多
关键词 抗辐照 3dd155k型晶体管 高压大功率 放大倍数
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