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2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖的合成与表征
被引量:
4
1
作者
温辉梁
方志杰
+1 位作者
胡海威
赵燕
《应用化学》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第1期35-39,共5页
以蔗糖为原料通过羟基的选择性保护、脱保护及迁移合成了三氯蔗糖的中间体2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖(6-PAS)。在蔗糖羟基的选择性保护反应中采用4-二甲氨基吡啶(DMAP)为催化剂,有效地提高了产率,并利用HPLC对选择性脱保护和乙酰基迁...
以蔗糖为原料通过羟基的选择性保护、脱保护及迁移合成了三氯蔗糖的中间体2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖(6-PAS)。在蔗糖羟基的选择性保护反应中采用4-二甲氨基吡啶(DMAP)为催化剂,有效地提高了产率,并利用HPLC对选择性脱保护和乙酰基迁移2步反应进行跟踪,确定了较优的合成路线。并用核磁共振和红外光谱对产品进行表征。羟基选择性保护最佳反应条件为:使用质量分数为10%的催化剂,三苯甲基化反应在50℃进行4 h,乙酰化反应在105℃进行3 h。在该条件下进行反应,产率为81.9%。
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关键词
三氯蔗糖
6-pas
合成
高效液相色谱
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职称材料
蔗糖羟基保护的选择性去除
被引量:
1
2
作者
吴福忠
张平
+2 位作者
蔡水洪
龙中柱
徐轶
《华东理工大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期21-24,共4页
将蔗糖全基团保护物(TRISPA)中羟基的保护基团进行选择性去除,制备出高纯度的2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖(6-PAS),并用1H-NMR和质谱、FT-IR表征了产物的结构特征。考察了水分和反应温度对选择性去除羟基上保护基团的影响,采用了去除...
将蔗糖全基团保护物(TRISPA)中羟基的保护基团进行选择性去除,制备出高纯度的2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖(6-PAS),并用1H-NMR和质谱、FT-IR表征了产物的结构特征。考察了水分和反应温度对选择性去除羟基上保护基团的影响,采用了去除羟基上保护基团和乙酰基迁移一体化反应,反应的选择性80%,6-PAS收率52%,液相色谱分析6-PAS的纯度为99%。
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关键词
羟基的去保护
选择性
6-pas
一体化反应
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职称材料
题名
2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖的合成与表征
被引量:
4
1
作者
温辉梁
方志杰
胡海威
赵燕
机构
南京理工大学化工学院
南昌大学食品科学教育部重点实验室 南昌
南昌大学化学系
南昌大学食品科学教育部重点实验室
出处
《应用化学》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第1期35-39,共5页
基金
南昌大学食品科学教育部重点实验室开放基金资助项目(NCU200407)
国家科技部科技型中小企业技术创新基金(03C26213600613)
文摘
以蔗糖为原料通过羟基的选择性保护、脱保护及迁移合成了三氯蔗糖的中间体2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖(6-PAS)。在蔗糖羟基的选择性保护反应中采用4-二甲氨基吡啶(DMAP)为催化剂,有效地提高了产率,并利用HPLC对选择性脱保护和乙酰基迁移2步反应进行跟踪,确定了较优的合成路线。并用核磁共振和红外光谱对产品进行表征。羟基选择性保护最佳反应条件为:使用质量分数为10%的催化剂,三苯甲基化反应在50℃进行4 h,乙酰化反应在105℃进行3 h。在该条件下进行反应,产率为81.9%。
关键词
三氯蔗糖
6-pas
合成
高效液相色谱
Keywords
sucralose,
6-pas
, synthesis, HPLC
分类号
O529.1 [理学—高压高温物理]
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职称材料
题名
蔗糖羟基保护的选择性去除
被引量:
1
2
作者
吴福忠
张平
蔡水洪
龙中柱
徐轶
机构
华东理工大学化工学院
上海东岳生物化工有限公司
出处
《华东理工大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期21-24,共4页
文摘
将蔗糖全基团保护物(TRISPA)中羟基的保护基团进行选择性去除,制备出高纯度的2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖(6-PAS),并用1H-NMR和质谱、FT-IR表征了产物的结构特征。考察了水分和反应温度对选择性去除羟基上保护基团的影响,采用了去除羟基上保护基团和乙酰基迁移一体化反应,反应的选择性80%,6-PAS收率52%,液相色谱分析6-PAS的纯度为99%。
关键词
羟基的去保护
选择性
6-pas
一体化反应
Keywords
detritylation
selectivity
6-pas
integrative reaction
分类号
TQ028 [化学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖的合成与表征
温辉梁
方志杰
胡海威
赵燕
《应用化学》
CAS
CSCD
北大核心
2007
4
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职称材料
2
蔗糖羟基保护的选择性去除
吴福忠
张平
蔡水洪
龙中柱
徐轶
《华东理工大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2009
1
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职称材料
已选择
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