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高硅铝合金无烟化学抛光剂的研制
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作者 张聚国 余向阳 +1 位作者 刘芳 江志平 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2015年第12期49-50,8,共2页
目前以H3PO4、H2SO4为基础的两酸无烟化学抛光体系对高硅铝合金的抛光效果不理想。在磷酸+硫酸+双氧水的基础液中,添加一定量的硫酸铁、三氧化二铬以及过硫酸铵,考察了不同质量的添加物对6063高硅铝合金化学抛光效果的影响。采用简单正... 目前以H3PO4、H2SO4为基础的两酸无烟化学抛光体系对高硅铝合金的抛光效果不理想。在磷酸+硫酸+双氧水的基础液中,添加一定量的硫酸铁、三氧化二铬以及过硫酸铵,考察了不同质量的添加物对6063高硅铝合金化学抛光效果的影响。采用简单正交试验方式,以试样的反光率及麻点数量表征试样的抛光效果,优选了较优的抛光液成分。结果表明:按硫酸(85%)10 m L、磷酸(95%)20 m L、双氧水2 m L、硫酸铁0.1 g、三氧化二铬0.1 g、过硫酸铵0.1 g配制的抛光液抛光效果最佳。 展开更多
关键词 化学抛光 6063高硅铝合金 添加剂
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