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65纳米系统级LSI工艺技术获突破
1
《电子质量》
2003年第2期93-94,共2页
关键词
大规模集成电路
LSI
65
纳米
系统级LSI
工艺技术
东芝
索尼
下载PDF
职称材料
德州仪器计划于2005年推出采用创新型65纳米半导体工艺技术的样片
2
《当代通信》
2004年第6期63-63,共1页
关键词
德州仪器公司
2005年
65
纳米
半导体
工艺技术
晶体管
发展规划
片上系统
下载PDF
职称材料
Applied Cadence与佳能合作将X结构引入65纳米
3
《集成电路应用》
2004年第4期85-85,共1页
关键词
应用材料公司
佳能公司
X结构
65纳米工艺技术
下载PDF
职称材料
题名
65纳米系统级LSI工艺技术获突破
1
出处
《电子质量》
2003年第2期93-94,共2页
关键词
大规模集成电路
LSI
65
纳米
系统级LSI
工艺技术
东芝
索尼
分类号
TN47 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
德州仪器计划于2005年推出采用创新型65纳米半导体工艺技术的样片
2
出处
《当代通信》
2004年第6期63-63,共1页
关键词
德州仪器公司
2005年
65
纳米
半导体
工艺技术
晶体管
发展规划
片上系统
分类号
TN32 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
Applied Cadence与佳能合作将X结构引入65纳米
3
出处
《集成电路应用》
2004年第4期85-85,共1页
关键词
应用材料公司
佳能公司
X结构
65纳米工艺技术
分类号
F407.63 [经济管理—产业经济]
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职称材料
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作者
出处
发文年
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1
65纳米系统级LSI工艺技术获突破
《电子质量》
2003
0
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职称材料
2
德州仪器计划于2005年推出采用创新型65纳米半导体工艺技术的样片
《当代通信》
2004
0
下载PDF
职称材料
3
Applied Cadence与佳能合作将X结构引入65纳米
《集成电路应用》
2004
0
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