方形阵列端面研磨技术研究

使用不饱和聚酯树脂、V型定位槽和定位模具制成8×8方形光纤阵列(多芯)。采用四角加压固定研磨方法进行研磨,探究了方形光纤阵列(多芯)的表面粗糙度和表面最大高度差与研磨转速和研磨压力之间的关系。结果表明,当研磨转速是12 rpm,研磨压力为2 kPa时,方形光纤阵列(多芯)表面状态最适宜,此时Ra等于10 nm、表面最大高度差为5.5μm。研磨压力对于表面粗糙度和最大高度差均有影响,而研磨转速对表面最大高度差无明显影响。