NEC和Tokuyama联合推出用于8nm线宽的电子束光刻胶

NEC公司和Tokuyama公司合作开发的电子束光刻胶能够实现8nm线宽的光刻,边缘粗糙度小于1nm。该电子束光刻胶的成分为氯甲基杯4芳烃,这种烃是由4个苯环结成的直径为0.7nm的环。该产品的原子量很小,因而可达到8nm的分辨率,同时这种材料不易结晶。