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A:Al_2O_3(A=Cr,Fe,Ni)晶体生长及其缺陷研究
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作者 范修军 王越 徐宏 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期1266-1272,共7页
报道了A:Al2O3(A=Cr,Fe,Ni)晶体光学浮区法生长工艺,研究了旋转速率、生长速率对晶体质量的影响,制备出了φ6-8 mm、长度为60-80 mm的A:Al2O3晶体.A:Al2O3晶体的生长方向为〈001〉方向,X射线双晶摇摆曲线表明A:Al2O3晶体具有良好... 报道了A:Al2O3(A=Cr,Fe,Ni)晶体光学浮区法生长工艺,研究了旋转速率、生长速率对晶体质量的影响,制备出了φ6-8 mm、长度为60-80 mm的A:Al2O3晶体.A:Al2O3晶体的生长方向为〈001〉方向,X射线双晶摇摆曲线表明A:Al2O3晶体具有良好的晶体质量.通过X射线衍射、扫描电镜、偏光显微镜对晶体中的生长缺陷进行了研究,结果表明,A:Al2O3晶体的主要缺陷为小角度晶界、包裹体和溶质尾迹.研究了A:Al2O3晶体的光谱性能,并对A:Al2O3晶体的介电性能进行了测量,室温下1000 kHz时A:Al2O3晶体表现出较高的介电系数εr(12.1-15.7)和较小的介电损耗tanδ(0.0020-0.0002). 展开更多
关键词 a:al2o3 晶体生长 光学浮区法 晶体缺陷
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