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TDI用于UV半导体发射器的A1GaN衬底
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《电子产品世界》 2005年第04B期46-46,共1页
Technologies and Devices International公司(TDI)推出一种新产品样品,蓝宝石A1GaN模板。蓝宝石A1GaN材料在紫外线(UV)光谱区为透明,针对高功率基于GaN的UV发光二极管应用,包括工作在波长为250nm或更长应用的深UV发射器。工作在UV和... Technologies and Devices International公司(TDI)推出一种新产品样品,蓝宝石A1GaN模板。蓝宝石A1GaN材料在紫外线(UV)光谱区为透明,针对高功率基于GaN的UV发光二极管应用,包括工作在波长为250nm或更长应用的深UV发射器。工作在UV和深UV光谱区基于GaN的LED用于环境、医疗、生物技术和军事应用。此外,它们还在固态照明应用中有巨大的潜力。 展开更多
关键词 TDI公司 UV半导体发射器 a1gan衬底 蓝宝石a1gan材料
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金属-半导体-金属结构A1GaN/GaN异质结紫外探测器技术及特性 被引量:3
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作者 杨乐臣 付凯 +3 位作者 史学舜 陈坤峰 李立功 张宝顺 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第13期37-39,共3页
制备了金属-半导体-金属(MSM)结构的A1GaN/GaN异质结紫外探测器,探测器采用Ni/Au金属作为电极。实验研究了探测器的光电响应特性和I-V特性。此探测器具有两个光谱响应范围,光谱响应的峰值响应率分别为288nm处0.717A/W和366nm处0... 制备了金属-半导体-金属(MSM)结构的A1GaN/GaN异质结紫外探测器,探测器采用Ni/Au金属作为电极。实验研究了探测器的光电响应特性和I-V特性。此探测器具有两个光谱响应范围,光谱响应的峰值响应率分别为288nm处0.717A/W和366nm处0.641A/W,峰值处的量子效率分别为288nm处308oA和366nm处217%。 展开更多
关键词 探测器 紫外 a1gan GAN 金属-半导体-金属 光电探测器
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AlGaN/GaN HEMT器件的研制 被引量:18
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作者 张小玲 吕长治 +5 位作者 谢雪松 李志国 曹春海 李拂晓 陈堂胜 陈效建 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第8期847-849,共3页
介绍了AlGaN/GaNHEMT器件的研制及室温下器件特性的测试 .漏源欧姆接触采用Ti/Al/Pt/Au ,肖特基结金属为Pt/Au .器件栅长为 1μm ,获得的最大跨导为 12 0mS/mm ,最大的漏源饱和电流密度为 0 95A/mm .
关键词 a1gan/GAN HEMT 输出特性
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内建电场对GaN/AlGaN单量子点发光性质的影响 被引量:6
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作者 危书义 赵旭 +1 位作者 吴花蕊 夏从新 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2006年第2期139-144,共6页
在有效质量近似和变分原理的基础上,考虑量子点的三维约束效应,研究了GaN/AlGaN单量子点发光性质随量子点结构参数(量子点高度L和量子点半径R)的变化。结果表明:内建电场对GaN/AlGaN单量子点的发光波长和激子基态振子强度等发光性质有... 在有效质量近似和变分原理的基础上,考虑量子点的三维约束效应,研究了GaN/AlGaN单量子点发光性质随量子点结构参数(量子点高度L和量子点半径R)的变化。结果表明:内建电场对GaN/AlGaN单量子点的发光波长和激子基态振子强度等发光性质有重要的影响;量子点高度的变化对量子点发光性质的影响要比量子点半径的变化对量子点发光性质的影响更明显。 展开更多
关键词 GaN/a1gan 量子点 内建电场 振子强度
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X波段高输出功率凹栅AlGaN/GaN HEMT 被引量:4
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作者 冯震 张志国 +5 位作者 王勇 默江辉 宋建博 冯志红 蔡树军 杨克武 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1773-1776,共4页
使用自主研制的SiC衬底GaN HEMT外延材料,研制出高输出功率AlGaN/GaN HEMT,优化了器件研制工艺,比接触电阻率小于1.0×10-6Ω.cm2,电流崩塌参量小于10%,击穿电压大于80V.小栅宽器件工作电压达到40V,频率为8GHz时输出功率密度大于10W... 使用自主研制的SiC衬底GaN HEMT外延材料,研制出高输出功率AlGaN/GaN HEMT,优化了器件研制工艺,比接触电阻率小于1.0×10-6Ω.cm2,电流崩塌参量小于10%,击穿电压大于80V.小栅宽器件工作电压达到40V,频率为8GHz时输出功率密度大于10W/mm.栅宽为2mm单胞器件,工作电压为28V,频率为8GHz时,输出功率为12.3W,功率增益为4.9dB,功率附加效率为35%.四胞内匹配总栅宽为8mm器件,工作电压为27V时,频率为8GHz时,输出功率为33.8W,功率增益为6.3dB,功率附加效率为41.77%,单胞器件和内匹配器件输出功率为目前国内该器件输出功率的最高结果. 展开更多
关键词 a1gan/GAN HEMT 高输出功率 内匹配器件
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AlGaN/GaN异质结辐射感生界面态电荷对二维电子气输运的影响 被引量:5
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作者 范隆 李培咸 郝跃 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第9期937-941,共5页
根据荷电中心与自由载流子间的库仑散射作用 ,给出了异质结辐射感生界面态电荷对二维电子气 (2DEG)迁移率的散射模型 .计算了在不同沟道电子面密度下 ,界面态电荷密度与其所限制的迁移率之间的关系 .运用马德森定则分析了辐射感生界面... 根据荷电中心与自由载流子间的库仑散射作用 ,给出了异质结辐射感生界面态电荷对二维电子气 (2DEG)迁移率的散射模型 .计算了在不同沟道电子面密度下 ,界面态电荷密度与其所限制的迁移率之间的关系 .运用马德森定则分析了辐射感生界面态电荷散射对总迁移率的影响 .分析表明 ,辐射感生界面态电荷在累积到一定量后 ,会显著影响迁移率 ,一定程度上提高 展开更多
关键词 a1gan/GaN异质结 辐射 界面态电荷 二维电子气 迁移率
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Ni/AlGaN/GaN结构中肖特基势垒温度特性 被引量:2
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作者 张小玲 谢雪松 +1 位作者 吕长志 李志国 《北京工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期365-368,共4页
通过I-V测量研究了AlGaN/GaN异质结构上的肖特基接触与温度的关系.在室温下肖特基势垒高度为0.75 eV,理想因子为2.06.温度升高,肖特基势垒高度增加,理想因子下降,主要原因是受异质结和二维电子气的影响.在正向电流为1 mA时,室温下的正... 通过I-V测量研究了AlGaN/GaN异质结构上的肖特基接触与温度的关系.在室温下肖特基势垒高度为0.75 eV,理想因子为2.06.温度升高,肖特基势垒高度增加,理想因子下降,主要原因是受异质结和二维电子气的影响.在正向电流为1 mA时,室温下的正向电压为1.65 V,从室温到300℃范围内正向电压的温度系数为-1.6 mV/℃. 展开更多
关键词 肖特基接触 a1gan/GAN HEMT 温度特性
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一种带有背电极的高耐压AlGaN/GaN RESURF HEMT 被引量:4
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作者 赵子奇 杜江锋 杨谟华 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2013年第6期855-858,共4页
针对常规AlGaN/GaN RESURF高电子迁移率晶体管(HEMT)中由于沟道电场分布不均匀而导致击穿电压过低的问题,提出一种带背电极的新型AlGaN/GaN RESURF HEMT结构。该背电极通过感应诱生负电荷调制器件沟道处的电力线分布,使栅漏之间的沟道... 针对常规AlGaN/GaN RESURF高电子迁移率晶体管(HEMT)中由于沟道电场分布不均匀而导致击穿电压过低的问题,提出一种带背电极的新型AlGaN/GaN RESURF HEMT结构。该背电极通过感应诱生负电荷调制器件沟道处的电力线分布,使栅漏之间的沟道横向电场分布更加均匀,从而提升器件击穿电压。仿真结果表明,对于栅漏间距为6μm的器件,背电极的引入使器件击穿电压得到显著提升(从1 118V增至1 670V),同时对器件导通电阻几乎没有影响(从0.87mΩ·cm2增至0.88mΩ·cm2)。研究结果为高耐压大功率AlGaN/GaN HEMT设计提供了一种新思路。 展开更多
关键词 a1gan GaN 高电子迁移率晶体管 RESURF背电极
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AlGaN/GaN中二维电子气研究新进展 被引量:4
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作者 张金凤 郝跃 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期326-330,共5页
AlGaN/GaN异质结是氮化物微波功率器件的基本结构之一,其优越性的关键是在异质界面上形成具有高面电子密度和高迁移率的二维电子气.给出了AlGaN/GaN异质结二维电子气的面电子密度、迁移率对氮化物材料性质、异质结结构参数和温度的依赖... AlGaN/GaN异质结是氮化物微波功率器件的基本结构之一,其优越性的关键是在异质界面上形成具有高面电子密度和高迁移率的二维电子气.给出了AlGaN/GaN异质结二维电子气的面电子密度、迁移率对氮化物材料性质、异质结结构参数和温度的依赖关系,以及两者内在矛盾等方面的研究现状,指出了该领域内仍需深入研究的问题,如面电子密度的温度特性、迁移率随合金层的变化关系以及迁移率随面电子密度的变化关系等. 展开更多
关键词 a1gan/GaN异质结 二维电子气 面电子密度 迁移率 电荷控制
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f_(max)为30.8GHz的超薄Al_2O_3绝缘栅GaN MOS-HEMT器件(英文) 被引量:1
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作者 郝跃 岳远征 +3 位作者 冯倩 张进城 马晓华 倪金玉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1674-1678,共5页
报道了一种利用原子层淀积(ALD)生长超薄(3.5nm)Al2O3为栅介质的高性能AlGaN/GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管(MOS-HEMT).新型AlGaN/GaNMOS-HEMT器件栅长1μm,栅宽120μm,栅压为+3.0V时最大饱和输出电流达到720mA/mm,最大跨导达... 报道了一种利用原子层淀积(ALD)生长超薄(3.5nm)Al2O3为栅介质的高性能AlGaN/GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管(MOS-HEMT).新型AlGaN/GaNMOS-HEMT器件栅长1μm,栅宽120μm,栅压为+3.0V时最大饱和输出电流达到720mA/mm,最大跨导达到130mS/mm,开启电压保持在-5.0V,特征频率和最高振荡频率分别为10.1和30.8GHz. 展开更多
关键词 a1gan/GAN MOS-HEMT 超薄Al2O3
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MOCVD生长AlGaN薄膜的X光电子能谱 被引量:3
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作者 苑进社 陈光德 +1 位作者 林景瑜 汪红星 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第8期925-927,共3页
用X光电子能谱和X射线衍射谱方法分析了MOCVD生长的AlGaN薄膜的实际表面形态和晶体结构 基于XPS测量结果 ,通过分析计算 ,发现实际表面除GaN外存在Ga2 O3和Al2 O3及其它与O有关的络合物构成的混合氧化物覆盖层 ,估计覆盖层厚度约 1.2nm... 用X光电子能谱和X射线衍射谱方法分析了MOCVD生长的AlGaN薄膜的实际表面形态和晶体结构 基于XPS测量结果 ,通过分析计算 ,发现实际表面除GaN外存在Ga2 O3和Al2 O3及其它与O有关的络合物构成的混合氧化物覆盖层 ,估计覆盖层厚度约 1.2nm XRD结果显示生长的AlGaN薄膜为以GaN(0 0 0 2 )取向为主的多晶结构 。 展开更多
关键词 MOCVD a1gan薄膜 X光电子能谱 X射线衍射谱
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利用高分辨X射线衍射技术计算铝镓氮外延膜的晶格参数 被引量:1
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作者 王雪蓉 魏莉萍 +3 位作者 郑会保 刘运传 孟祥艳 周燕萍 《分析测试技术与仪器》 CAS 2010年第3期152-156,共5页
利用高分辨X射线衍射(HRXRD)技术对在蓝宝石衬底上用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长的Al组分含量为0.63的AlGaN外延膜进行晶格参数的精确计算.通过对Al0.63Ga0.37N的对称晶面和非对称晶面进行ω/2θ扫描,以及对零点误差和晶面间... 利用高分辨X射线衍射(HRXRD)技术对在蓝宝石衬底上用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长的Al组分含量为0.63的AlGaN外延膜进行晶格参数的精确计算.通过对Al0.63Ga0.37N的对称晶面和非对称晶面进行ω/2θ扫描,以及对零点误差和晶面间距的修正,能够计算得到六方晶系Al0.63Ga0.37N外延膜的水平晶格常数a和垂直晶格常数c分别为0.31301 nm和0.50596 nm.通过对各种影响因素的分析和校正,可以得出二者的测量偏差分别为0.00001 nm和0.00002 nm. 展开更多
关键词 a1gan 高分辨X射线衍射 晶格常数 测量偏差
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MOCVD生长InGaN/AlGaN双异质结构与GaN过渡层的工艺与特性 被引量:1
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作者 林秀华 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期324-329,共6页
评述利用MOCVD技术在α Al2 O3 衬底上生长GaN薄膜及InGaN/AlGaN双异质结 (DH)结构的工艺与特性 ;从表面动力学观点着重讨论了GaN过渡层MOCVD生长条件 (温度、气流束源等 )对表面形貌、结晶形态、掺杂及其光电性能的影响。分析表明 ,Ga... 评述利用MOCVD技术在α Al2 O3 衬底上生长GaN薄膜及InGaN/AlGaN双异质结 (DH)结构的工艺与特性 ;从表面动力学观点着重讨论了GaN过渡层MOCVD生长条件 (温度、气流束源等 )对表面形貌、结晶形态、掺杂及其光电性能的影响。分析表明 ,GaN薄膜生长速率主要依赖于反应炉温度 ,气流束源摩尔流量速率。若生长温度太高 ,引起PL发光谱峰向长波侧移动 ;GaN缓冲层生长温度必须控制在 5 5 0℃。高的Ⅴ /Ⅲ双气束流比率能够抑制GaN发光谱中 5 5 0nm辐射峰产生。为了获得高质量 p AlGaN、GaN层 ,控制生长温度和以Cp2 Mg为杂质源的Mg受主掺杂量 ,并在N2 气氛中 80 0℃快速退火 。 展开更多
关键词 氮化镓薄膜 InGaN/a1gan双异质结构 MOCVD技术 掺杂 薄膜生长 发光二极管 生长动力学 金属有机物化学沉积 铟镓氮化合物 铝镓氮化合物
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Performance improvement of blue InGaN light-emitting diodes with a specially designed n-AlGaN hole blocking layer 被引量:1
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作者 丁彬彬 赵芳 +9 位作者 宋晶晶 熊建勇 郑树文 张运炎 许毅钦 周德涛 喻晓鹏 张瀚翔 张涛 范广涵 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第8期721-725,共5页
Blue InGaN light-emitting diodes (LEDs) with a conventional electron blocking layer (EBL), a common n-A1GaN hole blocking layer (HBL), and an n-A1GaN HBL with gradual A1 composition are investigated numerically,... Blue InGaN light-emitting diodes (LEDs) with a conventional electron blocking layer (EBL), a common n-A1GaN hole blocking layer (HBL), and an n-A1GaN HBL with gradual A1 composition are investigated numerically, which involves analyses of the carrier concentration in the active region, energy band diagram, electrostatic field, and internal quantum efficiency (IQE). The results indicate that LEDs with an n-AIGaN HBL with gradual AI composition exhibit better hole injection efficiency, lower electron leakage, and a smaller electrostatic field in the active region than LEDs with a conven tional p-A1GaN EBL or a common n-A1GaN HBL. Meanwhile, the efficiency droop is alleviated when an n-A1GaN HBL with gradual A1 composition is used. 展开更多
关键词 p-a1gan electron blocking layer (EBL) n-a1gan hole blocking layer (HBL) numerical simula-tion InGaN light-emitting diode (LED)
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Influence of thermal stress on the relative permittivity of the AlGaN barrier layer in an AlGaN/GaN heterostructure Schottky contacts
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作者 吕元杰 林兆军 +5 位作者 张宇 孟令国 曹芝芳 栾崇彪 陈弘 王占国 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第9期350-354,共5页
Ni Schottky contacts on A1GaN/CaN heterostructures were fabricated. Some samples were thermally treated in a furnace with N2 ambience at 600 ~C for different times (0.5 h, 4.5 h, 10.5 h, 18 h, 33 h, 48 h, and 72 h),... Ni Schottky contacts on A1GaN/CaN heterostructures were fabricated. Some samples were thermally treated in a furnace with N2 ambience at 600 ~C for different times (0.5 h, 4.5 h, 10.5 h, 18 h, 33 h, 48 h, and 72 h), the others were thermally treated for 0.5 h at different temperatures (500 ~C, 600 ~C, 700 ~C, and 800 ~C). With the measured current-voltage (I-V) and capacitance-voltage (C V) curves and by self-consistently solving Schrodinger's and Poisson's equations, we found that the relative permittivity of the A1GaN barrier layer was related to the piezoelectric and the spontaneous polarization of the A1GaN barrier layer. The relative permittivity was in proportion to the strain of the A1GaN barrier layer. The relative permittivity and the strain reduced with the increased thermal stress time until the A1GaN barrier totally relaxed (after 18 h at 600 ~C in the current study), and then the relative permittivity was almost a constant with the increased thermal strcss time. When the sample was treated at 800 ~C for 0.5 h, the relative permittivity was less than the constant due to the huge diffusion of the contact metal atoms. Considering the relation between the relative permittivity of the A1GaN barrier layer and the converse piezoelectric effect, the conclusion can be made that a moderate thermal stress can restrain the converse piezoelectric effect and can improve the stability of A1GaN/GaN heterostructure devices. 展开更多
关键词 a1gan/GaN heterostructures relative permittivity of a1gan barrier layer conversepiezoelectric effect
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高跨导AlGaN/GaN HEMT器件(英文) 被引量:1
16
作者 肖冬萍 刘键 +3 位作者 魏珂 和致经 刘新宇 吴德馨 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第9期907-910,共4页
报道了生长在蓝宝石衬底上的AlGaN/GaNHEMT器件的制造工艺以及在室温下器件的性能 .器件的栅长为 1 0 μm ,源漏间距为 4 0 μm .器件的最大电流密度达到 1 0 0 0mA/mm ,最大跨导高达 1 98mS/mm ,转移特性曲线表现出增益带宽较宽的特... 报道了生长在蓝宝石衬底上的AlGaN/GaNHEMT器件的制造工艺以及在室温下器件的性能 .器件的栅长为 1 0 μm ,源漏间距为 4 0 μm .器件的最大电流密度达到 1 0 0 0mA/mm ,最大跨导高达 1 98mS/mm ,转移特性曲线表现出增益带宽较宽的特点 .同时由所测得的S参数推出栅长为 1 0 μm器件的截止频率 (fT)和最高振荡频率 (fmax)分别为 1 8 7GHz和 1 9 1GHz. 展开更多
关键词 a1gan/GAN HEMTS 跨导
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GaN基紫外探测器及其研究进展 被引量:45
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作者 李向阳 许金通 +5 位作者 汤英文 李雪 张燕 龚海梅 赵德刚 杨辉 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2006年第3期276-280,共5页
宽禁带半导体材料的研究和突破,带动了各种器件的发展和应用。GaN基紫外探测器具有通过调整材料的配比可以调节器件响应的截止波长的优点,可以制备日盲型紫外探测器。对GaN基宽禁带紫外探测器材料体系的研究进展进行了回顾,重点介绍了p... 宽禁带半导体材料的研究和突破,带动了各种器件的发展和应用。GaN基紫外探测器具有通过调整材料的配比可以调节器件响应的截止波长的优点,可以制备日盲型紫外探测器。对GaN基宽禁带紫外探测器材料体系的研究进展进行了回顾,重点介绍了p型材料的制备、金属半导体接触、材料的蚀刻等。最后,对国内外近期的紫外探测器特别是紫外焦平面器件的研究进展及初步获得的32×32紫外焦平面探测器进行了简单介绍。 展开更多
关键词 紫外探测器 氮化镓 铝镓氮 紫外焦平面器件
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高AI组分Ⅲ族氮化物结构材料及其在深紫外LED应用的进展 被引量:11
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作者 陈航洋 刘达艺 +8 位作者 李金钗 林伟 杨伟煌 庄芹芹 张彬彬 杨闻操 蔡端俊 李书平 康俊勇 《物理学进展》 CSCD 北大核心 2013年第2期43-56,共14页
随着高Ga组分Ⅲ族氮化物相关研究的日趋深入和生长技术的日益成熟,人们逐渐将研究重心转向具有更宽带隙的高Al组分Ⅲ族氮化物。该材料常温下带隙宽至6.2 eV,可覆盖短至210 nm的深紫外波长范围,具有耐高温、抗辐射、波长易调控等独特优点... 随着高Ga组分Ⅲ族氮化物相关研究的日趋深入和生长技术的日益成熟,人们逐渐将研究重心转向具有更宽带隙的高Al组分Ⅲ族氮化物。该材料常温下带隙宽至6.2 eV,可覆盖短至210 nm的深紫外波长范围,具有耐高温、抗辐射、波长易调控等独特优点,因而是制备紫外发光器件的理想材料。目前,高Al组分Ⅲ族氮化物材料质量不高,所制备的深紫外LED发光器件仍存在内量子效率、载流子注入效率和沿c轴方向正面出光效率较低的难题,因而制约了高效紫外发光器件的制备。本文着重介绍了近年来在高Al组分Ⅲ族氮化物生长动力学方面的研究进展,总结和梳理了量子结构设计、内电场调控以及晶体场调控等方面的相关研究,以期实现高质量深紫外LED的制备。 展开更多
关键词 Ⅲ族氮化物 ALGAN ALN MOVPE 紫外LED
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高性能背照式GaN/AlGaN p-i-n紫外探测器的制备与性能 被引量:7
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作者 陈亮 张燕 +3 位作者 陈俊 郭丽伟 李向阳 龚海梅 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第6期928-931,共4页
研究了GaN/AlGaN异质结背照式p-i-n结构可见盲紫外探测器的制备与性能。GaN/AlGaN外延材料采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长,衬底为双面抛光的蓝宝石,缓冲层为AlN,n型层采用厚度为0.8μm的Si掺杂Al0.3Ga0.7N形成窗口层,i型层为0... 研究了GaN/AlGaN异质结背照式p-i-n结构可见盲紫外探测器的制备与性能。GaN/AlGaN外延材料采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长,衬底为双面抛光的蓝宝石,缓冲层为AlN,n型层采用厚度为0.8μm的Si掺杂Al0.3Ga0.7N形成窗口层,i型层为0.18μm的非故意掺杂的GaN,p型层为0.15μm的Mg掺杂GaN。采用Cl2、Ar和BCl3感应耦合等离子体刻蚀定义台面,光敏面面积为1.96×10-3 cm2。可见盲紫外探测器展示了窄的紫外响应波段,响应区域为310~365 nm,在360 nm处响应率最大,为0.21 A/W,在考虑表面反射时,内量子效率达到82%;优质因子R0A为2.00×108Ω.cm2,对应的探测率D=2.31×1013 cm.Hz1/2.W-1;且零偏压下的暗电流为5.20×10-13 A。 展开更多
关键词 GaN/AIGaN P-I-N 紫外探测器 响应光谱
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283nm背照射p-i-n型AlGaN日盲紫外探测器 被引量:8
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作者 王晓勇 种明 +1 位作者 赵德刚 苏艳梅 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第4期1011-1014,共4页
实验中使用在蓝宝石衬底上用低压金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长的AlGaN基p-i-n结构材料,通过对工艺流程的优化设计,制作了背照射p-i-n型AlGaN日盲紫外探测器,获得了较高的外量子效率。材料中p区和i区的Al组分为40%,n区Al组分为65%。... 实验中使用在蓝宝石衬底上用低压金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长的AlGaN基p-i-n结构材料,通过对工艺流程的优化设计,制作了背照射p-i-n型AlGaN日盲紫外探测器,获得了较高的外量子效率。材料中p区和i区的Al组分为40%,n区Al组分为65%。探测器为直径500μm的圆形,光谱响应起止波长为260~310 nm,峰值响应波长283 nm。零偏压下,暗电流密度为2.7×10-10Acm-2,对应的R0A参数为3.8×108Ωcm2,峰值响应率为13 mA/W,对应的峰值探测率为1.97×1012cmHz1/2W-1。其在-7 V偏压下,峰值响应率达到148 mA/W,对应的外量子效率达到63%。 展开更多
关键词 紫外探测器 ALGAN 日盲 量子效率
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