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PCVD制备Ti_(1-x)Al_xN硬质薄膜的结构与硬度
被引量:
9
1
作者
马胜利
徐健
+3 位作者
介万奇
徐可为
M.G.J.Veprek-Heijman
S.Veprek
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期669-672,共4页
用直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法获得了Ti_(1-x)Al_xN硬质薄膜;考察了Al含量x及高温退火对薄膜微观结构转变过程及其硬度的影响.结果表明,制备的Ti_(1-x)Al_xN薄膜由3—10nm晶粒组成.随Al含量x增加,薄膜硬度升高,x超过0.83时...
用直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法获得了Ti_(1-x)Al_xN硬质薄膜;考察了Al含量x及高温退火对薄膜微观结构转变过程及其硬度的影响.结果表明,制备的Ti_(1-x)Al_xN薄膜由3—10nm晶粒组成.随Al含量x增加,薄膜硬度升高,x超过0.83时,硬度开始急剧下降;结构分析证实x小于0.83,Ti_(1-x)Al_xN薄膜是固溶强化;x=0.83,薄膜中出现六方氨化铝相(h—AlN).热稳定性实验表明,Ti_(1-x)Al_xN薄膜的纳米结构和硬度在N_2环境下可以维持到900℃.
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关键词
(Ti
a1
)
n
硬质
薄膜
微观结构
硬度
热稳定性
下载PDF
职称材料
AlN薄膜室温直接键合技术
被引量:
4
2
作者
门传玲
徐政
+2 位作者
安正华
吴雁军
林成鲁
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第2期216-220,共5页
采用离子束增强沉积技术在 10 0 mm硅片上制备大面积均匀 Al N薄膜 ,原子力显微镜 (AFM)显示其表面平整光滑 ,均方根粗糙度 (RMS)为 0 .13nm ,满足直接键合的需要 .同时 ,采用智能剥离技术成功实现了室温下 Al N与注氢硅片的直接键合 ,...
采用离子束增强沉积技术在 10 0 mm硅片上制备大面积均匀 Al N薄膜 ,原子力显微镜 (AFM)显示其表面平整光滑 ,均方根粗糙度 (RMS)为 0 .13nm ,满足直接键合的需要 .同时 ,采用智能剥离技术成功实现了室温下 Al N与注氢硅片的直接键合 ,形成了以 Al N薄膜为埋层的 SOI结构 ,即 Al N上的硅结构 (SOAN) .用扩展电阻、卢瑟福背散射 -沟道、剖面透射电镜等技术分析了所形成的 SOAN结构 .
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关键词
直接键合
a1n薄膜
智能剥离
绝缘层上硅
离子束增强沉积
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职称材料
AlN薄膜的KrF准分子脉冲激光沉积
被引量:
1
3
作者
丁艳芳
门传玲
+2 位作者
陈韬
朱自强
林成鲁
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第12期1831-1833,1836,共4页
研究了采用脉冲激光沉积(PLD)技术在Si(100)衬底上AlN薄膜的制备及其性质。结果表明,衬底温度从室温到800℃的范围内,所得到的AlN薄膜为(002)择优取向的纤锌矿结构。随着衬底温度的升高,AlN薄膜从纳米晶结构转为多晶结构,同时表面微粗...
研究了采用脉冲激光沉积(PLD)技术在Si(100)衬底上AlN薄膜的制备及其性质。结果表明,衬底温度从室温到800℃的范围内,所得到的AlN薄膜为(002)择优取向的纤锌矿结构。随着衬底温度的升高,AlN薄膜从纳米晶结构转为多晶结构,同时表面微粗糙度上升。AlN晶粒呈柱状生长机制。
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关键词
a1n薄膜
KrF准分子脉冲激光沉积
微结构
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职称材料
中频非平衡磁控溅射TiAlN薄膜的结构与性能
4
作者
安小建
赵广彬
+2 位作者
程玺儒
左龙
左伟峰
《西华大学学报(自然科学版)》
CAS
2017年第4期78-82,共5页
采用中频非平衡磁控溅射离子镀设备在YG10硬质合金表面制备(Ti_(1-x)Al_x)N薄膜,运用X线衍射仪、扫描电子显微镜、显微硬度计和材料表面性能测试仪等对薄膜进行表征,分析氮气分压、直流偏压和Al含量对薄膜的力学性能、薄膜成分和组织结...
采用中频非平衡磁控溅射离子镀设备在YG10硬质合金表面制备(Ti_(1-x)Al_x)N薄膜,运用X线衍射仪、扫描电子显微镜、显微硬度计和材料表面性能测试仪等对薄膜进行表征,分析氮气分压、直流偏压和Al含量对薄膜的力学性能、薄膜成分和组织结构的影响。结果表明:薄膜呈柱状多晶组织,主要组成相为(Ti,Al)N相;随着氮气分压增大,膜层中氮原子增多,而铝、钛原子含量减少,膜层中rAl/(Al+Ti)与r(Al+Ti)/N均下降,薄膜(111)晶面取向减弱,(220)和(200)晶面取向增强。力学性能测试表明,随着膜层中的Al含量和直流偏压升高,薄膜硬度、膜厚和膜-基结合力均呈现先升高后降低的趋势,薄膜显微硬度最高2 915 HV,膜-基结合力最高达73 N。
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关键词
T!
a1n薄膜
磁控溅射
力学性能
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职称材料
题名
PCVD制备Ti_(1-x)Al_xN硬质薄膜的结构与硬度
被引量:
9
1
作者
马胜利
徐健
介万奇
徐可为
M.G.J.Veprek-Heijman
S.Veprek
机构
西安交通大学金属材料强度国家重点实验室
Institute for Chemistry of Inorganic Materials
西北工业大学凝固技术国家重点实验室
出处
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期669-672,共4页
基金
国家自然科学基金50271053
50371067
国家高技术研究发展计划项目2001AA883010资助
文摘
用直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法获得了Ti_(1-x)Al_xN硬质薄膜;考察了Al含量x及高温退火对薄膜微观结构转变过程及其硬度的影响.结果表明,制备的Ti_(1-x)Al_xN薄膜由3—10nm晶粒组成.随Al含量x增加,薄膜硬度升高,x超过0.83时,硬度开始急剧下降;结构分析证实x小于0.83,Ti_(1-x)Al_xN薄膜是固溶强化;x=0.83,薄膜中出现六方氨化铝相(h—AlN).热稳定性实验表明,Ti_(1-x)Al_xN薄膜的纳米结构和硬度在N_2环境下可以维持到900℃.
关键词
(Ti
a1
)
n
硬质
薄膜
微观结构
硬度
热稳定性
Keywords
(Ti
Al)
n
hard coati
n
g
microstructure
hard
n
ess
thermal stability
分类号
TG113 [金属学及工艺—物理冶金]
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职称材料
题名
AlN薄膜室温直接键合技术
被引量:
4
2
作者
门传玲
徐政
安正华
吴雁军
林成鲁
机构
同济大学材料学院微电子所
中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第2期216-220,共5页
基金
国家重点基础研究专项经费 (No.G2 0 0 0 0 3 65 )
国家自然科学基金 (批准号 :699760 3 4和 90 10 10 12 )资助项目~~
文摘
采用离子束增强沉积技术在 10 0 mm硅片上制备大面积均匀 Al N薄膜 ,原子力显微镜 (AFM)显示其表面平整光滑 ,均方根粗糙度 (RMS)为 0 .13nm ,满足直接键合的需要 .同时 ,采用智能剥离技术成功实现了室温下 Al N与注氢硅片的直接键合 ,形成了以 Al N薄膜为埋层的 SOI结构 ,即 Al N上的硅结构 (SOAN) .用扩展电阻、卢瑟福背散射 -沟道、剖面透射电镜等技术分析了所形成的 SOAN结构 .
关键词
直接键合
a1n薄膜
智能剥离
绝缘层上硅
离子束增强沉积
Keywords
Al
n
films
smart cut process
silico
n
o
n
i
n
sulator
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
AlN薄膜的KrF准分子脉冲激光沉积
被引量:
1
3
作者
丁艳芳
门传玲
陈韬
朱自强
林成鲁
机构
华东师范大学信息学院
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第12期1831-1833,1836,共4页
基金
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(G2000036506)
文摘
研究了采用脉冲激光沉积(PLD)技术在Si(100)衬底上AlN薄膜的制备及其性质。结果表明,衬底温度从室温到800℃的范围内,所得到的AlN薄膜为(002)择优取向的纤锌矿结构。随着衬底温度的升高,AlN薄膜从纳米晶结构转为多晶结构,同时表面微粗糙度上升。AlN晶粒呈柱状生长机制。
关键词
a1n薄膜
KrF准分子脉冲激光沉积
微结构
Keywords
a1
n
thi
n
film
pulsed KrF laser depositio
n
microstructure
分类号
TN383 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
中频非平衡磁控溅射TiAlN薄膜的结构与性能
4
作者
安小建
赵广彬
程玺儒
左龙
左伟峰
机构
西华大学材料科学与工程学院
出处
《西华大学学报(自然科学版)》
CAS
2017年第4期78-82,共5页
基金
“高档数控机床与基础制造装备”科技重大专项资助(2009ZX04012-23)
四川省特种材料及制备技术重点实验室经费资助(SZJJ2009-016)
西华大学研究生创新基金项目资助(Ycjj2014045)
文摘
采用中频非平衡磁控溅射离子镀设备在YG10硬质合金表面制备(Ti_(1-x)Al_x)N薄膜,运用X线衍射仪、扫描电子显微镜、显微硬度计和材料表面性能测试仪等对薄膜进行表征,分析氮气分压、直流偏压和Al含量对薄膜的力学性能、薄膜成分和组织结构的影响。结果表明:薄膜呈柱状多晶组织,主要组成相为(Ti,Al)N相;随着氮气分压增大,膜层中氮原子增多,而铝、钛原子含量减少,膜层中rAl/(Al+Ti)与r(Al+Ti)/N均下降,薄膜(111)晶面取向减弱,(220)和(200)晶面取向增强。力学性能测试表明,随着膜层中的Al含量和直流偏压升高,薄膜硬度、膜厚和膜-基结合力均呈现先升高后降低的趋势,薄膜显微硬度最高2 915 HV,膜-基结合力最高达73 N。
关键词
T!
a1n薄膜
磁控溅射
力学性能
Keywords
TiAI
n
thi
n
film
mag
n
etro
n
sputteri
n
g
mecha
n
ical properties
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
PCVD制备Ti_(1-x)Al_xN硬质薄膜的结构与硬度
马胜利
徐健
介万奇
徐可为
M.G.J.Veprek-Heijman
S.Veprek
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
9
下载PDF
职称材料
2
AlN薄膜室温直接键合技术
门传玲
徐政
安正华
吴雁军
林成鲁
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
4
下载PDF
职称材料
3
AlN薄膜的KrF准分子脉冲激光沉积
丁艳芳
门传玲
陈韬
朱自强
林成鲁
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
1
下载PDF
职称材料
4
中频非平衡磁控溅射TiAlN薄膜的结构与性能
安小建
赵广彬
程玺儒
左龙
左伟峰
《西华大学学报(自然科学版)》
CAS
2017
0
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职称材料
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