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The Effect of Defects on the Mobility of HEMT Transistors Based on AIGaN/GaN
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作者 Meriem Hanzaz Said Fadlo Ahmed Nouacry Abdelkader Touhami 《Journal of Chemistry and Chemical Engineering》 2014年第3期324-326,共3页
A phenomenological low-filed mobility model is developed to describe the dependence ot the carrier molgmty on me gate to source bias applied for AIGaN/GaN high electron mobility transistor. The results show excellent ... A phenomenological low-filed mobility model is developed to describe the dependence ot the carrier molgmty on me gate to source bias applied for AIGaN/GaN high electron mobility transistor. The results show excellent agreement with experimental data, when compared thereby proving the validity of the model. In the proposed work the temporal evolution of the mobility degradation shows a sharp decline in emission rates below 456 s-1. We also note a sharp decline for large defects densities. 展开更多
关键词 aigan/GAN HEMT low-filed mobility model.
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欧洲首次在200mm硅晶圆上生长出高质量的AIGaN/GaN异质结构
2
《光机电信息》 2008年第6期63-63,共1页
欧洲独立纳米电子研究中心IMEC与MOCVD设备供应商AIXTRON公司日前宣布,首次在200mm硅晶圆上成功生长出高质量高均匀性的AlGaN/GaN异质结构。 A1GaN/GaN异质结构在AIXTRON应用实验室中的300mm CRIUS MOCVD设备中生长得到,
关键词 AlGaN/GaN异质结构 aigan/GAN 硅晶圆 生长 质量 欧洲 MOCVD设备 设备供应商
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Analytical-Numerical Model for the Cut off Frequency of AIGaNIGaN High Electron Mobility Transistors
3
作者 Rajab Yahyazadeh Zahra Hashempour 《材料科学与工程(中英文B版)》 2011年第2期190-199,共10页
关键词 高电子迁移率晶体管 数值模型 频率分析 数值分析模型 电压特性 截止频率 泊松方程 电子陷阱
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Effect of Depletion Layer on the Total Mobility of AIGaN/GaN High Electron Mobility Transistors
4
作者 Rajab Yahyazadeh Zahra Hashempour 《材料科学与工程(中英文B版)》 2011年第6期790-795,共6页
关键词 高电子迁移率晶体管 耗尽层 流动 GaN 二维电子气密度 数值模型 泊松方程 实验数据
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Effect of Temperature on the Electronic Current of AIGaN/GaN High Electron Mobility Transistors (HEMT)
5
作者 Rajab Yahyazadeh Zahra Hashempour 《材料科学与工程(中英文版)》 2011年第2期155-160,共6页
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氮极性AlGaN基隧道结深紫外LED
6
作者 张源涛 邓高强 孙瑜 《吉林大学学报(信息科学版)》 CAS 2023年第5期767-772,共6页
针对AlGaN(Aluminum Gallium Nitride)基深紫外LED(Light Emitting Diode)发光效率低、工作偏压较大的问题,设计了一种带有n^(+)-GaN/Al_(0.4)Ga_(0.6)N/p^(+)-GaN隧道结的氮极性AlGaN基深紫外LED器件结构。该结构由n-Al_(0.65)Ga_(0.3... 针对AlGaN(Aluminum Gallium Nitride)基深紫外LED(Light Emitting Diode)发光效率低、工作偏压较大的问题,设计了一种带有n^(+)-GaN/Al_(0.4)Ga_(0.6)N/p^(+)-GaN隧道结的氮极性AlGaN基深紫外LED器件结构。该结构由n-Al_(0.65)Ga_(0.35)N电子提供层、 Al_(0.65)Ga_(0.35)N/Al_(0.5)Ga_(0.5)N多量子阱、组分渐变p-Al_(x)Ga_(1-x)N和n^(+)-GaN/Al_(0.4)Ga_(0.6)N/p^(+)-GaN隧道结构成。研究结果表明,相比于无隧道结的参考LED,隧道结LED具有更高的内量子效率和光输出功率,同时其具有更低的开启电压。隧道结LED光电特性的改善,归因于隧道结的引入提升了LED的空穴注入效率,提高了LED器件的电流扩展能力。通过模拟软件对半导体器件载流子输运、光电特性的模拟,有助于加深对半导体器件物理特性的理解。若在“半导体器件物理”学习课程加入对半导体器件模拟软件的学习,能有效提升学生对半导体器件物理知识的理解和探索。 展开更多
关键词 深紫外LED 隧道结 铝镓氮 氮化物半导体
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高性能背照式GaN/AlGaN p-i-n紫外探测器的制备与性能 被引量:7
7
作者 陈亮 张燕 +3 位作者 陈俊 郭丽伟 李向阳 龚海梅 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第6期928-931,共4页
研究了GaN/AlGaN异质结背照式p-i-n结构可见盲紫外探测器的制备与性能。GaN/AlGaN外延材料采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长,衬底为双面抛光的蓝宝石,缓冲层为AlN,n型层采用厚度为0.8μm的Si掺杂Al0.3Ga0.7N形成窗口层,i型层为0... 研究了GaN/AlGaN异质结背照式p-i-n结构可见盲紫外探测器的制备与性能。GaN/AlGaN外延材料采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长,衬底为双面抛光的蓝宝石,缓冲层为AlN,n型层采用厚度为0.8μm的Si掺杂Al0.3Ga0.7N形成窗口层,i型层为0.18μm的非故意掺杂的GaN,p型层为0.15μm的Mg掺杂GaN。采用Cl2、Ar和BCl3感应耦合等离子体刻蚀定义台面,光敏面面积为1.96×10-3 cm2。可见盲紫外探测器展示了窄的紫外响应波段,响应区域为310~365 nm,在360 nm处响应率最大,为0.21 A/W,在考虑表面反射时,内量子效率达到82%;优质因子R0A为2.00×108Ω.cm2,对应的探测率D=2.31×1013 cm.Hz1/2.W-1;且零偏压下的暗电流为5.20×10-13 A。 展开更多
关键词 GaN/aigan P-I-N 紫外探测器 响应光谱
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14W X-Band AlGaN/GaN HEMT Power MMICs 被引量:5
8
作者 陈堂胜 张斌 +3 位作者 任春江 焦刚 郑维彬 陈辰 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1027-1030,共4页
The development of an AIGaN/GaN HEMT power MMIC on SI-SiC designed in microstrip technology is pres- ented. A recessed-gate and a field-plate are used in the device processing to improve the performance of the AIGaN/G... The development of an AIGaN/GaN HEMT power MMIC on SI-SiC designed in microstrip technology is pres- ented. A recessed-gate and a field-plate are used in the device processing to improve the performance of the AIGaN/GaN HEMTs. S-parameter measurements show that the frequency performance of the AIGaN/GaN HEMTs depends significantly on the operating voltage. Higher operating voltage is a key to higher power gain for the AIGaN/GaN HEMTs. The developed 2-stage power MMIC delivers an output power of more than 10W with over 12dB power gain across the band of 9-11GHz at a drain bias of 30V. Peak output power inside the band reaches 14.7W with a power gain of 13.7dB and a PAE of 23%. The MMIC chip size is only 2.0mm × 1. 1mm. This work shows superiority over previously reported X-band AIGaN/GaN HEMT power MMICs in output power per millimeter gate width and output power per unit chip size. 展开更多
关键词 X-BAND aigan/GAN HEMTS power MMIC
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C波段0.75mmAlGaN/GaN功率器件 被引量:2
9
作者 陈晓娟 刘新宇 +2 位作者 和致经 刘建 吴德馨 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1804-1807,共4页
研制并测试了以蓝宝石作衬底的10×75μm×0.8μmAlGaN/GaN微波器件,采用等离子增强气相化学沉积的方法生长了250nm的Si3N4形成钝化层,直流特性从0.56A/mm上升到0.66A/mm,跨导从158mS/mm增为170mS/mm,截止频率由10.7GHz增大到13... 研制并测试了以蓝宝石作衬底的10×75μm×0.8μmAlGaN/GaN微波器件,采用等离子增强气相化学沉积的方法生长了250nm的Si3N4形成钝化层,直流特性从0.56A/mm上升到0.66A/mm,跨导从158mS/mm增为170mS/mm,截止频率由10.7GHz增大到13.7GHz,同时在4GHz下,Vds=25V,Vgs=-2.5V,输出功率由0.90W增至1.79W,输出功率密度达到2.4W/mm.钝化有效地改善了器件的输出特性,减小和消除了表面寄生栅对器件的影响. 展开更多
关键词 aigan/GAN HEMT 微波输出功率 SI3N4 钝化
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AlGaN/GaN异质结极化行为与二维电子气 被引量:2
10
作者 薛丽君 刘明 +2 位作者 王燕 夏洋 陈宝钦 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第7期63-65,56,共4页
AlGaN/GaN异质结及其相关器件因其优越的电学特性成为近几年的研究热点。2DEG作为其特征与材料本身的极化现象关系密切。本文主要从晶体微观结构角度介绍AlGaN/GaN异质结极化现象的产生、机理和方向性,着重讨论极化对异质结界面处诱生... AlGaN/GaN异质结及其相关器件因其优越的电学特性成为近几年的研究热点。2DEG作为其特征与材料本身的极化现象关系密切。本文主要从晶体微观结构角度介绍AlGaN/GaN异质结极化现象的产生、机理和方向性,着重讨论极化对异质结界面处诱生的二维电子气的影响。极化不仅可提高2DEG的浓度,而且还能使其迁移率得到提高。 展开更多
关键词 aigan/GAN 异质结 极化 二维电子气 2DEG
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AlGaN基共振腔增强的p-i-n型紫外探测器 被引量:1
11
作者 姬小利 江若琏 +6 位作者 周建军 刘斌 谢自力 韩平 张荣 郑有炓 龚海梅 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期1957-1960,共4页
设计了目标探测波长为320nm的AlGaN基共振腔增强的p-i-n型紫外光电探测器,共振腔由分别作为底镜和顶镜的AlN/Al0.3Ga0.7 N布拉格反射镜和空气/GaN界面组成,有源区p-GaN/i-GaN/n-Al0.38Ga0.62 N被置于腔内.该结构采用金属有机物化学气相... 设计了目标探测波长为320nm的AlGaN基共振腔增强的p-i-n型紫外光电探测器,共振腔由分别作为底镜和顶镜的AlN/Al0.3Ga0.7 N布拉格反射镜和空气/GaN界面组成,有源区p-GaN/i-GaN/n-Al0.38Ga0.62 N被置于腔内.该结构采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法在蓝宝石衬底和GaN模板上外延生长得到.光谱响应测试显示了正入射时该器件在波长313nm处出现响应的选择增强,零偏压下响应度为14mA/W. 展开更多
关键词 紫外探测器 共振腔增强 aigan 分布布拉格反射镜 传递矩阵方法
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X-波段AlGaN/GaN HEMT功率MMIC 被引量:1
12
作者 陈堂胜 张斌 +4 位作者 焦刚 任春江 陈辰 邵凯 杨乃彬 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期F0003-F0003,共1页
AIGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)以其高输出功率密度、高电压工作和易于宽带匹配等优势将成为下一代高频固态微波功率器件。微波功率器件主要有内匹配功率管和功率单片微波集成电路(MMIC)两种结构形式,功率MMIC尽管其研制成本... AIGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)以其高输出功率密度、高电压工作和易于宽带匹配等优势将成为下一代高频固态微波功率器件。微波功率器件主要有内匹配功率管和功率单片微波集成电路(MMIC)两种结构形式,功率MMIC尽管其研制成本相对较高,但功率MMIC可实现宽带匹配,同时功率MMIC的体积较内匹配功率管小得多, 展开更多
关键词 功率密度 ALGAN/GAN MMIC X-波段 HEMT 高电子迁移率晶体管 aigan/GAN 单片微波集成电路
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AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors on Sapphires with f_(max) of 100GHz
13
作者 李献杰 曾庆明 +5 位作者 周州 刘玉贵 乔树允 蔡道民 赵永林 蔡树军 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第11期2049-2052,共4页
AIGaN/GaN high electron mobility transistors grown on sapphire substrates with a 0.3μm gate length and 100μm gate width are fabricated. The device reveals a drain current saturation density of 0.85A/mm at a gate vol... AIGaN/GaN high electron mobility transistors grown on sapphire substrates with a 0.3μm gate length and 100μm gate width are fabricated. The device reveals a drain current saturation density of 0.85A/mm at a gate voltage of 0V and a peak transconductance of 225mS/mm. The unity current gain cutoff frequency and maximum frequency of oscillation are obtained as 45 and 100GHz,respectively. The output power density and gain are 1.8W/mm and 9.5dB at 4GHz,and 1.12W/mm and 11.5dB at 8GHz. 展开更多
关键词 aigan/GAN HEMT SAPPHIRE
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Two-Dimensional Static Numerical Modeling and Simulation of AlGaN/GaN HEMT
14
作者 薛丽君 夏洋 +6 位作者 刘明 王燕 邵雪 鲁净 马杰 谢常青 余志平 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期298-303,共6页
AIGaN/GaN HEMTs are investigated by numerical simulation from the self-consistent solution of Schr6dinger-Poisson-hydrodynamic (HD) systems. The influences of polarization charge and quantum effects are considered i... AIGaN/GaN HEMTs are investigated by numerical simulation from the self-consistent solution of Schr6dinger-Poisson-hydrodynamic (HD) systems. The influences of polarization charge and quantum effects are considered in this model. Then the two-dimensional conduction band and electron distribution, electron temperature characteristics, Id versus Vd and Id versus Vg, transfer characteristics and transconductance curves are obtained. Corresponding analysis and discussion based on the simulation results are subsequently given. 展开更多
关键词 aigan/GaN HEMT 2D modeling and simulation polarization charges quantum effects
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AlGaN/GaN异质结构的X射线衍射研究
15
作者 谭伟石 徐金 +5 位作者 蔡宏灵 沈波 吴小山 蒋树声 郑文莉 贾全杰 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期413-416,共4页
在(0001)取向的蓝宝石(α-Al2O3)基片上用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法生长了势垒层厚度为1000?的Al0.22Ga0.78N/GaN异质结构;;利用高分辨X射线衍射(HRXRD)技术测量了样品的对称反射(0002)和非对称反射(1014)的倒易空间Mapping(R... 在(0001)取向的蓝宝石(α-Al2O3)基片上用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法生长了势垒层厚度为1000?的Al0.22Ga0.78N/GaN异质结构;;利用高分辨X射线衍射(HRXRD)技术测量了样品的对称反射(0002)和非对称反射(1014)的倒易空间Mapping(RSM)。结果表明;;样品势垒层的内部微结构与应变状态和下层i-GaN的微结构与应变状态互相关联。样品势垒层的微应变已经发生弛豫;;而且具有一种“非常规”应变弛豫状态;;这种弛豫状态的来源可能与n-AlGaN的内部缺陷以及i-GaN/α-Al2O3界面应变弛豫状态有关。掠入射X射线衍射研究表明样品内部的应变是不均匀的;;由表层的横向压应变状态过渡到下层的张应变状态;;与根据倒易空间Mapping分析得到的结果一致。 展开更多
关键词 aigan/GaN异质结构 倒易空间Mapping 应变弛豫 掠入射X射线衍射
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Numerical Explanation of Slow Transients in an AlGaN/GaN HEMT
16
作者 张金风 郝跃 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期276-282,共7页
A series of slow drain current recovery transients at different gate biases after a short-term stress are observed in an AIGaN/GaN HEMT. As the variation of the time constants of the transients is small, the working t... A series of slow drain current recovery transients at different gate biases after a short-term stress are observed in an AIGaN/GaN HEMT. As the variation of the time constants of the transients is small, the working trap is determined to be electronic. A numerical simulation verifies this conclusion and reproduces the measured transients. The electron traps at different spatial positions in the device-on the ungated surface of the AIGaN layer,in the AIGaN barrier, and in the GaN layer are considered;corresponding behaviors in the stress and the transients are discussed;and for the simulated transients, agreement with and deviation from the measured transients are explained. Based on this discussion, we suggest that the measured transients are caused by the combined effects of a deep surface trap and a bulk trap in the GaN layer. 展开更多
关键词 aigan/GaN HEMT slow transients virtual gate surface trap bulk trap
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高量子效率前照式GaN基p-i-n结构紫外探测器 被引量:5
17
作者 游达 汤英文 +3 位作者 赵德刚 许金通 徐运华 龚海梅 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期896-899,共4页
研究了Al0.1-Ga0.9N/GaN异质结p-i-n结构可见盲紫外探测器的制备与性能,P区采用Al组分含量为0.1的AlGaN外延材料形成窗口层,使340-365nm波段的紫外光可以直接透过P区到达i区并被吸收,有效提高了这个波段的响应率与量子效率,并且研... 研究了Al0.1-Ga0.9N/GaN异质结p-i-n结构可见盲紫外探测器的制备与性能,P区采用Al组分含量为0.1的AlGaN外延材料形成窗口层,使340-365nm波段的紫外光可以直接透过P区到达i区并被吸收,有效提高了这个波段的响应率与量子效率,并且研究了不同P区AlGaN外延层厚度对探测器性能的影响,制备了两种不同P区厚度(0.1μm和0.15μm)的器件,测试结果表明,P区的厚度对200-340nm波段光吸收的量子效率影响较大,而i区的晶体质量的提高可以有效提高340-365nm波段光吸收的量子效率,并且当P区AlGaN厚度为0.15μm时,器件的峰值响应率达到0.214A/W,在考虑表面反射时外量子效率高达85.6%,接近理论极限,并且在零偏压时暗电流密度为3.16nA/cm^2,表明器件具有非常高的信噪比。 展开更多
关键词 P-I-N AlGaN量子效率 响应光谱 紫外探测器
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紫外图像传感器技术研究进展 被引量:10
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作者 权利 王颖 +2 位作者 龙维刚 罗木昌 周勋 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期537-541,共5页
介绍了两类主要的紫外图像传感器技术的最新研究进展,根据其特点对它们在特定紫外成像应用需求中的优势和不足进行了简要分析,最后对这些紫外图像传感器技术的未来发展进行了展望。
关键词 紫外探测 图像传感器 紫外光阴极 像增强器 AlGaN紫外焦平面
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含有Al组分阶变AlGaN过渡层的Si基AlGaN/GaNHEMT 被引量:5
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作者 倪金玉 董逊 +7 位作者 周建军 孔岑 李忠辉 李亮 彭大青 张东国 陆海燕 耿习娇 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期527-531,共5页
采用一个AlN缓冲层和两个Al组分阶变的AlGaN过渡层作为中间层,在76.2mm Si衬底上外延生长出1.7μm厚无裂纹AlGaN/GaN异质结材料,利用原子力显微镜、X射线衍射、Hall效应测量和CV测量等手段对材料的结构特性和电学性能进行了表征。材料... 采用一个AlN缓冲层和两个Al组分阶变的AlGaN过渡层作为中间层,在76.2mm Si衬底上外延生长出1.7μm厚无裂纹AlGaN/GaN异质结材料,利用原子力显微镜、X射线衍射、Hall效应测量和CV测量等手段对材料的结构特性和电学性能进行了表征。材料表面平整光滑,晶体质量和电学性能良好,2DEG面密度为1.12×1013cm-2,迁移率为1 208cm2/(V.s)。由该材料研制的栅长为1μm的AlGaN/GaN HEMT器件,电流增益截止频率fT达到10.4GHz,这些结果表明组分阶变AlGaN过渡层技术可用于实现高性能Si基GaN HEMT。 展开更多
关键词 硅衬底 铝镓氮/氮化镓 高电子迁移率晶体管 过渡层
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X波段高输出功率凹栅AlGaN/GaN HEMT 被引量:4
20
作者 冯震 张志国 +5 位作者 王勇 默江辉 宋建博 冯志红 蔡树军 杨克武 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1773-1776,共4页
使用自主研制的SiC衬底GaN HEMT外延材料,研制出高输出功率AlGaN/GaN HEMT,优化了器件研制工艺,比接触电阻率小于1.0×10-6Ω.cm2,电流崩塌参量小于10%,击穿电压大于80V.小栅宽器件工作电压达到40V,频率为8GHz时输出功率密度大于10W... 使用自主研制的SiC衬底GaN HEMT外延材料,研制出高输出功率AlGaN/GaN HEMT,优化了器件研制工艺,比接触电阻率小于1.0×10-6Ω.cm2,电流崩塌参量小于10%,击穿电压大于80V.小栅宽器件工作电压达到40V,频率为8GHz时输出功率密度大于10W/mm.栅宽为2mm单胞器件,工作电压为28V,频率为8GHz时,输出功率为12.3W,功率增益为4.9dB,功率附加效率为35%.四胞内匹配总栅宽为8mm器件,工作电压为27V时,频率为8GHz时,输出功率为33.8W,功率增益为6.3dB,功率附加效率为41.77%,单胞器件和内匹配器件输出功率为目前国内该器件输出功率的最高结果. 展开更多
关键词 A1GAN/GAN HEMT 高输出功率 内匹配器件
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