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Geochemistry, mineral paragenesis and geothermal conditions of oreforming fluids from the Ain El Bey Cu–Fe deposit: potential occurrence of native gold and precious metal traces (North African orogenic belt, Northern Tunisia)
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作者 Rania Ben Aissa Wiem Ben Aissa +2 位作者 Said Tlig Lassaad Ben Aissa Abdessalem Ben Haj Amara 《Acta Geochimica》 EI CAS CSCD 2024年第2期366-384,共19页
The Ain El Bey abandoned mine, in North-West Tunisia, fits into the geodynamic context of the European and African plate boundary. Ore deposit corresponds to veins and breccia of multiphase Cu–Fe-rich mineralization ... The Ain El Bey abandoned mine, in North-West Tunisia, fits into the geodynamic context of the European and African plate boundary. Ore deposit corresponds to veins and breccia of multiphase Cu–Fe-rich mineralization related to various hydrothermal fluid circulations. Petromineralogical studies indicate a rich mineral paragenesis with a minimum of seven mineralization phases and, at least, six pyrite generations. As is also the case for galena and native silver, native gold is observed for the first time as inclusion in quartz which opens up, thus, new perspectives for prospecting and evaluating the potential for noble metals associated with the mineralization. Scanning Electron Microscope--Energy Dispersive Spectroscopy and Transmission electron microscopy analyses show, in addition, a large incorporation of trace elements, including Ag and Au, in mineral structures such as fahlores(tetrahedrite-tennantite) and chalcopyrite ones. The mineral/mineral associations, used as geothermometers, gave estimated temperatures for the mineralizing fluids varying from 254 to 330 ℃ for phase Ⅲ, from 254 to 350 ℃ for phase Ⅳ, and from 200 to 300 ℃ for phases Ⅴ and Ⅵ. The seventh and last identified mineralization phase, marked by a deposit of native gold, reflects a drop in the mineralizing fluid’s temperature(< 200 ℃) compatible with boiling conditions. Such results open up perspectives for the development of precious metal research and the revaluation of the Cu–Fe ore deposit at the Ain El Bey abandoned mine, as well as at the surrounding areas fitting in the geodynamic framework of the Africa-Europe plate boundary. 展开更多
关键词 Ore-formingfluids Mineral geochemistry Mineral geothermometers Native silver-gold ain El Bey Ore deposit North Tunisia
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磁光盘多层结构AIN和AlSiN薄膜材料研究 被引量:5
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作者 缪向水 李佐宜 +1 位作者 胡用时 林更琪 《功能材料》 EI CAS CSCD 1994年第1期33-35,共3页
本文研究了磁光材料保护膜AIN和AISiN薄膜材料,讨论了它们的性能与溅射工艺参数的关系,研究了AIN及AlSiN薄膜对磁光盘材料的保护作用,研究同时表明:AIN及AlSiN保护膜能对磁光材料起干涉增强磁光克尔效应作用。
关键词 磁光材料 ain AISiN 磁光盘 保护膜
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AIN膜及其在半导体光电器件中的应用 被引量:2
3
作者 郭良 朱素珍 +2 位作者 张霞 余金中 王德煌 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第10期780-785,共6页
本文报道溅射AlN膜及其应用于半导体光电器件的实验研究结果。测定了不同条件下溅射的AlN膜厚度、淀积速率、折射率和击穿电场强度。首次用AlN膜做器件的端面保护和减反射膜以及表面钝化膜均获得成功。几种常用介质膜的实验数据对比分... 本文报道溅射AlN膜及其应用于半导体光电器件的实验研究结果。测定了不同条件下溅射的AlN膜厚度、淀积速率、折射率和击穿电场强度。首次用AlN膜做器件的端面保护和减反射膜以及表面钝化膜均获得成功。几种常用介质膜的实验数据对比分析表明AlN膜在半导体光电器件领域将有广阔应用前景。 展开更多
关键词 半导体 光电器件 ain 氮化铝
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宽带隙半导体AIN薄膜的制备及应用 被引量:6
4
作者 廖克俊 王万录 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第1期21-23,共3页
AIN是一种宽带隙半导体,它具有高温稳定性、高热导率、高弹性模量、非毒性,并且具有能从半导体到绝缘体的性质变化等优异的物理性质。本文主要介绍了AIN薄膜的制备方法和应用,也给出了今后有待进一步解决的问题。
关键词 ain薄膜 宽带隙半导体 应用
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两种不同AIN粉末的烧结和热传导特性比较 被引量:2
5
作者 李星国 姜辉恩 +1 位作者 张同俊 赵兴中 《功能材料》 EI CAS CSCD 1994年第3期264-268,272,共6页
本文对Al_2O_3碳还原氮化法和Al直接氮化法所制作的两种AlN粉体的特性进行了分析和比较,然后研究了这两种粉体在添加0~15wt.%的Y_2O_3烧结助剂的条件下,经2073K烧结后的密度变化以及在室温下的热传导... 本文对Al_2O_3碳还原氮化法和Al直接氮化法所制作的两种AlN粉体的特性进行了分析和比较,然后研究了这两种粉体在添加0~15wt.%的Y_2O_3烧结助剂的条件下,经2073K烧结后的密度变化以及在室温下的热传导特性。 展开更多
关键词 ain粉末 碳还原氮化法 直接氮化法 常压烧结 热传导
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自蔓延高温合成AIN的研究 被引量:4
6
作者 李劲风 郑子樵 +1 位作者 何国新 陶晓风 《材料科学与工程》 CSCD 1999年第1期80-83,共4页
本文研究了N2压力、稀释剂含量及松装相对密度对自蔓延高温合成AIN的影响。利用XRD、SEM及金相技术分析了产物的相组成、相分布及产物粉末形貌。并在N2压力较低的条件下合成了氮化基本完全的AIN。
关键词 自蔓延高温合成 ain 陶瓷材料 SHS
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氨化时间和膜厚对Si(Ⅲ)上AIN薄膜生长取向的影响
7
作者 胡丽君 庄惠照 +3 位作者 薛成山 薛守斌 张士英 李保理 《山东师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2007年第3期52-54,共3页
采用磁控溅射技术在Si(Ⅲ)衬底上沉积了Al膜,在高温炉中使之与氨气反应制备AlN薄膜.利用X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电镜等研究了薄膜的结构、成分以及表面形貌.结果表明不同氨气作用时间会使薄膜表现出不同的择优生长取向,同时... 采用磁控溅射技术在Si(Ⅲ)衬底上沉积了Al膜,在高温炉中使之与氨气反应制备AlN薄膜.利用X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电镜等研究了薄膜的结构、成分以及表面形貌.结果表明不同氨气作用时间会使薄膜表现出不同的择优生长取向,同时不同厚度的Al薄膜也会在氨气作用后生成不同择优生长取向的AlN薄膜. 展开更多
关键词 磁控溅射 择优取向 ain
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影响AIN陶瓷热导率因素的研究
8
作者 梁秀红 梁广川 梁金生 《海洋技术》 1999年第1期77-79,共3页
可用于海洋敏感器件封装的氮化铝陶瓷材料具有高的热导率特性,本文对它的热导率进行了实验研究。分析了影响烧结样品密度和热导率的因素。
关键词 ain 热导率 密度 陶瓷 封装 陶瓷材料
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添加剂对AIN陶瓷力学性能及抗氧化性能的影响
9
作者 张宏泉 李凝芳 戴英 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 1996年第5期9-11,共3页
本文研究了Al_2O_3、Y_2O_3、La_2O_3、Y_2O_3+SiO_2几种类型的添加剂对AIN陶瓷力学性能和高温抗氧化性能的影响。结果表明:Y_2O_3+SiO_2为一种较好的AIN陶瓷添加剂;材料在烧结过程中由于2H^6Sialon及8H—Sialon等纤维状的Sialon相形成... 本文研究了Al_2O_3、Y_2O_3、La_2O_3、Y_2O_3+SiO_2几种类型的添加剂对AIN陶瓷力学性能和高温抗氧化性能的影响。结果表明:Y_2O_3+SiO_2为一种较好的AIN陶瓷添加剂;材料在烧结过程中由于2H^6Sialon及8H—Sialon等纤维状的Sialon相形成,对材料起到一种自补强作用;SiO_2的存在使AIN陶瓷在氧化过程中形成Mullite保护层,故使AIN陶瓷具有良好的力学性能及高温抗氧化性能。 展开更多
关键词 ain陶瓷 力学性能 氧化性能 助剂 陶瓷
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AIN基片上重掺杂硼的多晶硅膜电阻率温度特性
10
作者 何进 杨传仁 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第1期47-50,共4页
研究了AlN基片上重掺杂硼的多晶硅膜电阻率温度特性。实验发现,膜电阻率随温度变化呈现出从NTC过渡到PTC的U型特性,转折温度TM的位置依赖工艺条件的变化。理论分析表明:晶界势垒使膜电阻率在温度变化上存在一个极小值,... 研究了AlN基片上重掺杂硼的多晶硅膜电阻率温度特性。实验发现,膜电阻率随温度变化呈现出从NTC过渡到PTC的U型特性,转折温度TM的位置依赖工艺条件的变化。理论分析表明:晶界势垒使膜电阻率在温度变化上存在一个极小值,极小值对应的转折温度正比于晶界势垒。 展开更多
关键词 多晶硅 晶界势垒 转折温度 ain基片 掺杂
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添加CaF2—Y2O3的AIN试样在1300~1650℃之间的收缩率,相组成和微结构
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作者 乔梁 周和平 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第Z10期209-211,共3页
使用CaF2-Y2O3体系,研究了AlN在1300℃-1650℃之间的收缩率、相组成以及微结构的变化、发现,随温度升高,生成的Y-Al-O化合物可以发生YAG→YAP→YAM转变,其转变温度随CaF2添加量的增加而降... 使用CaF2-Y2O3体系,研究了AlN在1300℃-1650℃之间的收缩率、相组成以及微结构的变化、发现,随温度升高,生成的Y-Al-O化合物可以发生YAG→YAP→YAM转变,其转变温度随CaF2添加量的增加而降低。添加CaF2-Y2O3体系的AlN试样在1500℃时产生液相,液相为CaYAlO4,但在低于1650℃的升温过程中,该液相对AlN试样的收缩没有显著的促进作用。 展开更多
关键词 收缩率 相组成 微结构 ain陶瓷 添加剂
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热处理气氛对AIN/SiCw(Y_2O_3-SiO_2)复合材料性能的影响
12
作者 张宏泉 李凝芳 《陶瓷学报》 CAS 1998年第1期7-11,共5页
将AIN/SiCw(Y_2O_3-SiO_2)复合材料在氧气氛和氮气氛下进行热处理,研究热处理气氛对材料性能的影响,并利用XRD、EPASEM和HREM等技术分析了材料的相组成、显微结构和粒界相。结果表明:该材料在1300℃空气中热处理,材料性能得到改... 将AIN/SiCw(Y_2O_3-SiO_2)复合材料在氧气氛和氮气氛下进行热处理,研究热处理气氛对材料性能的影响,并利用XRD、EPASEM和HREM等技术分析了材料的相组成、显微结构和粒界相。结果表明:该材料在1300℃空气中热处理,材料性能得到改善,材料的断裂强度和韧性增长幅度明显大于氮气气氛下的热处理。在空气中氧化处理对Y_2O_3-SiO_2组成靠近其低共熔点组成的试样具有良好的增强增韧作用,可有效地改善材料的力学性能与抗氧化性能。 展开更多
关键词 ain 复合材料 热处理 性能 碳化硅
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AIN热扩散率测试方法的研究
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作者 刘雄飞 傅友君 《计量技术》 北大核心 1999年第9期19-21,33,共4页
针对传统方法在物理模型上不适合于用来测试AIN等透光材料热扩散率的问题, 提出了一个新的物理模型和它的解析解。在激光热导仪上测定了AIN样品的温度变化曲线, 采用正交拟合法计算出了AIN的热扩散率α,拟合曲线与实验曲线... 针对传统方法在物理模型上不适合于用来测试AIN等透光材料热扩散率的问题, 提出了一个新的物理模型和它的解析解。在激光热导仪上测定了AIN样品的温度变化曲线, 采用正交拟合法计算出了AIN的热扩散率α,拟合曲线与实验曲线基本吻合,有较高的测试准确度。 展开更多
关键词 陶瓷 非导电 ain 热扩散率 正交法 测试
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美国动物标识设备——AIN耳标的管理 被引量:1
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作者 张晶声 《中国牧业通讯》 2006年第23期62-64,共3页
关键词 动物疾病 标识系统 ain 美国农业部 管理 耳标 设备 综合信息系统
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氮化铝(AIN)粉末的合成与高热导率AIN基片的研制
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作者 梁秀红 梁广川 梁金生 《河北工业大学成人教育学院学报》 2001年第1期27-29,32,共4页
本文详细综述了制作高热导率 AIN陶瓷基片所用 AIN粉末的合成方法 ,介绍了常压下制作高热导率 AIN陶瓷基片的方法和影响热导率的因素。分析了
关键词 ain粉末 陶瓷基片 热导率 流延法 添加剂
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用平面磁控溅射低温生长C轴择优取向的AIN薄膜
16
作者 刘付德 《仪表材料》 EI CAS CSCD 1989年第4期233-237,共5页
本文介绍了用 x-射线衍射仪、扫描电镜和透射电镜来分析用直流平面磁控溅射法在载波片上生长的 AIN 薄膜的结构,结果表明 AIN 薄膜的(002)晶面与基片表面平行,迴摆曲线分析得出标准偏差σ≈0.7°,俄歇谱分析结果表明制得的 AIN 薄... 本文介绍了用 x-射线衍射仪、扫描电镜和透射电镜来分析用直流平面磁控溅射法在载波片上生长的 AIN 薄膜的结构,结果表明 AIN 薄膜的(002)晶面与基片表面平行,迴摆曲线分析得出标准偏差σ≈0.7°,俄歇谱分析结果表明制得的 AIN 薄膜是高纯的。这种方法适于制取 C轴高度择优取向 AIN 薄膜。 展开更多
关键词 ain薄膜 磁控溅射 低温生长
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Cr掺杂AIN半导体电磁性质的第一性原理研究
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作者 樊玉勤 王新强 +1 位作者 王连轩 胡凯燕 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 2009年第1期275-277,共3页
基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理方法,在广义梯度近似(GGA)下分别计算了无掺杂和掺杂过渡金属Cr原子的AIN半导体的电磁性质,结果表明,掺杂后AIN由半导体转变为半金属,并具有较宽的半金属能隙。当掺杂浓度为25%、12.5%、5... 基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理方法,在广义梯度近似(GGA)下分别计算了无掺杂和掺杂过渡金属Cr原子的AIN半导体的电磁性质,结果表明,掺杂后AIN由半导体转变为半金属,并具有较宽的半金属能隙。当掺杂浓度为25%、12.5%、5.6%o时,半金属能隙分别为0.8eV、1.1eV、1.2eV。以掺杂浓度为12.5%的Cr-AIN(2×2×1)为例,详细分析了其能带结构、态密度分布和电子布居数以及磁矩等。 展开更多
关键词 ain 电磁性质 能带结构 态密度
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一种极有用的AIN陶瓷材料
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作者 李恩德 《功能材料》 EI CAS 1987年第5期302-305,共4页
一、前言最近几年,人工合成AlN很引人注意。AlN是Ⅲ—Ⅴ类耐熔化合物,是优良的电绝缘材料。它具有高的热导率、电绝缘性、化学稳定性和抗腐蚀性能,其热膨胀系数与Si的热膨胀系数接近,并有良好的抗弯强度,较容易加工等优点。有些技术先... 一、前言最近几年,人工合成AlN很引人注意。AlN是Ⅲ—Ⅴ类耐熔化合物,是优良的电绝缘材料。它具有高的热导率、电绝缘性、化学稳定性和抗腐蚀性能,其热膨胀系数与Si的热膨胀系数接近,并有良好的抗弯强度,较容易加工等优点。有些技术先进国家正积极研究和试验将AlN陶瓷用于大功率半导体器件的绝缘基片、高集成度电子线路基片,如计算机、计测仪器上的双极IC,MOS、IC的散热基片等。利用AlN的高声波传导速度特性制作声表面波(SAW)器件,用于高频信息处理机。近些年来,日本的东芝公司,TDK公司。 展开更多
关键词 ain 基片 半导体器件 东芝公司 绝缘基 衬底 电子设备 陶瓷材料 热导率 热力学性质
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High-Quality and Strain-Relaxation GaN Epilayer Grown on SiC Substrates Using AIN Buffer and AlGaN Interlayer
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作者 刘波亭 郭仕宽 +2 位作者 马平 王军喜 李晋闽 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2017年第4期108-111,共4页
We study the effect of the AlGaN interlayer on structural quality and strain engineering of the GaN films grown on SiC substrates with an AIN buffer layer. Improved structural quality and tensile stress releasing are ... We study the effect of the AlGaN interlayer on structural quality and strain engineering of the GaN films grown on SiC substrates with an AIN buffer layer. Improved structural quality and tensile stress releasing are realized in unintentionally doped GaN thin films grown on 6 H—SiC substrates by metal organic chemical vapor deposition.Using the optimized AlGaN interlayer, we find that the full width at half maximum of x-ray diffraction peaks for GaN decreases dramatically, indicating an improved crystalline quality. Meanwhile, it is revealed that the biaxial tensile stress in the GaN film is significantly reduced from the Raman results. Photoluminescence spectra exhibit a shift of the peak position of the near-band-edge emission, as well as the integrated intensity ratio variation of the near-band-edge emission to the yellow luminescence band. Thus by optimizing the AlGaN interlayer,we could acquire the high-quality and strain-relaxation GaN epilayer with large thickness on SiC substrates. 展开更多
关键词 ALGAN In High-Quality and Strain-Relaxation GaN Epilayer Grown on SiC Substrates Using ain Buffer and AlGaN Interlayer SiC ain
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气相反应法合成精细AIN粉末
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作者 程锦然 《电子元件与材料》 CAS CSCD 1990年第6期46-47,共2页
AlN陶瓷有很高的热导性和电阻率,可用作半导体器件的陶瓷基片。工业上合成AlN粉主要采用Al_2O_3热碳还原法。这是一种成批生产的方法,不利于连续生产。用气相反应法可制备出高纯度AlN粉,且适于连续生产。笔者研究了用AlCl_3和NH_3气进... AlN陶瓷有很高的热导性和电阻率,可用作半导体器件的陶瓷基片。工业上合成AlN粉主要采用Al_2O_3热碳还原法。这是一种成批生产的方法,不利于连续生产。用气相反应法可制备出高纯度AlN粉,且适于连续生产。笔者研究了用AlCl_3和NH_3气进行气相反应来合成AlN粉的方法。 展开更多
关键词 ain陶瓷 ain 合成 气相反应法
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