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AlN电子薄膜材料的研究进展
被引量:
12
1
作者
周继承
石之杰
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第5期14-16,24,共4页
AlN是一种在热、电、光和机械等方面具有良好综合性能的材料,作为电子薄膜材料在微电子、电子元件、高频宽带通信以及功率半导体器件等领域有广泛应用。简介了AlN薄膜的制备方法,评述了国内外各科研团体的最新研究成果和进展,阐述了AlN...
AlN是一种在热、电、光和机械等方面具有良好综合性能的材料,作为电子薄膜材料在微电子、电子元件、高频宽带通信以及功率半导体器件等领域有广泛应用。简介了AlN薄膜的制备方法,评述了国内外各科研团体的最新研究成果和进展,阐述了AlN薄膜的应用,并综述了近年来AlN薄膜作为缓冲层、SOI结构的绝缘埋层和吉赫兹级声表面波器件压电薄膜的研究现状。
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关键词
ain
电子薄膜材料
电子元器件
应用
进展
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职称材料
题名
AlN电子薄膜材料的研究进展
被引量:
12
1
作者
周继承
石之杰
机构
中南大学物理科学与技术学院
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第5期14-16,24,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(60371046)
文摘
AlN是一种在热、电、光和机械等方面具有良好综合性能的材料,作为电子薄膜材料在微电子、电子元件、高频宽带通信以及功率半导体器件等领域有广泛应用。简介了AlN薄膜的制备方法,评述了国内外各科研团体的最新研究成果和进展,阐述了AlN薄膜的应用,并综述了近年来AlN薄膜作为缓冲层、SOI结构的绝缘埋层和吉赫兹级声表面波器件压电薄膜的研究现状。
关键词
ain
电子薄膜材料
电子元器件
应用
进展
Keywords
ain electronic thin films
,
electrical element and device
,
application
,
development
分类号
TB43 [一般工业技术]
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作者
出处
发文年
被引量
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1
AlN电子薄膜材料的研究进展
周继承
石之杰
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
12
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