制备工艺对超薄NiFe薄膜AMR效应的影响

NiFe薄膜广泛用于制作磁阻器件。本文系统研究了Ta缓冲层厚度、NiFe薄膜厚度、退火温度和退火时间对厚度小于20nm的超薄NiFe薄膜AMR效应的影响。研究结果表明:随着Ta缓冲层厚度、NiFe薄膜厚度以及退火温度的增加,AMR系数呈现先升高后降低的变化规律。最佳的超薄NiFe薄膜AMR效应的工艺条件为,Ta缓冲层为5nm,NiFe薄膜为11nm,退火温度为350℃,退火时间为3.5h。本文工作可以支持超薄NiFe薄膜磁阻器件的开发。

AMR磁栅尺磁头输出波形的半次谐波现象与分析

对采集到的AMR磁栅尺磁头输出波形进行了付里叶谐波分析,发现了波形中的半次谐波现象.对该现象产生的原因以及半次谐波幅度与磁头水平偏角的关系进行了定性分析.磁头水平偏角为零时输出波形不含半次谐波,磁头水平偏角越大,半次谐波幅度就越高;在偏角小于3°的小角度范围内,两者之间基本上是一个线性关系;磁头水平偏角的正负变化会引起半次谐波项正负的变化.结果对正确使用AMR薄膜磁电阻磁头,提高磁栅尺测量系统的精度有指导意义.

一种具有消谐波正弦输出的AMR薄膜磁头设计

设计了一种消谐波正弦输出的AMR磁头,这种磁头是由AMR金属薄膜材料经过微加工工艺制成。通过对磁头输出波形的谐波分析和测试,表明该磁头具有优良的正弦输出特性、磁场灵敏度和信噪比,可以广泛应用于高精度磁栅位移检测和磁旋转编码器角度测量系统中。

微弱磁场测量的各向异性磁电阻传感器

该文介绍了一种利用半导体标准工艺制作的Ni Fe薄膜AMR传感器,并着重对电阻变化率关于0磁场对称特性进行了研究。论文详细介绍了利用两次磁控溅射获得传感器的四层结构,并对其进行了在变化磁场下电阻变化率的测量,通过对比未加入barber电极的对照组,由测试结果得出采用了barber电极的传感器成功改善了传感器在微弱磁场下的线性度,使其在-15-15Oe大小的磁场下的R2值为0.9976,使器件具有与集成电路芯片集成的性能。