AMS用多靶位强流溅射负离子源的研制

一台用于超灵敏质谱(AMS)的带有多靶机构的强流溅射负离子源已经研制完成。为了满足AMS的特殊要求,源的设计着重解决提高流强、降低记忆效应及改善发射度等方面的问题,并且十分注意确保其性能的可靠性与稳定性。样机在试验台架上进行了一年多的调试并进一步作了改进。迄今已引出了10μA BeO^-、5μA Al^-、4.5μA Fe^-、350μA C^-以及其他十余个离子品种。100μA以下测得的归一化发射度约为2-4π mm·mrad·MeV^(1/2)。对记忆效应与电离效率也进行了初步测定。

超灵敏小型回旋加速器质谱计的Cs溅射负离子源的研制和性能

一台用于超灵敏质谱（AMS）的带有多靶机构的强流溅射负离子源己经研制完成,为了满足AMS的特殊要求,源的设计着重解决提高流强、降低记忆效应及改善发射度等方面的问题,并且十分注意性能的可靠性与稳定性。样机在试验台架上进行了一年多的调试并进一步作了改进,迄今已引出了10μA Be0、5μA Al、4.5μA Fe、350μA C-以及其他十余个离子品种,100μA以下测得的归一化发射度为（2-4）πmm.mrad.MeV1/2,对记忆效应与电离效率也进行了初步测定。