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关键图形在IC版图设计中的应用研究
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作者 石林初 《微电子技术》 1997年第2期53-58,共6页
本文在CD7358GS关键图形设计实践的基础上,总结了旨在监测元器件特性和监控工艺能力的关键图形的设计方法,从而为分析工艺缺陷、设计容限、工艺稳定性等找到了切实有效的方法,并为进而提高成品率提供了有力的手段,这些方法可以推广... 本文在CD7358GS关键图形设计实践的基础上,总结了旨在监测元器件特性和监控工艺能力的关键图形的设计方法,从而为分析工艺缺陷、设计容限、工艺稳定性等找到了切实有效的方法,并为进而提高成品率提供了有力的手段,这些方法可以推广到NSA工艺其他品种IC的版图设计中去。 展开更多
关键词 IC 版图设计 双极型 ansa工艺
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