AP-CVD法制备的二氧化钛薄膜结构及亲水性研究

基于实现在线镀膜的目的,研究了以TiCl4为钛源,用AP-CVD法在玻璃基板上制备TiO2薄膜的工艺.利用扫描电子显微(SEM)技术和X射线衍射(XRD)技术,研究了不同基板反应温度下薄膜的表面形貌和晶体结构,分析了表面形貌和结构对亲水性的影响.结果表明通过改变反应温度可以控制锐钛矿和金红石的相对量,薄膜的亲水性和表面形貌、粗糙度有密切的关系.

CVD两步法生长ZnO薄膜及其光致发光特性

用CVD两步法在常压下于p型Si（100）衬底上沉积出具有较好择优取向的多晶ZnO薄膜。在325nm波长的光激发下，室温下可观察到显著的紫外光发射（峰值波长381nm）。高温退火后氧空位缺陷浓度增加，出现了一个450—600nm的绿光发光带，发光峰值在510nm。作为比较，用一步法生长的ZnO薄膜结晶质量稍差。在其PL谱中不仅有峰值波长389nm的紫外发射而且还出现了一个很强的蓝光发光中心（峰值波长437nm），退火后同样产生绿光发光带。对这两种绿光发光带的发光机制进行了研究，认为前者源于VO，而后者与OZn有密切的关系。