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NO在Ru(100)和Cs/Ru(100)表面上吸附的ARUPS研究
1
作者
李海洋
鲍世宁
+6 位作者
张训生
范朝阳
张建华
冯小松
魏赛珍
毛祖遂
徐亚伯
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
1997年第5期293-298,共6页
150K的低温下,NO在清洁的Ru表面的吸附,HeⅡ-ARUPS显示在Ef以下9.3eV(5σ+1π)和14.6eV(4σ)处有两个峰,表明NO在Ru表面上是分子吸附。NO-4σ峰强度随HeⅡ光入射角的变化说明NO分子是倾斜地吸附在Ru表面上,其倾斜趋向于原...
150K的低温下,NO在清洁的Ru表面的吸附,HeⅡ-ARUPS显示在Ef以下9.3eV(5σ+1π)和14.6eV(4σ)处有两个峰,表明NO在Ru表面上是分子吸附。NO-4σ峰强度随HeⅡ光入射角的变化说明NO分子是倾斜地吸附在Ru表面上,其倾斜趋向于原于间距较大的〈0001〉力位。对于NO在Cs/Ru表面的吸附,ARUPS测得在Ef以下6.2,9.2,11.1,12.4和14.9eV处有五个峰,与N2O气侧的UPS谱比较,认定它们是N2O,NO共存的结果,表明NO在CS/Ru表面上分解后可形成N2O分子的吸附。
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关键词
氧化氮吸附
表面吸附
aurps
倾斜吸附
下载PDF
职称材料
题名
NO在Ru(100)和Cs/Ru(100)表面上吸附的ARUPS研究
1
作者
李海洋
鲍世宁
张训生
范朝阳
张建华
冯小松
魏赛珍
毛祖遂
徐亚伯
机构
浙江大学物理系
出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
1997年第5期293-298,共6页
基金
国家自然科学基金
文摘
150K的低温下,NO在清洁的Ru表面的吸附,HeⅡ-ARUPS显示在Ef以下9.3eV(5σ+1π)和14.6eV(4σ)处有两个峰,表明NO在Ru表面上是分子吸附。NO-4σ峰强度随HeⅡ光入射角的变化说明NO分子是倾斜地吸附在Ru表面上,其倾斜趋向于原于间距较大的〈0001〉力位。对于NO在Cs/Ru表面的吸附,ARUPS测得在Ef以下6.2,9.2,11.1,12.4和14.9eV处有五个峰,与N2O气侧的UPS谱比较,认定它们是N2O,NO共存的结果,表明NO在CS/Ru表面上分解后可形成N2O分子的吸附。
关键词
氧化氮吸附
表面吸附
aurps
倾斜吸附
Keywords
Nitric oxide adsorption,Surface adsorption,Angle resolve ultraviolet photoelectron spectra, Tilt adsoption
分类号
O647.3 [理学—物理化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
NO在Ru(100)和Cs/Ru(100)表面上吸附的ARUPS研究
李海洋
鲍世宁
张训生
范朝阳
张建华
冯小松
魏赛珍
毛祖遂
徐亚伯
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
1997
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