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调制周期数对Mo/AZO成分调制多层膜透光、反光特性以及电性能的影响
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作者 张邵奇 吴隽 +3 位作者 王凯丰 宋坤峰 卢志红 祝柏林 《武汉科技大学学报》 CAS 北大核心 2024年第2期107-113,共7页
采用射频(RF)和单极中频脉冲直流(UMFPDC)磁控溅射技术,在300℃下制备了Mo/AZO成分调制多层膜。测试结果表明,Mo/AZO成分调制多层膜以(002)为取向的六方纤锌矿型ZnO结构为主;薄膜中Mo的化学态随薄膜厚度而变化,当薄膜厚度为1.67 nm时,M... 采用射频(RF)和单极中频脉冲直流(UMFPDC)磁控溅射技术,在300℃下制备了Mo/AZO成分调制多层膜。测试结果表明,Mo/AZO成分调制多层膜以(002)为取向的六方纤锌矿型ZnO结构为主;薄膜中Mo的化学态随薄膜厚度而变化,当薄膜厚度为1.67 nm时,Mo除单质态外,还存在部分+4和+5的离子价态,当薄膜厚度降至0.83 nm时,已无单质态Mo;调制周期数对成分调制多层膜的透光、反光特性以及电性能影响显著,当调制周期数为3时,Mo/AZO成分调制多层膜的综合性能达到最佳,电阻率、霍尔迁移率和载流子浓度分别为8.64×10^(-4)Ω·cm、8.78 cm^2)/(V·s)和8.23×10^(20)cm^(-3)。在保持金属层、半导体层总厚度不变的情况下,通过改变调制周期数可以增加薄膜的光学透过率并可在较宽范围内调节多层膜的综合性能,这为制备综合性能优异的金属/半导体型透光导电薄膜提供了一条切实可行的途径。 展开更多
关键词 磁控溅射 Mo/azo多层膜 调制周期 光性能 电性能
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Progress and prospects of Mg-based amorphous alloys in azo dye wastewater treatment
2
作者 Yanan Chen Fengchun Chen +5 位作者 Liang Li Chen Su Bo Song Hongju Zhang Shengfeng Guo Fusheng Pan 《Journal of Magnesium and Alloys》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第3期873-889,共17页
Mg-based amorphous alloys exhibit efficient catalytic performance and excellent biocompatibility with a promising application probability,specifically in the field of azo dye wastewater degradation.However,the problem... Mg-based amorphous alloys exhibit efficient catalytic performance and excellent biocompatibility with a promising application probability,specifically in the field of azo dye wastewater degradation.However,the problems like difficulty in preparation and poor cycling stability need to be solved.At present,Mg-based amorphous alloys applied in wastewater degradation are available in powder and ribbon.The amorphous alloy powder fabricated by ball milling has a high specific surface area,and its reactivity is thousands of times better than that of gas atomized alloy powder.But the development is limited due to the high energy consumption,difficult and costly process of powder recycling.The single roller melt-spinning method is a new manufacturing process of amorphous alloy ribbon.Compared to amorphous powder,the specific surface area of amorphous ribbon is relatively lower,therefore,it is necessary to carry out surface modification to enhance it.Dealloying is a way that can form a pore structure on the surface of the amorphous alloys,increasing the specific surface area and providing more reactive sites,which all contribute to the catalytic performance.Exploring the optimal conditions for Mg-based amorphous alloys in wastewater degradation by adjusting amorphous alloy composition,choosing suitable method to preparation and surface modification,reducing cost,expanding the pH range will advance the steps to put Mg-based amorphous alloys in industrial environments into practice. 展开更多
关键词 Mg-based amorphous alloys azo dyes DEALLOYING Surface modification Wastewater degradation.
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Bioremediation of Textile Azo Dyes Amido Black 10B, Reactive Black 5, Reactive Blue 160 by Lentinus squarrosulus AF5 and Assessment of Toxicity of the Degraded Metabolites
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作者 Anshu Mathur Chandrachur Ghosh +2 位作者 Partha Roy Ramasare Prasad Rajesh Pratap Singh 《Advances in Microbiology》 CAS 2024年第2期137-161,共25页
Bioremediation is an eco-compatible and economical approach to counter textile dye menace. The isolated Lentinus squarrosulus AF5 was assessed for decolourization of textile azo dyes, and had shown ~93%, 88% and 70% d... Bioremediation is an eco-compatible and economical approach to counter textile dye menace. The isolated Lentinus squarrosulus AF5 was assessed for decolourization of textile azo dyes, and had shown ~93%, 88% and 70% decolorization of Reactive blue 160 (RB160), Reactive black 5 (RB5) and Amido black 10B (AB10B) respectively. Further analysis using UV-vis, HPLC, and FTIR, <sup>1</sup>H NMR had shown the degradation of the dyes. Toxicity analysis of the metabolites was performed using seed germination and plant growth on two agriculturally important plants Guar (Cyamopsis tetragonoloba) and wheat (Triticum aestivum) as well as cytotoxicity analysis using the human keratinocyte cell line (HaCaT). The dye mix appeared inhibitory for seed germination (20% - 40%), whereas metabolites were non-inhibitory for germination. Treatment of HaCaT cells with of dye mix and metabolites led into 45% and ~100% of cell viability of HaCaT cells respectively. Therefore, metabolites following degradation of the dye mix were observed to be non-toxic. 展开更多
关键词 Lentinus squarrosulus AF5 azo Dyes FTIR 1H NMR CATABOLISM CYTOTOXICITY
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基于AZO的光谱选择性反射膜制备及其在聚光器中的应用研究
4
作者 王成龙 周渊 +1 位作者 王锐东 马军 《真空与低温》 2023年第1期20-27,共8页
铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜在红外波段具有高反射率的特性。设计了SiO_(2)/AZO/Al_(2)O_(3)/Glass/SiO_(2)光谱选择性反射膜。通过软件仿真和实验研究,探究了SiO_(2)、AZO、Al_(2)O_(3)薄膜的光学常数以及物理厚度对SiO_(2)/AZO/Al_(2)O_(3)... 铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜在红外波段具有高反射率的特性。设计了SiO_(2)/AZO/Al_(2)O_(3)/Glass/SiO_(2)光谱选择性反射膜。通过软件仿真和实验研究,探究了SiO_(2)、AZO、Al_(2)O_(3)薄膜的光学常数以及物理厚度对SiO_(2)/AZO/Al_(2)O_(3)/Glass/SiO_(2)薄膜光谱特性的影响,确定了光谱选择性反射薄膜的制备工艺参数。根据工艺制得了对可见光平均透射率接近90%、红外(2.5~20μm)平均反射率大于85%的光谱选择性反射膜,薄膜的辐射率为0.08~0.12。以表面镀有光谱选择性反射膜的玻璃作为线性菲涅尔式聚光系统中的二次聚光器窗口,设计了新型二次聚光器。光谱选择性反射玻璃有效阻挡了集热管的热辐射,使聚光器辐射热损失降低约66%。 展开更多
关键词 太阳能 光谱选择性反射膜 azo薄膜 辐射热损失 二次聚光器
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柔性AZO/Cu/AZO/CTO薄膜的太阳阻隔及红外隐身性能的研究
5
作者 程露路 孙可为 +3 位作者 尹洪峰 袁蝴蝶 杨春利 魏英 《功能材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第10期10149-10154,共6页
采用磁控溅射的方法在PET衬底上制备了AZO/Cu/AZO/CTO薄膜,系统研究了CTO(CeO_(2)-TiO_(2))层厚度对AZO/Cu/AZO/CTO薄膜的微观结构、光学性能、红外发射率和导电性的影响。结果表明,随着CTO层厚度的增加,多层膜的带隙变窄,紫外阻隔率和... 采用磁控溅射的方法在PET衬底上制备了AZO/Cu/AZO/CTO薄膜,系统研究了CTO(CeO_(2)-TiO_(2))层厚度对AZO/Cu/AZO/CTO薄膜的微观结构、光学性能、红外发射率和导电性的影响。结果表明,随着CTO层厚度的增加,多层膜的带隙变窄,紫外阻隔率和近红外阻隔率提高,可见光透过率降低。同时,CTO层有利于降低多层膜的表面电阻和红外发射率。当CTO层厚度为34.2 nm时,多层膜的紫外阻隔率为92.0%,近红外阻隔率为46.5%,可见光透过率为62.5%,8~14μm红外发射率为0.163,因此AZO/Cu/AZO/CTO薄膜具有光谱选择性和低的红外发射率,是一种有潜力的太阳阻隔膜和红外隐身材料。 展开更多
关键词 azo/Cu/azo 磁控溅射 太阳阻隔膜 红外隐身 红外发射率
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柔性AZO/NiCr/Ag/NiCr/AZO透明导电玻璃结构对性能的影响
6
作者 姚婷婷 王天齐 +3 位作者 王伟 汪冰洁 李刚 甘治平 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第12期449-455,共7页
目的室温制备柔性透明导电玻璃并提高其光电性能。方法采用直流磁控溅射法,以柔性玻璃为基底,在室温下沉积(Aluminum-doped ZnO,AZO)/NiCr/Ag/NiCr/AZO多层结构透明导电玻璃。通过探针轮廓仪测试、X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD)... 目的室温制备柔性透明导电玻璃并提高其光电性能。方法采用直流磁控溅射法,以柔性玻璃为基底,在室温下沉积(Aluminum-doped ZnO,AZO)/NiCr/Ag/NiCr/AZO多层结构透明导电玻璃。通过探针轮廓仪测试、X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD)测试、拉曼光谱仪测试、分光光度计测量、四探针测试和霍尔效应测试,分别获得了样品的各层薄膜厚度、X射线衍射图谱、拉曼光谱、透光率、方块电阻和电学性能。经过参数优化,选取Ag膜厚度为3~15 nm的样品,研究Ag膜厚度对玻璃样品的结构特征及光电性能的影响。结果样品光电性能与Ag层厚度密切相关,随着中间Ag层厚度的增加,样品在380~760 nm波长范围内的平均光透光率先增加后降低,吸收边依次发生了红移,样品的方块电阻则随着Ag层厚度的增加单调减小。Ag膜厚度为12 nm的样品综合光电性能最佳,其平均透光率为82.4%,载流子浓度为8.32×10^(21) cm^(‒3),载流子迁移率为8.21 cm^(2)/(V·s),电阻率为9.15×10^(‒5)Ω·cm,方块电阻为8.8Ω/sq,品质因子可达16.4×10^(–3)Ω^(–1)。结论说明可以通过透明导电薄膜结合金属薄膜在室温下获得柔性透明导电玻璃,并具有较好的透光性能和导电性。 展开更多
关键词 柔性 透明导电玻璃 azo/NiCr/Ag/NiCr/azo Ag厚度 透光率 品质因子
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掺铝氧化锌(AZO)透明导电薄膜的研究进展
7
作者 孔德茹 安佳钰 +1 位作者 刘靖 孙冬兰 《功能材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第9期9059-9069,共11页
新型掺铝氧化锌(AZO)透明导电薄膜光学性能优异,成本低廉,有望取代技术成熟的掺锡氧化铟(ITO)薄膜。主要简述了AZO薄膜的结构及其光电性能,重点综述了薄膜的制备工艺以及应用领域,对极具开发潜力的AZO薄膜的产业化前景进行了展望。
关键词 azo薄膜 特性 制备工艺 应用 产业化前景
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有机玻璃基底AZO/Ag/AZO复合薄膜的制备与性能
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作者 徐清源 张运生 +3 位作者 陈琛 冯海兵 黄鹏 祖成奎 《航空材料学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第1期87-97,共11页
采用低温磁控溅射技术在有机玻璃(聚甲基丙烯酸甲酯PMMA)表面制备铝掺杂氧化锌(AZO)叠层AZO/Ag/AZO透明导电薄膜,研究AZO溅射功率对AZO/Ag/AZO薄膜结构和性能的影响,探讨PMMA层合结构的耐湿热性和加温性能。通过扫描电子显微镜(SEM)、... 采用低温磁控溅射技术在有机玻璃(聚甲基丙烯酸甲酯PMMA)表面制备铝掺杂氧化锌(AZO)叠层AZO/Ag/AZO透明导电薄膜,研究AZO溅射功率对AZO/Ag/AZO薄膜结构和性能的影响,探讨PMMA层合结构的耐湿热性和加温性能。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)表征薄膜的形貌和结构。结果表明:AZO的溅射功率影响了AZO层表面能以及薄膜的结晶度,在100 W和150 W溅射功率下制备出的AZO/Ag/AZO薄膜室温下具有3.7Ω/sq的低薄膜电阻和86.1%的高透光率,采用PMMA和聚氨酯胶片对薄膜进行层合封装,湿热30天后仍保持光学、电学性能稳定。PMMA层合结构在加温过程中的时间-温度曲线表明在5 V直流电压下层合玻璃具有较快的温度响应时间和良好的温度均匀性。-10~-40℃空气对流中PMMA层合结构表现出良好的温度稳定性。 展开更多
关键词 PMMA azo/Ag/azo 层合 耐湿热性 电加温
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Ag层厚度对AZO/Ag/AZO薄膜性能影响的研究
9
作者 张健峰 《中国设备工程》 2023年第17期132-134,共3页
透明导电薄膜广泛应用于太阳能电池、触控面板、液晶显示等领域。本文采用磁控溅射法制备AZO/Ag/AZO透明导电薄膜,研究Ag层厚度对AZO/Ag/AZO透明导电薄膜光电性能的影响。结果表明,AZO薄膜是具有六方晶系ZnO纤锌矿结构的多晶相。当Ag层... 透明导电薄膜广泛应用于太阳能电池、触控面板、液晶显示等领域。本文采用磁控溅射法制备AZO/Ag/AZO透明导电薄膜,研究Ag层厚度对AZO/Ag/AZO透明导电薄膜光电性能的影响。结果表明,AZO薄膜是具有六方晶系ZnO纤锌矿结构的多晶相。当Ag层厚度增加时,AZO/Ag/AZO薄膜的(002)衍射峰略向较高的角度移动且半高宽略微增大,晶粒尺寸和晶面间距减小。AZO/Ag/AZO薄膜的电阻率,方块电阻,光学透射率与Ag层的厚度密切相关。随着Ag层厚度的增加,电阻率减小,透射率减小。品质因数表明,其中Ag层厚为5nm的AZO/Ag/AZO三层薄膜具有较好的光电性能。 展开更多
关键词 透明导电薄膜 azo/Ag/azo 磁控溅射法 Ag层厚度
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AZO/Ag/AZO透明导电薄膜的制备及其物性分析
10
作者 杨波 《科技创新与应用》 2019年第8期96-97,共2页
文章在溶胶燃烧法制备的AZO薄膜的基础上,将银层导入其中,制备出AZO/Ag/AZO三层结构透明导电薄膜。并对得到的透明导电薄膜进行分析研究。最终成功降低了溶胶燃烧法制备的薄膜的电阻率。
关键词 azo/Ag/azo 溶胶燃烧 azo 真空蒸镀
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AZO透明导电薄膜光电性能的研究进展 被引量:1
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作者 张程 代明江 +1 位作者 石倩 代建清 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI CAS 2016年第1期228-234,共7页
掺铝氧化锌(AZO)薄膜其原料来源广、经济无毒,且具有优越的光电性能,可以与传统铟锡氧化物(ITO)薄膜相媲美,是优良的透明导电材料。目前,关于各制备工艺参数对AZO薄膜的影响规律及其影响机理仍是研究热点。综述了透明导电AZO薄膜光学与... 掺铝氧化锌(AZO)薄膜其原料来源广、经济无毒,且具有优越的光电性能,可以与传统铟锡氧化物(ITO)薄膜相媲美,是优良的透明导电材料。目前,关于各制备工艺参数对AZO薄膜的影响规律及其影响机理仍是研究热点。综述了透明导电AZO薄膜光学与电学性能的研究进展,讨论了各制备工艺条件对薄膜性能的影响,分析了AZO/metal/AZO多层膜的研究现状,并对AZO薄膜的研究方向给予了展望。 展开更多
关键词 azo薄膜 磁控溅射 光电性能 azo/metal/azo多层膜
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AZO薄膜制备工艺及其性能研究 被引量:21
12
作者 黄稳 余洲 +4 位作者 张勇 刘连 黄涛 闫勇 赵勇 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期35-39,共5页
综述了掺铝氧化锌(AZO)薄膜制备方法与光电特性,重点阐述了磁控溅射法制备工艺参数如衬底温度、溅射功率、气体压强、溅射时间、衬底和靶间距、负偏压等对AZO薄膜结构、光电性能的影响,并指出目前AZO薄膜的研究关键以及所面临的挑战,展... 综述了掺铝氧化锌(AZO)薄膜制备方法与光电特性,重点阐述了磁控溅射法制备工艺参数如衬底温度、溅射功率、气体压强、溅射时间、衬底和靶间距、负偏压等对AZO薄膜结构、光电性能的影响,并指出目前AZO薄膜的研究关键以及所面临的挑战,展望了未来的研究方向。 展开更多
关键词 azo 结构特性 光电特性
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磁控溅射法制备AZO薄膜的工艺研究 被引量:15
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作者 张丽伟 卢景霄 +5 位作者 段启亮 王海燕 李瑞 靳锐敏 王红娟 张宇翔 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2005年第8期46-48,共3页
用XRD测试仪、分光光度计、四探针等测试仪器,探讨了制备气氛、退火温度和退火环境对AZO薄膜光电性能及结构的影响。结果表明:氧气和氩气的体积流量比为2∶1时,薄膜透光率最高(95.33%);退火有利于薄膜结晶;低于400℃退火时,温度越高薄... 用XRD测试仪、分光光度计、四探针等测试仪器,探讨了制备气氛、退火温度和退火环境对AZO薄膜光电性能及结构的影响。结果表明:氧气和氩气的体积流量比为2∶1时,薄膜透光率最高(95.33%);退火有利于薄膜结晶;低于400℃退火时,温度越高薄膜电阻越小,超过400℃后,真空中退火温度再升高电阻变化不大,而空气中退火温度再升高电阻反而变大。 展开更多
关键词 无机非金属材料 azo薄膜 磁控溅射法 制备气氛 退火温度
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磁控溅射制备AZO/Ag/AZO透明导电膜的性能研究 被引量:8
14
作者 贾芳 乔学亮 +2 位作者 陈建国 李世涛 王国锋 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期38-41,共4页
选择ZnO2与Al2O3质量比为97:3的靶材为溅射源,用射频磁控溅射法室温下在玻璃基底上沉积AZO/Ag/AZO薄膜,讨论了氧流量变化对薄膜透光率、方阻及表面形貌的影响并深入分析了机理。研究结果表明,氧流量变化会导致薄膜沉积厚度的变化,氧流量... 选择ZnO2与Al2O3质量比为97:3的靶材为溅射源,用射频磁控溅射法室温下在玻璃基底上沉积AZO/Ag/AZO薄膜,讨论了氧流量变化对薄膜透光率、方阻及表面形貌的影响并深入分析了机理。研究结果表明,氧流量变化会导致薄膜沉积厚度的变化,氧流量为4时薄膜沉积速率最快。沉积AZO时充入氧气会使整个膜系的透光率不随Ag层增厚明显降低,并且会使膜系的方阻降低。在最优氧流量为4L/min(标准状态下,下同)上下各沉积59nm的AZO与氧流量为0时沉积33nm银层相匹配的复合膜在可见光区(包括基底)的透光率达到90%,方阻为2.5Ω/ □。 展开更多
关键词 磁控溅射 azo/Ag/azo 透光导电膜 透射率
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射频溅射功率对AZO薄膜结构及光电特性和热稳定性的影响 被引量:8
15
作者 马晓翠 叶家聪 +4 位作者 曹培江 柳文军 贾芳 朱德亮 吕有明 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期235-238,共4页
采用射频磁控溅射法,在玻璃基片上制备了ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜。用X射线衍射(XRD)仪、紫外-可见分光光度计、方块电阻测试仪和台阶仪对不同溅射功率下Al掺杂ZnO薄膜的结晶、光学、电学性能、沉积速率以及热稳定性进行了研究。研究结... 采用射频磁控溅射法,在玻璃基片上制备了ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜。用X射线衍射(XRD)仪、紫外-可见分光光度计、方块电阻测试仪和台阶仪对不同溅射功率下Al掺杂ZnO薄膜的结晶、光学、电学性能、沉积速率以及热稳定性进行了研究。研究结果表明:不同溅射功率下沉积的AZO薄膜具有六角纤锌矿结构,均呈c轴择优取向;(002)衍射峰强和薄膜的结晶度随溅射功率的提高逐渐增强;随溅射功率的提高,AZO薄膜的透射率有所下降,但在可见光(380~780nm)范围内平均透射率仍>80%;薄膜的方块电阻随溅射功率的增加逐渐减小;功率为160~200W时,薄膜的热稳定性最好,升温前后方块电阻变化率为13%。 展开更多
关键词 磁控溅射 azo薄膜 射频功率 热稳定性
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AZO溅射靶材的热压制备(英文) 被引量:6
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作者 王星明 白雪 +4 位作者 段华英 石志霞 孙静 卢世刚 黄松涛 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第7期1550-1556,共7页
按质量比92:2将ZnO和Al2O3粉末采用热压方法制备AZO溅射靶材。研究温度、压力、保温和保压时间等热压工艺条件对靶材相对密度的影响,研究致密化过程中的气孔演化和相结构变化。结果表明:采用分段热压方式,即在压力35MPa下,在温度1050℃... 按质量比92:2将ZnO和Al2O3粉末采用热压方法制备AZO溅射靶材。研究温度、压力、保温和保压时间等热压工艺条件对靶材相对密度的影响,研究致密化过程中的气孔演化和相结构变化。结果表明:采用分段热压方式,即在压力35MPa下,在温度1050℃和1150℃分别保温保压1h,所制备的AZO靶材具有最大的相对密度99%。在温度为1050℃时,靶材中的闭合气孔率最低;当热压温度低于900℃时,靶材中存在Al2O3相;当温度升高到1000℃以后,Al2O3相消失,但有ZnAl2O4相生成,且ZnAl2O4相随着温度的升高而增加。与无压烧结比较,热压烧结具有烧结温度低、ZnAl2O4相含量低的优点。靶材电阻率随着热压温度的升高和保温、保压时间的延长而降低。在热压温度1100℃、压力35MPa、保温和保压时间10h下制备了电阻率低达3×10-3-Ω·cm的AZO靶材。 展开更多
关键词 azo 溅射靶材 热压 气孔 相结构
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AZO透明导电薄膜的特性、制备与应用 被引量:38
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作者 范志新 陈玖琳 孙以材 《真空》 CAS 北大核心 2000年第5期10-13,共4页
本文综述了 AZO透明导电薄膜的结构特点 ,电学和光学的特性 ,薄膜研究、应用和开发现状 。
关键词 特性 制备 应用 azo 掺铝氧化锌 透明导电薄膜
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溅射功率对AZO透明导电薄膜的影响 被引量:5
18
作者 史永胜 陈阳阳 +2 位作者 宁青菊 秦双亮 宁磊 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期42-44,共3页
采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积了AZO透明导电薄膜,并用原子力显微镜观测了薄膜表面形貌,XRD测试了薄膜相结构和单色仪测试了薄膜透射率。结果表明,制备的薄膜具有高度c轴择优取向性,其表面平整,晶粒均匀致密。当溅射功率为180W、... 采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积了AZO透明导电薄膜,并用原子力显微镜观测了薄膜表面形貌,XRD测试了薄膜相结构和单色仪测试了薄膜透射率。结果表明,制备的薄膜具有高度c轴择优取向性,其表面平整,晶粒均匀致密。当溅射功率为180W、溅射气体流量为15sccm、基片温度为200℃时制得的薄膜方阻为10Ω/□,在可见光区平均透射率大于85%。 展开更多
关键词 azo 射频磁控溅射 溅射功率 方阻 透射率
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Al浓度对AZO薄膜结构和光电性能的影响 被引量:6
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作者 李金丽 邓宏 +2 位作者 刘财坤 袁庆亮 韦敏 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期91-92,96,共3页
采用射频溅射方法在Si基片上制备出AZO掺杂薄膜,对薄膜进行了XRD和AFM分析,并对其电性能作了研究。结果表明,掺杂量低于15%(原子分数)时,AZO薄膜结构为纤锌矿结构,呈c轴方向择优生长,没有Al2O3相出现。薄膜的可见光透过率均在80%以上,... 采用射频溅射方法在Si基片上制备出AZO掺杂薄膜,对薄膜进行了XRD和AFM分析,并对其电性能作了研究。结果表明,掺杂量低于15%(原子分数)时,AZO薄膜结构为纤锌矿结构,呈c轴方向择优生长,没有Al2O3相出现。薄膜的可见光透过率均在80%以上,其最高电阻率出现在掺杂量为30%(原子分数),为1.3×107Ω.cm。 展开更多
关键词 azo薄膜 X射线衍射 AFM 电阻率
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氧化锌铝陶瓷(AZO)靶材的制备及其电阻性能的测定 被引量:5
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作者 王志勇 彭超群 +2 位作者 王日初 王小锋 刘兵 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期3341-3347,共7页
采用二步烧结技术制备AZO陶瓷靶材,并采用XRD、SEM和EDS对AZO陶瓷靶材进行表征,研究AZO靶材的电阻性能。结果表明:当Al的掺杂量w(Al2O3)为0.5%时,AZO靶材出现第二相ZnAl2O4;随Al掺杂浓度增加,ZnAl2O4的衍射峰强度逐渐增强,ZnO晶粒尺寸... 采用二步烧结技术制备AZO陶瓷靶材,并采用XRD、SEM和EDS对AZO陶瓷靶材进行表征,研究AZO靶材的电阻性能。结果表明:当Al的掺杂量w(Al2O3)为0.5%时,AZO靶材出现第二相ZnAl2O4;随Al掺杂浓度增加,ZnAl2O4的衍射峰强度逐渐增强,ZnO晶粒尺寸逐渐减小;随着第二步烧结温度θnd的升高,AZO靶材的晶粒尺寸逐渐增大,相对密度也随之增加。靶材的电阻率随θnd增加而降低,且随掺杂浓度升高而增加;在第一步烧结温度θst=1 400℃,升温速率vst=10℃/min,第二步烧结温度θnd=1 350℃和t nd=16 h烧结条件下,AZO陶瓷靶材(w(Al2O3)=1.5%)的电阻率仅为2.9×10-2Ω·cm。 展开更多
关键词 azo靶材 二步烧结 保温温度 相对密度 电阻率
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